• ポートフォリオ機能


ポートフォリオを新規に作成して保存
既存のポートフォリオに追加保存

  • この表をプリントする
PDF PDFをダウンロード
審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない。 F26B
審判 査定不服 5項独立特許用件 特許、登録しない。 F26B
管理番号 1260023
審判番号 不服2010-17786  
総通号数 153 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2012-09-28 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2010-08-06 
確定日 2012-07-11 
事件の表示 特願2006-507005号「蒸気収集方法および装置」拒絶査定不服審判事件〔平成16年11月4日国際公開、WO2004/094930号、平成18年10月26日国内公表、特表2006-524309号〕について、次のとおり審決する。 
結論 本件審判の請求は、成り立たない。 
理由 第1 手続の経緯
本件に係る出願(以下「本願」という。)は、2004年3月8日(パリ条約による優先権主張外国庁受理2003年4月23日、米国)を国際出願日とする出願であって、平成22年3月29日付けで拒絶査定がなされ(発送日:同年4月6日)、これに対し、同年8月6日に拒絶査定不服の審判の請求がなされるとともに、その審判の請求と同時に手続補正がなされたものである。
なお、拒絶査定の発送日と同日に平成22年3月5日付け手続補正についての補正却下の決定がなされている。

第2 平成22年8月6日付け手続補正についての補正却下の決定
[補正却下の決定の結論]
平成22年8月6日付け手続補正(以下「本件補正」という。)を却下する。

[理由]
1 本件補正発明
本件補正は、特許請求の範囲の請求項1について、本件補正前の平成21年10月21日付け手続補正書に「不特定長さの移動する基材を処理するための装置であって、(a)前記基材の表面に密に近接し、前記基材との間に制御間隙を画定する、制御表面と、(b)前記制御表面の近くに位置するとともに気体導入デバイスを有する第1のチャンバと、(c)前記制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第2のチャンバとを含み、前記制御表面および前記第1および第2のチャンバが協働して、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定し、前記領域内の前記マスの少なくとも一部が移送されたときにM1+M1’+M2+M3=M4を満足し、ここで、M1は、圧力勾配から生じる、前記領域内へのまたは前記領域からの単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、M1’は、前記気体導入デバイスから前記第1のチャンバを通る前記領域内への、単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローを意味し、M2は、前記基材の少なくとも1つの主面からまたは前記基材の少なくとも1つの主面内への、前記領域内の、単位幅あたりの時間平均マスフローを意味し、M3は、前記材料の動きから生じる、前記領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、M4は、単位幅あたりの、前記気体取出しデバイスを通るマス移送の時間平均速度を意味し、所望の気相成分を、大幅に希釈することなく前記領域を通して移送し又は前記領域から収集する、装置。」とあったものを「不特定長さの移動する基材を処理するための装置であって、(a)前記基材の表面に密に近接し、前記基材との間に制御間隙を画定する、制御表面と、(b)前記制御表面の近くに位置するとともに気体導入デバイスを有する第1のチャンバと、(c)前記制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第2のチャンバとを含み、前記制御表面並びに前記第1および第2のチャンバが協働して、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定し、前記領域内の前記マスの少なくとも一部が移送されたときにM1+M1’+M2+M3=M4を満足し、ここで、M1は、圧力勾配から生じる、前記領域内へのまたは前記領域からの単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、M1’は、前記気体導入デバイスから前記第1のチャンバを通る前記領域内への、単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローを意味し、M2は、前記基材の少なくとも1つの主面からまたは前記基材の少なくとも1つの主面内への、前記領域内の、単位幅あたりの時間平均マスフローを意味し、M3は、前記材料の動きから生じる、前記領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、M4は、単位幅あたりの、前記気体取出しデバイスを通るマス移送の時間平均速度を意味し、所望の気相成分を、大幅に希釈することなく前記領域を通して移送し又は前記領域から収集する、装置。」(下線は当審にて付与。以下同様。)と補正することを含むものである。
上記補正について検討する。
本件補正後の特許請求の範囲の請求項1に記載された発明は、「制御表面および前記第1および第2のチャンバが協働し」とあったものを「制御表面並びに前記第1および第2のチャンバが協働し」と、その誤記を訂正するものであるので、本件補正は、平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法(以下「改正前特許法」という。)第17条の2第4項第3号に掲げる誤記の訂正を目的とするものに該当する。
そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項1に記載された発明(以下「本件補正発明」という。)が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか(改正前特許法第17条の2第5項において準用する同法第126条第5項の規定に適合するか)否かについて検討する。

