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審決分類 |
審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない。 C08F |
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管理番号 | 1318517 |
審判番号 | 不服2014-23325 |
総通号数 | 202 |
発行国 | 日本国特許庁(JP) |
公報種別 | 特許審決公報 |
発行日 | 2016-10-28 |
種別 | 拒絶査定不服の審決 |
審判請求日 | 2014-11-17 |
確定日 | 2016-08-24 |
事件の表示 | 特願2012- 87545「紫外線により架橋されたポリマー電解質」拒絶査定不服審判事件〔平成24年 8月 2日出願公開,特開2012-144740〕について,次のとおり審決する。 |
結論 | 本件審判の請求は,成り立たない。 |
理由 |
第1 手続の経緯 本願は,国際出願日である平成16年11月22日(優先権主張2003年12月11日 アメリカ合衆国)にされたとみなされる特許出願である特願2006-543845号の一部を新たな特許出願としたものであって,平成25年11月 1日付けで拒絶理由が通知され,平成26年 7月 8日付けで拒絶査定がなされ,同査定の謄本は同年 7月15日に請求人に送達された。これに対して,同年11月17日に拒絶査定不服審判の請求がなされると同時に特許請求の範囲が補正され,平成27年 1月21日に特許法第164条第3項の報告がされたものである。 第2 補正の却下の決定 [補正の却下の決定の結論] 平成26年11月17日付け手続補正書による手続補正を却下する。 [理由] 1.手続補正の内容 平成26年11月17日付け手続補正書による手続補正(以下,「本願補正」という。)は,特許請求の範囲の全文を変更する補正事項からなるものである。そして,本願補正の前後の請求項1は以下のとおりである(本願補正後の下線部は補正箇所を示す。)。 (本願補正前) 「架橋ポリマーの製造方法であって、 a)テトラフルオロエチレンモノマーから部分的に誘導された主鎖と、式-SO_(2)X(式中、XはF、Cl、Br、OH、または-O^(-)M^(+)(式中、M^(+)は1価の陽イオンである)である)で表される基を含む第1の側基と、Br、Cl、およびIからなる群から選択されるハロゲン原子を含む第2の側基とを含む高度にフッ素化されたフルオロポリマーを提供するステップと、 b)架橋を形成するために、前記フルオロポリマーを紫外線に暴露するステップと、 を含む方法。」 (本願補正後) 「架橋ポリマーの製造方法であって、 a)テトラフルオロエチレンモノマーから部分的に誘導された主鎖と、式-O-(CF_(2))_(4)-SO_(2)X(式中、XはF、Cl、Br、OH、または-O^(-)M^(+)(式中、M^(+)は1価の陽イオンである)である)で表される第1の側基と、Brを含む第2の側基とを含む高度にフッ素化されたフルオロポリマーを提供するステップと、 c)前記フルオロポリマーから膜を形成するステップと、 b)架橋を形成するために、前記フルオロポリマーを紫外線に暴露するステップと、 を含み、前記膜の厚さが90ミクロン以下である、方法。」 2.新規事項の追加の有無及び補正の目的 前記補正は,以下の事項を含むものである。 (1)第1の側基における「式-SO_(2)X」を,補正前の請求項1を引用する請求項4の記載に基いて「式-O-(CF_(2))_(4)-SO_(2)X」とする補正。 (2)第2の側基における「Br、Cl、およびIからなる群から選択されるハロゲン原子」を,「Br」に限定する補正。 (3)「b)架橋を形成するために、前記フルオロポリマーを紫外線に暴露するステップと、」の前に,補正前の請求項1を引用する請求項7の記載に基いて「c)前記フルオロポリマーから膜を形成するステップと、」を追加する補正。 (4)補正前の請求項1を引用する請求項8の記載に基いて「前記膜の厚さが90ミクロン以下である」を追加する補正。 そして,(1)?(4)の各補正事項は,いずれも,本願の当初明細書に記載された事項の範囲内であり,かつ,補正前の請求項1に記載された発明と補正後の請求項1に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題も同一である。 よって,本願補正は,新規事項を追加するものではなく,かつ,特許法第17条の2第5項第2号に規定する「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものに該当する。 3.独立特許要件 そこで,補正後の請求項1に記載された発明(以下,「本願補正発明」という。)が,特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか(すなわち,特許法第17条の2第6項において準用する同法第126条第7項の規定に適合するか)について,以下検討する。 (1)本願補正発明 「架橋ポリマーの製造方法であって、 a)テトラフルオロエチレンモノマーから部分的に誘導された主鎖と、式-O-(CF_(2))_(4)-SO_(2)X(式中、XはF、Cl、Br、OH、または-O^(-)M^(+)(式中、M^(+)は1価の陽イオンである)である)で表される第1の側基と、Brを含む第2の側基とを含む高度にフッ素化されたフルオロポリマーを提供するステップと、 c)前記フルオロポリマーから膜を形成するステップと、 b)架橋を形成するために、前記フルオロポリマーを紫外線に暴露するステップと、 を含み、前記膜の厚さが90ミクロン以下である、方法。」 (2)刊行物及びその記載事項 本願の優先日前に頒布された刊行物である,特開2003-342328号公報(原査定の引用文献1。以下,「引用文献1」という。)には,以下の事項が記載されている。 ア.「下記一般式(I) 【化1】 (式中、Y^(1)は、ハロゲン原子又はパーフルオロアルキル基を示す。Y^(2)は、ハロゲン原子を示す。n1は、0?5の整数を示す。n2は、1?10の整数を示す。n2個のY^(2)は、同一であってもよいし異なっていてもよい。X^(1)は、ハロゲン原子、-OM^(1)、-OM^(2)_(1/2)又は-NR^(1)R^(2)R^(3)を示し、M^(1)は、水素原子又はアルカリ金属を示し、M^(2)は、アルカリ土類金属を示し、R^(1)、R^(2)及びR^(3)は、同一又は異なって、水素原子又はアルキル基を示す。)で表されるパーフルオロビニルエーテルスルホン酸誘導体(A)、架橋性官能基含有フルオロモノマー(B)、及び、エチレン性モノマー(C)を重合する工程、並びに、架橋を行う工程を経て得られる含フッ素重合体からなることを特徴とする成形体。」(特許請求の範囲請求項1) イ.「上記パーフルオロビニルエーテルスルホン酸誘導体(A)は、上記一般式(I)におけるn1が0?5の整数を示す。好ましくは、0又は1であり、より好ましくは、0である。上記一般式(I)におけるn2は1?10の整数を示す。好ましくは、2である。」(段落【0014】) ウ.「上記架橋性官能基含有フルオロモノマー(B)は、架橋性官能基を有するフルオロモノマーである。本明細書において、上記「架橋性官能基」とは、架橋に寄与し得る基を意味する。上記「架橋」は、橋かけ結合を形成することであり、本明細書においては、この点で、後述の重合工程における重合とは区別される概念である。」(段落【0018】) エ.「上記架橋性官能基が-I又は-Brである架橋性官能基含有フルオロモノマー(B)としては、ヨウ素原子又は臭素原子を有するパーフルオロアルキレン又はパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)が挙げられ、アルキル鎖はエーテル結合性の酸素原子を含んでいてもよい。このような架橋性官能基含有フルオロモノマー(B)としては、例えば、下記式で表される化合物等が挙げられる。なお、下記式において、n7及びn8はそれぞれ独立して1?5の整数である。 CF_(2)=CFI CF_(2)=CFO(CF_(2))_(n7)I CF_(2)=CF[OCF_(2)CF(CF_(3))]_(n7)O(CF_(2))_(n8)I CF_(2)=CFBr CF_(2)=CFO(CF_(2))_(n7)Br CF_(2)=CF[OCF_(2)CF(CF_(3))]_(n7)O(CF_(2))_(n8)Br」(段落【0026】) オ.「上記エチレン性モノマー(C)としては、例えば、テトラフルオロエチレン〔TFE〕、ジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビニル、ヘキサフルオロイソブテン、エチレン、1-ブテン、2-ブテン、パーフルオロ(3-ブテニルビニルエーテル)、パーフルオロ(アリルビニルエーテル)、パーフルオロ(2,2-ジメチル-1,3-ジオキソール)、パーフルオロ(1,3-ジオキソール)、パーフルオロ(2-メチレン-4-メチル-1,3-ジオキソラン)、パーフルオロ(3,5-ジオキサ-1,6-ヘプタジエン)、パーフルオロ(4-メトキシ-1,3-ジオキソール)等が挙げられる。」(段落【0037】) カ.「上記架橋工程は、用いる架橋系によるが、高分子材料の架橋に通常用いられる方法である、加熱、放射線照射、電子線照射、光照射等が採用されるが、加熱架橋法が装置の入手しやすさや取扱いの容易さ等の点で好ましい。架橋反応を促進させるうえで、過酸化物、トリアリルイソシアヌレート、ビスフェノール、ビスフェノールAF等の架橋剤や架橋助剤を添加して加熱する方法を採用することもできる。必要に応じて、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等の助剤を添加してもよい。」(段落【0044】) キ.