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審決分類 |
審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由)(定型) C23C 審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由)(定型) C23C |
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管理番号 | 1319026 |
審判番号 | 不服2014-20257 |
総通号数 | 202 |
発行国 | 日本国特許庁(JP) |
公報種別 | 特許審決公報 |
発行日 | 2016-10-28 |
種別 | 拒絶査定不服の審決 |
審判請求日 | 2014-10-07 |
確定日 | 2016-09-08 |
事件の表示 | 特願2009- 23328「微粒子噴射成膜システム及び箔基材連続成膜方法」拒絶査定不服審判事件〔平成22年 8月19日出願公開、特開2010-180436〕について、次のとおり審決する。 |
結論 | 本件審判の請求は、成り立たない。 |
理由 |
本願は、平成21年 2月 4日の出願であって、その請求項1?11に係る発明は、平成26年10月 7日付けの手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項1?11に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 これに対して、平成28年 4月11日付けで、本願請求項1、2、4、5、9?11に係る発明は、特許法第29条第2項の規定に該当し、特許を受けることができない旨の拒絶理由、及び、本願は、その特許請求の範囲の記載が不備で特許法第36条第6項第1号に規定する要件を満たしていない旨の拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もなく、依然として上記の拒絶理由は解消していない。 そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。 |
審理終結日 | 2016-07-07 |
結審通知日 | 2016-07-12 |
審決日 | 2016-07-25 |
出願番号 | 特願2009-23328(P2009-23328) |
審決分類 |
P
1
8・
537-
WZF
(C23C)
P 1 8・ 121- WZF (C23C) |
最終処分 | 不成立 |
前審関与審査官 | 伊藤 寿美 |
特許庁審判長 |
鈴木 正紀 |
特許庁審判官 |
宮澤 尚之 河野 一夫 |
発明の名称 | 微粒子噴射成膜システム及び箔基材連続成膜方法 |
代理人 | 大西 正悟 |