2 刊行物に記載された発明
(1)原査定の拒絶理由において提示された、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である.国際公開第02/25193号パンフレット(以下「刊行物1」という。)には、図面と共に次の事項が記載されている。
ア 「 Background of the Invention
Conventional practices for the removal and recovery of components during drying of coated materials generally utilize drying units or ovens. Collection hoods or ports are utilized in both closed and open drying systems to collect the solvent vapors emitted from the substrate or material. Conventional open vapor collection systems generally utilize air handling systems that are incapable of selectively drawing only the desired gas phase components without drawing the ambient atmosphere. Closed vapor collection systems typically introduce an inert gas circulation system to assist in purging the enclosed volume. In either system, the introduction of ambient air or inert gas dilutes the concentration of the gas phase components. Thus the subsequent separation of vapors from the diluted vapor stream can be difficult and inefficient.
Additionally, the thermodynamics associated with the conventional vapor collection systems often permit the undesirable condensation of the vapor at or near the substrate or material. The condensate can then fall onto the substrate or material and adversely affect either the appearance or functional aspects of the material. In industrial settings, the ambient conditions surrounding the process and processing equipment may include extraneous matter. In large volume drying units, the extraneous matter may be drawn into the collection system by the large volumetric flows of the conventional drying systems.
It would be desirable to collect gas phase components without substantially diluting the gas phase components with ambient air or inert gases. Additionally, it would be an advantage to collect gas phase components at relatively low volumetric flows in an industrial setting in order to prevent the entrainment of extraneous matter.
Summary of the Invention
The present invention provides a method and apparatus for transporting and capturing gas phase components without substantial dilution. The method and apparatus utilize a chamber in close proximity to the surface of a substrate to enable collection of gas phase components near the surface of the substrate.(訳:発明の背景
コーティング材料を乾燥させている間に成分の除去と回収を行なう従来の実施法は一般に乾燥ユニットまたはオーブンを利用する。密閉型および開放型の両方の乾燥システムにおいて回収フードまたはポートを用いて、基板または材料から発散された溶媒蒸気が回収される。従来型の開放型蒸気回収システムは一般に、周辺空気を吸入することなく所望の気相成分だけを選択的に吸入する機能を備えていない空気操作システムを利用する。密閉型蒸気回収システムは通常、封入された体積を排出するのを助ける不活性気体循環システムを導入する。いずれのシステムでも、周辺空気または不活性気体の吸入は気相成分の濃度を希釈する。従って希釈された蒸気流から引き続き蒸気を分離することは困難かつ非効率的である。
さらに、従来の蒸気回収システムに付随する熱力学特性により、基板または材料の上または近傍で蒸気が不要に凝結してしまうことが多い。凝結液は次いで基板または材料上に落下して、材料の外観または機能特性のいずれかに悪影響を及ぼしかねない。生産現場では、処理や処理装置を取り巻く周辺環境が異物を含んでいる恐れがある。大容量乾燥ユニットにおいて、従来の乾燥システムは体積流量が大きいために異物が回収システムに吸入される恐れがある。
気相成分を周辺空気や不活性気体で実質的に希釈することなく気相成分を回収することが望まれる。さらに、生産現場で異物の混入を防ぐために比較的小さい体積流量で気相成分を回収することは利点があろう。
発明の要約
本発明は、実質的に希釈なしに気相成分の移送および捕捉を行なう方法および装置を提供する。本方法および装置は基板表面にきわめて接近させたチャンバを利用することにより、基板の表面近くにおける気相成分の回収が可能になる。)」(第1ページ第15行?第2ページ第11行。訳文は、国際公開パンフレットの日本国公表公報である特表2004-509315号公報の段落【0002】?【0005】。以下同様。)
イ 「The present method and apparatus is designed to substantially reduce the amount of dilution gas transported through the chamber. The use of a chamber in close proximity of the surface of the material and small negative pressure gradients enables the substantial reduction of dilution gas, namely Ml. The pressure gradient, Δp, is defined as the difference between the pressure at the chambers lower periphery, pc, and the pressure outside the chamber, po, wherein Δp=pc-po. The value of Ml is generally greater than zero but not greater than 0.25 kg/second/meter. Preferably, Ml is greater than zero but not greater than 0.1 kg/second/meter, and most preferably, greater than zero but not greater than 0.01 kg/second/meter.(訳:本方法および装置は、チャンバを通過して移送される希釈気体の量を大幅に減らすべく設計されている。材料表面に極めて近接するチャンバおよび微小な負の圧力勾配を利用することにより、希釈気体すなわちM1を大幅に減少させることが可能になる。圧力勾配Δpは、チャンバ下部の周囲における圧力pcと、チャンバ外部の圧力poとの相違と定義され、ここにΔp=pc-poである。M1の値は一般にゼロより大きいが0.25kg/秒/mを超えない。M1はゼロより大きいが0.1kg/秒/mを超えないことが好適であり、ゼロより大きいが0.01kg/秒/mを超えないことが最適である。」(第2ページ第31行?第3ページ第7行。訳文は同段落【0007】)
ウ 「The method and apparatus of the present invention are preferably suited for use in transporting and collecting solvents from a moving web. In operation, the chamber is placed above the continuously moving web to collect vapors at a high concentration. The low volumetric flows and high concentrations of the vapor improve the efficiency of the solvent recovery and substantially eliminate contamination problems associated with conventional component collection devices.
The method and apparatus of the present invention are preferably used in combination with conventional gap drying systems. Gap drying systems generally convey a material through a narrow gap between hot plate and a condensing plate for the evaporation and subsequent condensation of evaporative components in the material. The configuration of the present apparatus, in various locations of a gap drying system, enables further capture of gas phase components which generally can be present in the adjacent gas phase on the surface of the material either prior to entering, or exiting a gap drying unit.(訳:本発明の方法および装置は、移動しているウェブから溶媒を移送および回収するための利用に適している。チャンバは動作時には、連続的に移動しているウェブ上に置かれて高濃度で蒸気を回収する。蒸気の体積流量が小さく、高濃度であることは溶媒回収の効率を改善し、従来の成分回収装置につきものの汚染問題がほぼ払拭される。
本発明の方法および装置は、従来の間隙乾燥システムと合わせて用いるのが好適である。間隙乾燥システムは一般に、加熱プレートと凝結プレートの間の狭い間隙を通って材料を運んで蒸発させ、引き続き材料内の蒸発性成分を凝結させる。本装置の構成は、間隙乾燥システムの配置はさまざまだが、一般に材料表面に隣接気相内に存在可能な気相を、間隙乾燥ユニットへの流入または流出に先立って、さらに補捉できるようにする。)」(第4ページ第17?30行。訳文は同段落【0013】?【0014】)
エ 「 Detailed Description
The method and apparatus 10 of the present invention are generally described in FIG. 1. The method includes providing a material 12 having at least one major surface 14 with an adjacent gas phase (not shown). A chamber 16, having an exhaust port 18 is positioned in close proximity to define a gap between the lower periphery 19 of the chamber 16 and the surface 14 of the material 12. The gap has a height H, which is preferably 3 cm or less. The adjacent gas phase between the lower periphery 19 of the chamber 16 and the surfacel4 of the material 12 define a region possessing an amount of mass. The mass in the region is generally in a gas phase. However, those skilled in the art recognize that the region may also contain mass that is in either the liquid or solid phase, or combinations of all three phases.
At least a portion of the mass from the region is transported through the chamber 16 by induced flow. Flow may be induced by conventional mechanisms generally recognized by those skilled in the art. The flow of mass per unit width into and through the chamber are represented by Equation I:

