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審決分類 審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由)(定型) G03F
管理番号 1369374
審判番号 不服2019-5185  
総通号数 254 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2021-02-26 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2019-04-18 
確定日 2020-12-14 
事件の表示 特願2017-130644「光酸発生剤、フォトレジスト、コーティング基板、および電子デバイスの形成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成30年 1月25日出願公開、特開2018- 13776〕について、次のとおり審決する。 
結論 本件審判の請求は、成り立たない。 
理由 本願は、平成29年7月3日(遡及出願平成26年10月17日)の出願であって、「光酸発生剤、フォトレジスト、コーティング基板、および電子デバイスの形成方法」に関するものと認める。
これに対して、令和2年3月5日付けで拒絶理由を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、請求人からは何らの応答もない。
そして、上記の拒絶理由は妥当なものと認められるので、本願は、この拒絶理由によって拒絶すべきものである。
よって、結論のとおり審決する。
 
別掲
 
審理終結日 2020-07-10 
結審通知日 2020-07-13 
審決日 2020-07-29 
出願番号 特願2017-130644(P2017-130644)
審決分類 P 1 8・ 537- WZF (G03F)
最終処分 不成立  
前審関与審査官 高橋 純平  
特許庁審判長 樋口 信宏
特許庁審判官 関根 洋之
宮澤 浩
発明の名称 光酸発生剤、フォトレジスト、コーティング基板、および電子デバイスの形成方法  
代理人 特許業務法人センダ国際特許事務所  
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