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審決分類 審判 査定不服 1項3号刊行物記載 取り消して特許、登録(定型) H01L
審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) H01L
管理番号 1371358
審判番号 不服2019-3537  
総通号数 256 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2021-04-30 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2019-03-14 
確定日 2021-03-09 
事件の表示 特願2016-523737「ICPプラズマ処理チャンバ内における高収率・基板最端部欠陥低減のための単一リング設計」拒絶査定不服審判事件〔平成26年12月31日国際公開、WO2014/209492、平成28年 9月29日国内公表、特表2016-530706、請求項の数(13)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、平成26年 4月30日(パリ条約による優先権主張 2013年 6月26日 (US)アメリカ合衆国)の出願であって、その請求項に係る発明は、特許請求の範囲の請求項に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
別掲
 
審決日 2021-02-17 
出願番号 特願2016-523737(P2016-523737)
審決分類 P 1 8・ 121- WYF (H01L)
P 1 8・ 113- WYF (H01L)
最終処分 成立  
前審関与審査官 長谷川 直也  
特許庁審判長 加藤 浩一
特許庁審判官 井上 和俊
小川 将之
発明の名称 ICPプラズマ処理チャンバ内における高収率・基板最端部欠陥低減のための単一リング設計  
代理人 安齋 嘉章  
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