Ml + M2 + M3 = M4 (Equation I)

FIG. 1 depicts the various flow streams encountered in practicing the method of the present invention. Ml is the total net time-average mass flow per unit width through the gap into the region and through the chamber resulting from pressure gradients. For purposes of the present invention, Ml essentially represents a dilution stream. M2 is the time-average mass flow per unit width from the at least one major surface of the material into said region and through the chamber. M3 is the total net time-average mass flow per unit width through the gap into the region and through the chamber resulting from motion of the material. M3 is generally recognized as mechanical drag and covers both the mass pulled in by the motion of the material under the chamber and the mass exiting from underneath the chamber as the material passes. In cases where the material is static under the chamber, M3 would be zero. In case where the gap H is uniform (i.e., the gap at the entrance and exit of the chamber are equal) M3 is zero. M3 is non zero when the entrance and exit gaps are non uniform (i.e., not equal). M4 is the time-average rate of mass transported per unit width through the chamber. It is understood that mass can be transported through the gap and into the region without being transported through the chamber. Such flows are not included in the total net flows included in Equation 1. For purposes of the invention the dimension defining the width is the length of the gap in the direction perpendicular to the motion of the material and in the plane of the material.
The present method and apparatus is designed to substantially reduce the amount dilution gas transported through the chamber. The use of a chamber in close proximity of the surface of the material and extremely small negative pressure gradients enables the substantial reduction of dilution gas, namely Ml. The pressure gradient, Δp, is defined as the difference between the pressure at the chambers lower periphery, pc, and the pressure outside the chamber, po, wherein △p=pc-po. The value of Ml is generally greater than zero but not greater than 0.25 kg/second/meter. Preferably, Ml is greater than zero but not greater than 0.1 kg/second/meter, and most preferably, greater than zero but not greater than 0.01 kg/second/meter.
In an alternative expression, the average velocity resulting from Ml may be utilized to express the flow of dilution gas phase components through the chamber. The use of a chamber in close proximity of the surface of the material, and small negative pressure gradients, enables the substantial reduction of the total net average gas phase velocity, , through the gap. The average gas phase velocity resulting from Ml is defined as; =Ml/ρA. Wherein Ml is defined above, ρis the gas stream density in kg/cubic meter and A is the cross sectional area available for flow into the region in square meters. Wherein, A=H(2w+21) where H is defined above, w is the length of the gap in the direction perpendicular to the motion of the material, and 1 is the length of the gap in the direction of material motion. For the present invention, the value of is generally greater than zero but not greater than 0.5 meters/second.
The close proximity of the chamber to the surface, and the relatively small pressure gradient, enable the transport of the mass in the adjacent gas phase through the chamber with minimal dilution. Thus lower flow rates at higher concentrations may be transported and collected. The present method is also suitable for transporting and collecting relatively small amounts of mass located in the adjacent gas phase. The gap height is generally 3 cm or less, preferably 1.5 cm or less , and most preferably 0.75 cm or less.Additionally, in a preferred embodiment, the gap is substantially uniform around the periphery of the chamber. However, the gap may be varied, or non-uniform for specific applications. In a preferred embodiment, the chamber may have a periphery wider than the material, or web conveyed under the chamber. In such cases, the chamber can be designed to seal the sides to further reduce time-average mass flow per unit width from pressure gradients (Ml). The chamber can also be designed to conform to different geometry material surfaces. For example, the chamber can have a radiused lower periphery to conform to the surface of a cylinder.
The material utilized may include any material that is capable of being positioned in close proximity of the chamber. The preferred material is a web. The web may include one or more layers of material or coatings applied onto a substrate.
