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審決分類 審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 取り消して特許、登録(定型) G03F
管理番号 1330802
審判番号 不服2015-9294  
総通号数 213 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2017-09-29 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2015-05-19 
確定日 2017-08-15 
事件の表示 特願2010-177515「レジスト下層膜用高分子およびこれを含むレジスト下層膜用組成物、ならびに素子のパターン形成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成23年 6月 2日出願公開、特開2011-107684、請求項の数(15)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、平成22年8月6日(パリ条約による優先権主張 2009年11月13日 (KR)大韓民国)の出願であって、その請求項1ないし15に係る発明は、平成29年6月7日付け手続補正書で補正された特許請求の範囲の請求項1ないし15に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審での拒絶理由を検討してもそれらの理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2017-08-01 
出願番号 特願2010-177515(P2010-177515)
審決分類 P 1 8・ 537- WYF (G03F)
最終処分 成立  
前審関与審査官 久保田 英樹  
特許庁審判長 小柳 健悟
特許庁審判官 堀 洋樹
守安 智
発明の名称 レジスト下層膜用高分子およびこれを含むレジスト下層膜用組成物、ならびに素子のパターン形成方法  
代理人 八田国際特許業務法人  

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