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審決分類 |
審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) G03F |
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管理番号 | 1328576 |
審判番号 | 不服2015-18310 |
総通号数 | 211 |
発行国 | 日本国特許庁(JP) |
公報種別 | 特許審決公報 |
発行日 | 2017-07-28 |
種別 | 拒絶査定不服の審決 |
審判請求日 | 2015-10-07 |
確定日 | 2017-06-13 |
事件の表示 | 特願2012-217564「パターン形成方法,半導体製造用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物,及び電子デバイスの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成26年4月21日出願公開,特開2014-71304,請求項の数(22)〕について,次のとおり審決する。 |
結論 | 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 |
理由 |
本願は,平成24年9月28日の出願であって,その請求項1?22に係る発明は,特許請求の範囲の請求項1?22に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして,本願については,原査定の拒絶の理由,及び当合議体の拒絶の理由を検討しても,その理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また,他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって,結論のとおり審決する。 |
審決日 | 2017-05-29 |
出願番号 | 特願2012-217564(P2012-217564) |
審決分類 |
P
1
8・
121-
WYF
(G03F)
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最終処分 | 成立 |
前審関与審査官 | 石附 直弥 |
特許庁審判長 |
中田 誠 |
特許庁審判官 |
樋口 信宏 清水 康司 |
発明の名称 | パターン形成方法、半導体製造用の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び電子デバイスの製造方法 |
代理人 | 尾澤 俊之 |
代理人 | 特許業務法人航栄特許事務所 |
代理人 | 高松 猛 |