The chamber is sized and operated appropriately to provide the sufficient collection of gas phase components without substantial dilution or without excessive loss of gas phase components for failure to draw them into the chamber. Those skilled in the art are capable of designing and operating a chamber to address both the evaporation rate of given materials and the needed fluid flow rate for proper recovery of the gas phase components. With flammable gas phase components, it is preferred to capture the vapors at concentrations above the upper flammability limit for safety reasons. Additionally, the gap may be maintained over a substantial portion of the web. Several chambers may also be placed in operation at various points along the web processing path. Each individual chamber may be operated at different pressures, temperatures and gaps to address process and material variants.
Transport of the mass from the region through the chamber is accomplished by inducing a pressure gradient. A pressure gradient is generally created by mechanical devices, for example, pumps, blowers, and fans. The mechanical device that induces the pressure gradient is in communication with the chamber. Therefore, the pressure gradient will initiate mass flow through the chamber and through an exhaust port in the chamber.Those skilled in the art also recognize that pressure gradients may also be derived from density gradients of gas phase components.
The chamber may also include one or more mechanisms to control the phase of the mass transported through the chamber thereby controlling phase change of the components in the mass. For example, conventional temperature control devices may be incorporated into the chamber to prevent condensation from forming on the internal portions of the chamber. Non-limiting examples of conventional temperature control devices include heating coils, electrical heaters, and external heat sources. A heating coil provides sufficient heat in the chamber to prevent the condensation of the vapor component. Conventional heating coils and heat transfer fluids are suitable for use with the present invention.(訳:詳細な記述
本発明の方法および装置10は一般的に図1で示される。本方法は、隣接気相(図示せず)を有する少なくとも1つの主面14を備えた材料12の提供を含む。排気ポート18を有するチャンバ16がきわめて接近して配置されていて、チャンバ16下部の周囲19と材料12の表面14の間の間隙を規定する。間隙の高さHは好適には3cm以下である。チャンバ16下部の周囲19と材料12の表面14の間の隣接気相はある量の質量を有する領域を規定する。領域内の質量は一般に気相である。しかし、その領域は液相または固相、または3つの相すべての混合状態にある質量を含んでいてもよいことが当業者には理解できよう。
誘発された流動により、領域からの質量の少なくとも一部がチャンバ16を通って移送される。流動は、一般に当業者に公知である従来の機構により誘発される。チャンバ内、またはそれを通過する単位幅当たり質量は式Iにより表わされる。
M1+M2+M3=M4 (式I) 図1に、本発明の方法を実施する際に遭遇する各種の流動を示す。M1は、圧力勾配の結果生じた間隙を通って領域内へ入りチャンバを通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計である。本発明の目的のため、M1は本質的に希釈流を表わす。M2は材料の少なくとも1つの主面から前記領域内へ入りチャンバを通過する単位幅当たりの時間平均質量流量である。M3は材料の動作の結果生じた、間隙を通って領域内へ入りチャンバを通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計である。M3は一般に機械的抗力と見なされ、チャンバの下にある材料の動きにより引っ張られる質量と、材料が通過するにつれてチャンバの下から流出しようとする質量の両方を表わす。材料がチャンバの下で動かない場合、M3はゼロである。間隙Hが均一である(すなわち、チャンバの入口と出口の間隙が等しい)場合、M3はゼロである。入口と出口間隙が均一でない(すなわち、等しくない)場合、M3はゼロではない。M4はチャンバを通過して移送される質量の単位幅当たり時間平均速度である。質量は、チャンバを通過することなく間隙を通って領域内へ送り込めることは理解されよう。そのような流動は式Iに含まれる正味流量の合計には含まれない。本発明の目的に沿って、幅を定義する寸法は、材料の動きに直交する向きで材料面にある間隙の長さとする。
本方法および装置は、チャンバを通過して移送される希釈気体の量を大幅に減らすべく設計されている。材料表面に極めて近接するチャンバおよび極めて微小な負の圧力勾配を利用することにより、希釈気体すなわちM1を大幅に減少させることが可能になる。圧力勾配Δpは、チャンバ下部の周囲における圧力pcと、チャンバ外部の圧力poとの相違と定義され、ここにΔp=pc-poである。M1の値は一般にゼロより大きいが0.25kg/秒/mを超えない。M1はゼロより大きいが0.1kg/秒/mを超えないことが好適であり、ゼロより大きいが0.01kg/秒/mを超えないことが最適である。
別の表現をすれば、M1から得られる平均速度を用いてチャンバに流入する希釈気相成分の流動を表現することができる。材料表面に極めて近接するチャンバおよび微小な負の圧力勾配を利用することにより、間隙を通る正味平均気相速度の合計<v>を大幅に減少させることが可能になる。M1から得られる平均気相速度は、<v>=M1/ρAと定義される。ここに、M1は上で定義済み、ρはkg/m3単位の気流密度、Aは領域内への流動が利用できる断面積をm2単位で表わしたものである。ここに、A=H(2w+2l)であり、Hは上で定義済み、wは材料の動きに直交する方向での間隙の長さ、lは材料の移動方向での間隙の長さである。本発明の場合、<v>の値は一般にゼロより大きいが0.5m/以下である。
表面にチャンバが極めて近接していること、および圧力勾配が比較的小さいことにより、隣接気相内の質量を最小限の希釈でチャンバを通過して移送することが可能になる。従って、高濃度かつ低速な流動の移送および回収ができる。本方法はまた、隣接気相に存在する比較的小さい質量を移送および回収するのに適している。間隙の高さは一般に3cm以下、好適には1.5cm以下であり、0.75cm以下が最適である。さらに、好適な実施形態において、チャンバの周囲の間隙はほぼ均一である。しかし、特定用途では間隙が変化しても、均一でなくてもよい。好適な実施形態において、チャンバの周囲は、チャンバ下側を搬送される材料すなわちウェブより広くてもよい。このような場合、チャンバは側面を密閉すべく設計することにより、圧力勾配(M1)から単位幅当たりの時間平均質量流量をさらに減らすことができる。チャンバはまた、材料表面を異なる形状に合わせるよう設計することができる。例えば、チャンバ下部の周囲を、シリンダの表面に合わせるように半径を設定することができる。
使用される材料は、チャンバにきわめて接近して配置することが可能な任意の材料を含んでいてよい。好適な材料はウェブである。ウェブは基板に適用された1種以上の材料またはコーティングの層を含んでいてよい。
チャンバは、適切にサイズを定めて操作することにより、気相成分を実質的に希釈することなく、またチャンバへの吸入の失敗により気相成分を過度に失なうことなく、それらを十分に回収することができる。当業者であれば、気相成分の適切な回収を目指して所定の材料の蒸発速度および必要な流体流速の両方に対処すべくチャンバを設計、操作することができる。可燃性気相成分の場合、安全のため引火上限を超えた濃度で蒸気を捕捉することが好適である。さらに、間隙はウェブのほぼ全体にわたって維持されてよい。ウェブの処理経路に沿ってさまざまな箇所で動作すべく数個のチャンバを配置してもよい。処理および材料の違いに対処すべく、各個別チャンバは異なる圧力、温度、および間隙で操作されてもよい。
領域からチャンバを通過する質量の移送は、圧力勾配を誘発することにより実現される。圧力勾配は一般に、例えばポンプ、送風機、および扇風機等の機械装置により生成される。圧力勾配を誘発する機械装置はチャンバと連通している。従って圧力勾配は、チャンバを通過してチャンバ内の排気ポートを通過する質量流量を生じさせる。当業者はまた、圧力勾配も気相成分の密度勾配から生じることを認識しよう。
チャンバはまた、チャンバを通過して移送される質量の相を制御することにより質量における成分の相変化を制御する1つ以上の機構を含んでいてよい。例えば、従来の温度制御装置は、チャンバ内に組み込まれていてチャンバ内部で凝結が生じるのを防ぐことができる。従来の温度制御装置の非限定的な実施例には加熱コイル、電気ヒーター、および外部熱源が含まれる。加熱コイルはチャンバに十分な熱を供給することにより蒸気成分の凝結を防ぐ。従来の加熱コイルと熱転写流体は本発明と合わせて利用するのに適している。)」(第6ページ第1行?第9ページ第4行。訳文は同段落【0019】?【0028】)
オ 上記エの記載事項によると、「間隙」は、チャンバ16下部の周囲19と材料12の表面14の間により規定されるものである。そして、上記エの別の箇所には、「間隙はウェブのほぼ全体にわたって維持されてよい」ことが記載されている。この後者の記載から、「間隙」は、チャンバ16とウェブとの間でウェブのほぼ全体にわたって維持されるものといえる。
カ 上記エの記載事項及びFig1?2の図示内容によると、チャンバ16を通過する質量移送は、チャンバ16上表面の排気ポート18を介して行われることが示されている。