「本発明の成形体は、上記含フッ素重合体を用いて所望の形状にし、上記架橋工程により非可塑化して、得ることができる。上記所望の形状にする方法としては、例えば、従来公知の方法等を用いることができる。」(段落【0081】) ク.「本発明の成形体の用途としては特に限定されず、例えば、電解質膜、イオン交換膜等が挙げられ、上述のように耐加水分解性や耐酸化性等の耐久性に優れている点から、例えば、電解質膜、イオン交換膜等として好適に使用することができる。本発明の成形体は、電解質膜又はイオン交換膜として、例えば、電解質用膜、リチウム電池用膜、食塩電解用膜、水電解用膜、ハロゲン化水素酸電解用膜、酸素濃縮器用膜、湿度センサー用膜、ガスセンサー用膜等に用いることができ、使用条件が通常過酷な固体高分子電解質型燃料電池においても長期間好適に用いることができる。」(段落【0086】) ケ.「得られた膜を25質量%水酸化ナトリウム水溶液に入れ、90℃で12時間処理した。水洗いした後、1N塩酸水溶液に2時間浸した後、水洗し、架橋された含スルホン酸膜を得た。 得られた膜を100℃の熱水中168時間処理し、処理する前と処理した後で弾性率を測定したところ、ほとんど差はなかった。」(段落【0092】?【0093】) (3)刊行物に記載された発明 引用文献1には,特に前記摘示ア,キよりみて,次の発明(以下,「引用発明」という。)が記載されているといえる。 「下記一般式(I) 【化1】 (式中,Y^(1)は,ハロゲン原子又はパーフルオロアルキル基を示す。Y^(2)は,ハロゲン原子を示す。n1は,0?5の整数を示す。n2は,1?10の整数を示す。n2個のY^(2)は,同一であってもよいし異なっていてもよい。X^(1)は,ハロゲン原子,-OM^(1),-OM^(2)_(1/2)又は-NR^(1)R^(2)R^(3)を示し,M^(1)は,水素原子又はアルカリ金属を示し,M^(2)は,アルカリ土類金属を示し,R^(1),R^(2)及びR^(3)は,同一又は異なって,水素原子又はアルキル基を示す。)で表されるパーフルオロビニルエーテルスルホン酸誘導体(A),架橋性官能基含有フルオロモノマー(B),及び,エチレン性モノマー(C)を重合する工程,所望の形状にする工程,並びに,架橋を行う工程を経ることにより,含フッ素重合体からなる成形体を製造する方法。」 (4)対比 本願補正発明と引用発明とを対比する。 まず,引用発明の「パーフルオロビニルエーテルスルホン酸誘導体(A),架橋性官能基含有フルオロモノマー(B),及び,エチレン性モノマー(C)を重合する工程」は,本願補正発明の「a)高度にフッ素化されたフルオロポリマーを提供するステップ」に相当する。 次に,具体的なモノマー原料(前記摘示ア,ウ?オ)を参照すると,引用発明の「含フッ素重合体」も,本願補正発明の「テトラフルオロエチレンモノマーから部分的に誘導された主鎖」を有するものといえる。また,引用発明の一般式(I)において,n1=0,n2=4及びY^(2)=Fのものは,本願補正発明の「第1の側基」に相当する。さらに,引用発明の架橋性官能基含有フルオロモノマー(B)における,架橋性官能基が-Brのものは,本願補正発明の「Brを含む第2の側基」に相当する。 さらに,引用発明の成形体は,上記含フッ素重合体を用いて所望の形状にし,架橋工程により非可塑化して,得ることができ(前記摘示キ),かつ,架橋工程には,光照射も採用できる(前記摘示カ)ものであるから,引用発明の「架橋を行う工程」は,本願補正発明の「b)架橋を形成するために,前記フルオロポリマーを紫外線に暴露するステップ」に相当する。 したがって,本願補正発明と引用発明との一致点及び相違点は以下のとおりである。 <一致点> 「架橋ポリマーの製造方法であって, a)テトラフルオロエチレンモノマーから部分的に誘導された主鎖と,式-O-(CF_(2))_(4)-SO_(2)X(式中,XはF,Cl,Br,OH,または-O^(-)M^(+)(式中,M^(+)は1価の陽イオンである)である)で表される第1の側基と,Brを含む第2の側基とを含む高度にフッ素化されたフルオロポリマーを提供するステップと, b)架橋を形成するために,前記フルオロポリマーを紫外線に暴露するステップと, を含む,方法。」 <相違点> 本願補正発明は「c)前記フルオロポリマーから膜を形成するステップ」を有し,かつ,「膜の厚さが90ミクロン以下である」のに対し,引用発明は「所望の形状にする工程」を有するが,膜の形成や膜の厚さについては明示されていない点。 (5)相違点に対する判断 引用発明の成形体は,含フッ素重合体を用いて,従来公知の方法で所望の形状にできる(前記摘示キ)ところ,成形体の用途としては,電解質膜,イオン交換膜等が挙げられ,使用条件が過酷な固体高分子電解質型燃料電池においても長期間好適に用いることができる(前記摘示ク)とともに,具体的実施例においても,架橋された膜を製造している(前記摘示ケ)。 また,固体高分子電解質型燃料電池に用いる電解質膜の厚さとして,90ミクロン以下という数値範囲は典型的な範ちゅうである(例えば,本願明細書段落【0022】で引用する,米国特許第6,254,978号明細書を参照。