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審決分類 審判 査定不服 1項3号刊行物記載 取り消して特許、登録(定型) G03F
審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) G03F
審判 査定不服 特29条の2 取り消して特許、登録(定型) G03F
管理番号 1344756
審判番号 不服2017-14317  
総通号数 227 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2018-11-30 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2017-09-27 
確定日 2018-10-23 
事件の表示 特願2013-200599「感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、これを用いた、レジスト膜、パターン形成方法、レジスト塗布マスクブランクス、フォトマスクの製造方法、及び電子デバイスの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成27年 4月13日出願公開、特開2015- 68860、請求項の数(21)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、平成25年9月26日の出願であって、その請求項1?21に係る発明は、平成30年8月24日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項1?21に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2018-10-09 
出願番号 特願2013-200599(P2013-200599)
審決分類 P 1 8・ 113- WYF (G03F)
P 1 8・ 16- WYF (G03F)
P 1 8・ 121- WYF (G03F)
最終処分 成立  
前審関与審査官 高橋 純平  
特許庁審判長 樋口 信宏
特許庁審判官 川村 大輔
宮澤 浩
発明の名称 感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、これを用いた、レジスト膜、パターン形成方法、レジスト塗布マスクブランクス、フォトマスクの製造方法、及び電子デバイスの製造方法  
代理人 特許業務法人航栄特許事務所  
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