上記ア?エの記載事項、上記オ?カの認定事項、及び、図面の図示内容を総合勘案すると、刊行物1には、次の発明が記載されていると認められる。
「移動している材料としてのウェブから溶媒を移送および回収するための利用に適している装置であって、
ウェブとの間でウェブのほぼ全体にわたって維持される間隙を規定するようにウェブにきわめて接近して配置され、排気ポート18を有するチャンバ16を備え、チャンバ16とウェブとの間の隣接気相はある量の質量を有する領域を規定し、誘発された流動により、領域からの質量の少なくとも一部がチャンバ16を通って移送されるとき、チャンバ16内を通過する単位幅当たりの質量流量は、式Iにより表わされ、
M1+M2+M3=M4 (式I)
ここで、M1は、圧力勾配の結果生じた間隙を通って領域内へ入りチャンバ16を通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計であり、
M2は、材料の少なくとも1つの主面から前記領域内へ入りチャンバ16を通過する単位幅当たりの時間平均質量流量であり、
M3は、材料の動作の結果生じた、間隙を通って領域内へ入りチャンバ16を通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計であり、
M4は、チャンバ16上表面の排気ポート18を通過して移送される質量の単位幅当たりの時間平均速度であり、
材料表面に極めて近接するチャンバ16および極めて微小な負の圧力勾配を利用することにより、希釈気体すなわちM1を大幅に減少させることが可能になる装置。」