要約に「複合メンブランの厚さが0.025mmより薄い」旨が示されている。)。 そうすると,引用発明において,所望の形状として膜を形成し,かつ,その厚さを90ミクロン以下にしてみることは,当業者が容易になし得たことである。 さらに,本願明細書の記載をみても,具体的には「膜をキャストした」旨(段落【0032】)が記載されているだけであり,フルオロポリマーから90ミクロン以下の膜を形成した場合とそうでない場合とでの比較検討もされていないことに鑑みると,本願補正発明により格別顕著な効果が奏せられるものとも認められない。 したがって,本願補正発明は,引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから,特許法第29条第2項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。 (6)小括 以上のとおり,本願補正発明は,特許法第17条の2第6項において準用する同法第126条第7項の規定に違反するものであって,同法第159条第1項の規定において読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下すべきものであるから,前記[補正の却下の決定の結論]のとおり決定する。 第3 本願発明について 平成26年11月17日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので,本願発明は,出願時の特許請求の範囲の請求項1ないし10に記載された事項により特定されるものであるところ,その請求項1に係る発明(以下,「本願発明」という。)は,次のとおりのものである。 「架橋ポリマーの製造方法であって, a)テトラフルオロエチレンモノマーから部分的に誘導された主鎖と,式-SO_(2)X(式中,XはF,Cl,Br,OH,または-O^(-)M^(+)(式中,M^(+)は1価の陽イオンである)である)で表される基を含む第1の側基と,Br,Cl,およびIからなる群から選択されるハロゲン原子を含む第2の側基とを含む高度にフッ素化されたフルオロポリマーを提供するステップと, b)架橋を形成するために,前記フルオロポリマーを紫外線に暴露するステップと, を含む方法。」 第4 原査定の拒絶の理由の概要 原査定の拒絶の理由は,本願発明は,引用文献1に記載された発明に基いて,当業者が容易に発明をすることができたものであるから,特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない,という理由を含むものである。 第5 当審の判断 1.刊行物,刊行物の記載事項及び刊行物に記載された発明 引用文献1の記載事項は,前記第2[理由]3(2)ア?ケに記載したとおりである。また,引用文献1に記載された発明(引用発明)は,前記第2[理由]3(3)に記載したとおりである。 2.対比・判断 本願発明は,前記第2で検討した本願補正発明において,(1)第1の側基,(2)第2の側基,(3)「前記フルオロポリマーから膜を形成するステップ」,及び,(4)「膜の厚さが90ミクロン以下である」の各限定を省いたものである。 そうすると,本願発明の発明特定事項を全て含み,さらに限定を付加したものに相当する本願補正発明が,前記第2[理由]3.(4),(5)に示したとおり,引用発明に基いて容易に発明できたものであるから,本願発明も,同様の理由により,引用発明に基いて容易に発明できたものである。 なお,請求人は平成27年 6月 3日に上申書を提出して,特許請求の範囲をさらに補正する用意があるので,補正を行う機会を与えて頂くことを希望する旨主張しているが,当該補正案の内容を検討しても,前記の判断に変わるところはないので,当該主張は採用の限りでない。 3.むすび 以上のとおり,本願の請求項1に係る発明は,特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。 したがって,他の請求項に係る発明について検討するまでもなく,本願は拒絶すべきものである。 よって,結論のとおり審決する。 |
審理終結日 | 2016-03-24 |
結審通知日 | 2016-03-29 |
審決日 | 2016-04-13 |
出願番号 | 特願2012-87545(P2012-87545) |
審決分類 |
P
1
8・
121-
Z
(C08F)
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最終処分 | 不成立 |
前審関与審査官 | 芦原 ゆりか |
特許庁審判長 |
小柳 健悟 |
特許庁審判官 |
加藤 友也 菊地 則義 |
発明の名称 | 紫外線により架橋されたポリマー電解質 |
代理人 | 永坂 友康 |
代理人 | 加藤 憲一 |
代理人 | 高橋 正俊 |
代理人 | 青木 篤 |
代理人 | 古賀 哲次 |
代理人 | 石田 敬 |