(2)同じく、原査定の拒絶理由において提示された、本願の優先権主張の日前に頒布された刊行物である特開昭63-158166号公報(以下「刊行物2」という。)には、図面と共に次の事項が記載されている。
ア 「産業上の利用分野]
本発明は、例えば長尺のプラスチック製支持体に塗液を塗布して乾燥することにより写真感光材料を製造する際の乾燥工程を改良するものである。」(第1ページ左下欄第14?17行)
イ 「本発明の目的はこのような問題点を解決して乾燥設備をコンパクトにしかつ熱エネルギーの消費量を節減した乾燥方法を提供することにある。
[問題点を解決するための手段]
本発明者はこのような目的を達成するべく鋭意検討を行なった結果、不活性ガスのなかで該帯状物の上下に配置された加熱板からの放射熱によって乾燥を行なうとともに、乾燥排ガスから溶剤を回収することにより、オーブンへの送風量を極めて少なくできるばかりでなく、乾燥オーブン及び溶剤回収のための熱交換器を小容量のものにすることができる。その結果、乾燥装置全体をコンパクトにし、さらに回収した溶剤も再利用できるなど種々の利点を見出して本発明を完成するに至った。」(第2ページ右上欄第3?17行)
ウ 「[作用]
本発明の方法においては、加熱板からの放射伝熱によって帯状物を乾燥させ、充満されている不活性ガスは蒸発した溶剤蒸気の爆発を防止し、オーブン内の高濃度状態を可能にしている。従って、不活性ガスの風量は、溶剤ガス濃度を一定値に維持するに必要な分だけでよく、極めて少なくなっている。風量が少なく、オーブン内外の圧力差が小さいので、オーブン内を不活性ガス雰囲気にするためのガスシールを容易にしている。さらに、排出ガスから有機溶剤を回収することにより、溶剤の再利用を可能にしている。
[実施例]
第1図は本発明の方法に利用される乾燥装置の一例をフローシートで示したものである。
図示のように、帯状物1は原反ロール2から繰出され、公知の塗布装置3で塗液4が塗布される。そして、オーブン5内で乾燥され、巻取ロール6に巻取られる。オーブン5は偏平な長函状の密閉形のものであり、長手方向の両端面には、帯状物1が通るスリット状開ロ7、8が設けられている。オーブン5の内部には、帯状物1の走行路の上下に加熱板9、10が設けられている。この加熱板9、10は、第2図に示すように、枠23に放射管24フイン25及び保温材26が組み込まれて形成されている。この放射管24はヒータ、循環ポンプ等からなる熱媒体循環装置(図示せず)に接続され、内部を蒸気が流れている。この蒸気により放射管24が加熱されると共に、フィン25にも熱を伝える。
なお、乾燥条件等によりフィン25、保温材26は省略することができる。
また、オーブン5の両端上面には、不活性ガスの送風口11及び排風口12が設けられている。この排風口12は、排風線13及び熱交換器14を介して凝縮器15に連結されている。凝縮器15は、冷媒を送る冷却器16及び凝縮した溶剤の受槽17が連結されるとともに、熱交換器14、防塵装置18、加熱ヒーター19及び送風機20を介して送風口11に連結されている。また、防塵装置18には、不活性ガスを供給するためのガス供給装置21が連結されている。
このような装置において、帯状物1は原反ロール2から繰り出され、塗布装置3で塗液4を塗布されてオーブン5内に進入し走行する。このとき、オーブン5内は送風口11から送られた不活性ガスで充満されており、そして上下の加熱板9.10の放射熱で帯状物1に塗布された塗液4の溶剤が蒸発する。こうして、帯状物1はオーブン5内を走行するにつれて徐々に乾燥し、完全に乾燥した状態でオーブン5から出て巻取ロール6に巻き取られる。乾燥により蒸発した溶剤は、不活性ガスとともに送風機13で吸引されて排出口12から排出され、熱交換器14で後述する凝縮器15が送られて来る不活性ガスと熱交換して冷却される。この冷却された排出ガスは、凝縮器15で溶剤の大部分が回収され略不活性ガスのみが残る。この不活性ガスは、上記熱交換器14での熱交換で予熱され、ガス供給装置21から送られた不活性ガスとともに、防塵装置18で塵埃が除去された後ヒータ19で所定温度に温められてオ-ブン5に送り込まれる。」(第3ページ左上欄第20行?同右下欄第18行)

上記ア?ウの記載事項及び図面の図示内容を総合勘案すると、刊行物2には、次の発明が記載されていると認められる。
「装置をコンパクトにすることを目的として、
走行する帯状物1を乾燥する乾燥装置であって、
長手方向の両端面には、帯状物1が通るスリット状開ロ7、8が設けられ、両端上面には、不活性ガスの送風口11及び排風口12が設けられている、偏平な長函状の密閉形のオーブン5を具備し、
溶媒蒸気を含む乾燥排ガスから溶剤を回収することにより、オーブンへの送風量を極めて少なくできる乾燥装置。」

3 対比
本件補正発明と刊行物1に記載された発明とを対比する。
刊行物1に記載された発明の「移動している材料としてのウェブ」は、巻かれたもので、不特定の長さを有するものであるから、本件補正発明の「不特定長さの移動する基材」に相当し、以下同様に、
「溶媒を移送および回収するための利用に適している装置」は、溶媒の移送および回収処理をするものであるから、「処理するための装置」に、
「誘発された流動により、領域からの質量の少なくとも一部がチャンバ16を通って移送されるとき」は、「領域内のマスの少なくとも一部が移送されたとき」に、
「M1は、圧力勾配の結果生じた間隙を通って領域内へ入りチャンバ16を通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計」であることは、「M1は、圧力勾配から生じる、領域内への」「単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味」することに、
「M2は、材料の少なくとも1つの主面から前記領域内へ入りチャンバ16を通過する単位幅当たりの時間平均質量流量」であることは、「M2は、基材の少なくとも1つの主面から」「の、領域内の、単位幅あたりの時間平均マスフローを意味」することに、
「M3は、材料の動作の結果生じた、間隙を通って領域内へ入りチャンバ16を通過する単位幅当たりの正味時間平均質量流量の合計」であることは、「M3は、材料の動きから生じる、領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味」することに、
「M4は、チャンバ16上表面の排気ポート18を通過して移送される質量の単位幅当たりの時間平均速度」であることは、「M4は、単位幅あたりの、気体取出しデバイスを通るマス移送の時間平均速度を意味」することに、
「希釈気体すなわちM1を大幅に減少させる」ことは、気相成分の溶媒を大幅に減少させた量の希釈気体を用いて希釈するのであるから、「所望の気相成分を、大幅に希釈することなく領域を通して移送」することに、
それぞれ相当する。

そして、刊行物1に記載された発明の「ウェブとの間でウェブのほぼ全体にわたって維持される間隙を規定するようにウェブにきわめて接近して配置され」「るチャンバ16」と、本件補正発明の「基材の表面に密に近接し、基材との間に制御間隙を画定する、制御表面」とは、前者において、チャンバ16は、ウェブとの間でウェブのほぼ全体にわたって維持される間隙を規定するためのチャンバ16を構成する上表面を具備するものであり、後者において、制御表面並びに第1及び第2のチャンバは、全体として一つのチャンバを構成するものであるから、両者は、「基材の表面に密に近接し、基材との間に制御間隙を画定する、チャンバを構成する制御表面」である点で共通し、同様に、
刊行物1に記載された発明の「排気ポート18を有するチャンバ16」と、本件補正発明の「制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第2のチャンバ」とは、上記したように、後者において、制御表面並びに第1及び第2のチャンバは、全体として一つのチャンバを構成するものであるから、両者は、「気体取出しデバイスを有するチャンバ」であることで共通する。
また、刊行物1に記載された発明の「チャンバ16とウェブとの間の隣接気相はある量の質量を有する領域を規定」することと、本件補正発明の「制御表面並びに第1および第2のチャンバが協働して、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定」することとは、後者において、制御表面並びに第1及び第2のチャンバは、全体としてチャンバを構成するものであるから、両者は、「チャンバが、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定」することで共通し、同様に、
刊行物1に記載された発明の「M1+M2+M3=M4」と本件補正発明の「M1+M1’+M2+M3=M4」とは、「M1、M2、及び、M3とM4とは所定の関係を満たす」ことで、
それぞれ共通する。

したがって、両者の一致点および相違点は、次のとおりである。
[一致点]
「不特定長さの移動する基材を処理するための装置であって、
前記基材の表面に密に近接し、前記基材との間に制御間隙を画定する、チャンバを構成する制御表面と、気体取出しデバイスを有するチャンバを含み、
チャンバが、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定し、前記領域内の前記マスの少なくとも一部が移送されたときにM1、M2、及び、M3とM4とは所定の関係を満たし、
ここで、M1は、圧力勾配から生じる、前記領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、M2は、前記基材の少なくとも1つの主面からの、前記領域内の、単位幅あたりの時間平均マスフローを意味し、M3は、前記材料の動きから生じる、前記領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、M4は、単位幅あたりの、前記気体取出しデバイスを通るマス移送の時間平均速度を意味し、所望の気相成分を、大幅に希釈することなく前記領域を通して移送する装置。」

[相違点1]
本件補正発明では、(a)基材の表面に密に近接し、基材との間に制御間隙を画定する、制御表面と、(b)制御表面の近くに位置するとともに気体導入デバイスを有する第1のチャンバと、(c)制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第2のチャンバとを含み、制御表面並びに第1および第2のチャンバが協働して、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定するのに対して、刊行物1に記載された発明では、ウェブとの間でウェブのほぼ全体にわたって維持される間隙を規定するようにウェブにきわめて接近して配置され、排気ポート18を有するチャンバ16を備え、チャンバ16とウェブとの間の隣接気相はある量の質量を有する領域を規定する点。

[相違点2]
M1、M2、及び、M3とM4とが満足する所定の関係が、本件補正発明では、M1+M1’+M2+M3=M4であり、ここで、M1’は、気体導入デバイスから第1のチャンバを通る領域内への、単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローを意味するのに対して、刊行物1に記載された発明では、M1+M2+M3=M4であるが、気体導入デバイスから第1のチャンバを通る領域内への、単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローとしてのM1’を考慮していない点。

4.当審の判断
上記相違点1及び2について検討する。
本件補正発明と刊行物2に記載された発明とを対比する。
刊行物2に記載された発明の「走行する帯状物1」は、その構成及び機能からみて、本件補正発明の「不特定長さの移動する基材」に相当し、以下同様に、
「乾燥する乾燥装置」は、「処理するための装置」に、
「オーブンへの送風量を極めて少なくできる」ことは、溶剤蒸気を含んだ乾燥排ガスを不活性ガスを用いてわずかにしか希釈しないことであるから、「所望の気相成分を、大幅に希釈する」ことがないことに、
それぞれ相当する。
そして、刊行物2に記載された発明の「両端上面には、不活性ガスの送風口11及び排風口12が設けられている、偏平な長函状の密閉形のオーブン5」と本件補正発明の「(a)基材の表面に密に近接し、基材との間に制御間隙を画定する、制御表面と、(b)制御表面の近くに位置するとともに気体導入デバイスを有する第1のチャンバと、(c)制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第2のチャンバ」とは、「上面に気体導入ポートと気体取出しポートとを有するチャンバ」である点で共通する。
してみると、刊行物2に記載された発明は「装置をコンパクトにすることを目的として、不特定長さの移動する基材を処理するための装置であって、上面に気体導入デバイスと気体取出しデバイスとを有するチャンバを具備し、所望の気相成分を、大幅に希釈することがない基材を処理するための装置。」と言い換えることができる。
そして、刊行物1に記載された発明と刊行物2に記載された発明とは、不特定長さの移動する基材を処理するための装置という共通の技術分野に属する発明であり、また、所望の気相成分を希釈する希釈気体を大幅に減少させるという共通の機能を奏するものである。
また、刊行物1に記載された発明は、チャンバ16がウェブにきわめて接近して配置されるものであり、その結果、チャンバ16がコンパクト化されたものとなることは、当業者にとって自明である。そうすると、刊行物1に記載された発明と刊行物2に記載された発明とは、装置のコンパクト化を図るという共通の目的を解決するものである。
さらに、不特定長さの移動するウェブを処理するための装置の技術分野において、気体導入デバイスを有するチャンバから気体を導入することは、本願の優先権主張の日前に広く行われている技術事項である(例えば、特開昭56-21641号公報の不活性ガス流がコンジット14及びスペース15を経てオリフィス17へ供給され、開口16を経て通路11へ流れることや、特開平1-321994号公報の筐体11に供給された空気が開口12a、13aを経てウェブWに吹き出されることを参照。)。
してみると、刊行物1に記載された発明に、刊行物2に記載された発明を適用して、チャンバ16の上表面に排気ポート18を有することに加えて気体導入ポートも有するようにし、これに伴って、単位幅あたりの、排気ポートを通るマス移送の時間平均速度M4を算出する際に、M1?M3を考慮することに加えて、気体導入ポートから領域内への単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローをも考慮することは当業者が容易になし得たものである。そして、その際に、排気ポート18及び気体導入ポートを、上記周知の技術事項に倣って、気体導入デバイスを有するチャンバ及び気体取出しデバイスを有するチャンバとし、気体導入デバイスを有するチャンバと気体取出しデバイスを有するチャンバとをチャンバ16の上表面近くに位置させ、上記相違点1及び2において本件補正発明が具備する発明特定事項に到達することは当業者が適宜なし得たものである。
そして、本件補正発明により奏される効果は、刊行物1?2に記載された発明及び周知の技術事項から当業者が予測できた効果の範囲内のものである。
したがって、本件補正発明は、刊行物1?2に記載された発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に想到し得たものであるから、特許法第29条第2項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。

5.まとめ
以上のとおりであるから、本件補正は、改正前特許法第17条の2第5項において準用する同法第126条第5項の規定に違反するので、同法第159条第1項において読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下すべきものである。

第3 本願発明について
1 本願発明
本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項1に係る発明(以下「本願発明」という。)は、平成21年10月21日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項1に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「不特定長さの移動する基材を処理するための装置であって、(a)前記基材の表面に密に近接し、前記基材との間に制御間隙を画定する、制御表面と、(b)前記制御表面の近くに位置するとともに気体導入デバイスを有する第1のチャンバと、(c)前記制御表面の近くに位置するとともに気体取出しデバイスを有する第2のチャンバとを含み、前記制御表面および前記第1および第2のチャンバが協働して、隣接した気相がある量のマスを有する領域を画定し、前記領域内の前記マスの少なくとも一部が移送されたときにM1+M1’+M2+M3=M4を満足し、ここで、M1は、圧力勾配から生じる、前記領域内へのまたは前記領域からの単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、M1’は、前記気体導入デバイスから前記第1のチャンバを通る前記領域内への、単位幅あたりの気体の総正味時間平均マスフローを意味し、M2は、前記基材の少なくとも1つの主面からまたは前記基材の少なくとも1つの主面内への、前記領域内の、単位幅あたりの時間平均マスフローを意味し、M3は、前記材料の動きから生じる、前記領域内への単位幅あたりの総正味時間平均マスフローを意味し、M4は、単位幅あたりの、前記気体取出しデバイスを通るマス移送の時間平均速度を意味し、所望の気相成分を、大幅に希釈することなく前記領域を通して移送し又は前記領域から収集する、装置。」

2 刊行物に記載された発明
原査定の拒絶の理由に引用した刊行物1?2、刊行物1?2の記載事項及び刊行物1?2に記載された発明は、前記「第2 [理由]2 刊行物に記載された発明」に記載したとおりである。

3 対比および判断
本願発明は、前記「第2 [理由]1」において検討した本件補正発明において、「制御表面並びに前記第1および第2のチャンバが協働し」とあったものを誤記を含む「制御表面および前記第1および第2のチャンバが協働し」に戻すものである。
ここで、「制御表面および前記第1および第2のチャンバが協働し」は、前記したように「制御表面並びに前記第1および第2のチャンバが協働し」の誤記であるので、これを正しく読み替えることとする。
そうすると、結局、本願発明は本件補正発明に実質的に相当し、本件補正発明が、前記「第2 [理由]3 対比及び4 当審の判断」に記載したとおり、刊行物1?2に記載された発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様に、刊行物1?2に記載された発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。

4 むすび
以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物1?2に記載された発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。
したがって、本願のその他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
よって、結論のとおり審決する。
 
審理終結日 2012-02-08 
結審通知日 2012-02-14 
審決日 2012-02-27 
出願番号 特願2006-507005(P2006-507005)
審決分類 P 1 8・ 575- Z (F26B)
P 1 8・ 121- Z (F26B)
最終処分 不成立  
前審関与審査官 中村 達之  
特許庁審判長 岡本 昌直
特許庁審判官 青木 良憲
長崎 洋一
発明の名称 蒸気収集方法および装置  
代理人 鶴田 準一  
代理人 島田 哲郎  
代理人 青木 篤  
代理人 廣瀬 繁樹  
代理人 前島 一夫  

プライバシーポリシー   セキュリティーポリシー   運営会社概要   サービスに関しての問い合わせ