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| 審決分類 |
審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない(前置又は当審拒絶理由) B01J |
|---|---|
| 管理番号 | 1380239 |
| 総通号数 | 1 |
| 発行国 | JP |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2022-01-28 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2020-01-10 |
| 確定日 | 2021-12-01 |
| 事件の表示 | 特願２０１８−１１６１２５「マイクロ波プラズマ処理を使用した多相複合材料の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成３０年１２月 ６日出願公開、特開２０１８−１９２４７１〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 本件審判の請求は、成り立たない。 |
| 理由 |
第１ 手続の経緯 本願は、２０１４年３月１８日〔パリ条約による優先権主張外国庁受理 ２０１３年３月１８日及び２０１４年３月１３日 ２件とも米国〕を国際出願日とする特願２０１６−５０４３２６号の一部を、平成３０年６月１９日に新たな特許出願としたものであって、 平成３０年７月１８日に手続補正がなされ、平成３１年４月１７日付けの拒絶理由通知に対し、令和元年７月２２日付けで意見書の提出とともに手続補正がなされ、 令和元年９月５日付けの拒絶査定（謄本発送は同年９月１０日）に対し、令和２年１月１０日付けで審判請求がなされると同時に手続補正がなされ、令和２年７月２日に上申書の提出がなされ、 令和２年９月１５日付けの当審による拒絶理由通知に対し、令和３年３月２６日付けで意見書の提出とともに誤訳訂正書を提出してする手続補正がなされたものである。 なお、令和２年６月２２日に請求人は「アマスタン・テクノロジーズ・エル・エル・シー」から現名称に名称変更をした。 第２ 本願発明について 本願の請求項１〜２４に係る発明は、令和３年３月２６日付けの誤訳訂正書を提出してする手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜２４に記載された事項により特定されるとおりのものであり、その請求項１に係る発明（以下「本１発明」ともいう。）は、次のとおりのものである。 「マイクロ波生成プラズマを使用して粒子を作製する方法であって、 塩溶液の前駆体液滴をマイクロ波プラズマトーチ中へ導入すること、 マイクロ波生成プラズマに向かう少なくとも１つの同軸層流のガス流を使用して前記前駆体液滴を連行すること、 前記前駆体液滴を前記マイクロ波生成プラズマ内の高温に暴露すること、および 前記マイクロ波生成プラズマ中での前記前駆体液滴の滞留時間を制御すること を含み、 前記のマイクロ波プラズマ中での前記前駆体液滴の滞留時間を制御することは、プラズマプルームの容積を制御することを含む、方法。」 第３ 令和２年９月１５日付けの拒絶理由通知の概要 令和２年９月１５日付けの拒絶理由通知では、理由１として「この出願の請求項１〜２５に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物１〜２に記載された発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。」との拒絶の理由が指摘されるとともに、次の刊行物１〜２が提示されている。 刊行物１：米国特許出願公開第２００８／０１７３６４１号明細書 刊行物２：特開平５−２６９３７２号公報 第４ 当審の判断 １．引用刊行物の記載事項 （１）上記刊行物１には、和訳にして、次の記載がある。 摘記１ａ：請求項１ 「１．材料を処理するためのマイクロ波プラズマ装置であって、プラズマ室；マイクロ波放射を生成するためのマイクロ波放射源；プラズマ室にマイクロ波放射源からのマイクロ波放射を案内する導波管；プラズマ室にガスを提供するためのプラズマ室との流体連通の供給；及びプラズマ室にプロセス材料を導入するためのプラズマ室と連通された材料供給システムを含み、ここでマイクロ波放射はプラズマジェットを形成するためにガスと連結され、ここでプロセス材料はプラズマジェットとの接触を通じて製品材料が形成される装置。」 摘記１ｂ：段落００２２ 「［００２２］図１を参照するに、本発明の実施態様に相当する材料処理のためのマイクロ波プラズマ装置１０は、導波管１２を貫通するプラズマ室１８へのマイクロ波源１６からのマイクロ波放射１４を案内する導波管１２を含んでいる。装置１０は、プラズマ室１８にプロセス材料２２を供給する材料供給システム２０、プラズマ室１８にプロセスガス２６を供給する加圧源２４、及びプラズマ室１８に包囲ガス３０を供給する加圧源２８も含んでいる。装置１０は、マイクロ波源１６に対するプラズマ室１８からのマイクロ波放射の反射を最小限にするためのマイクロ波源１６と導波路１２に連通するインピーダンス整合部３２をさらに含んでいる。装置１０は、導波路１２に連通する反射電力保護装置３４を含み得る。・・・」 摘記１ｃ：段落００３１ 「［００３１］別の実施形態では、図３に示すように、エミッタロッド９０が、材料供給システム２０から管６４を通って突出している。材料供給システム２０は、エミッタロッド９０がプラズマ室１８の内部へ供給する摩擦ホイール９２を備えている。コンピュータ制御可能なＤＣステッピングモータ（図示せず）が摩擦ホイール９２を駆動する。ＤＣステッピングモータを制御するためのコンピュータプログラムは、プラズマジェットの温度、マイクロ波源の出力レベル、プロセスガスの質量速度、及びエミッタロッドの長さ９４のような、検出又は派生した変数に基づいてモータ角度を調整する。図３に示す実施形態によれば、加圧された供給源２４が、材料供給システム２０と流体連通しており、プロセスガス２６はエミッタ管６４を介してプラズマ室１８に流入する。」 摘記１ｄ：段落００４３〜００４４ 「［００４３］…液滴８９は、混合室８７を通って流れる搬送ガスとして搬送ガス８０中に懸濁される。搬送ガス８０は、エミッタ管６４を通ってプラズマ室１８に提供される噴射機６２を介して供給されるプロセスガス２６と完全に混合するように、材料２２がプロセスガス２６のプラズマジェット３６中に同伴されるようになる。例えば、プロセス材料２２を含有する液滴は、直径が約１０ミクロン（１０μｍ）であってもよく、搬送ガス８０は、軸５４に実質的に平行な線に沿って、プラズマ室１８の中に注入されてもよい。… ［００４４］液滴８９の実質的な均一性は、従前に達成可能であったものよりも実質的に向上した、大きさ、速度、温度、及び溶融状態の均一性を有する製品材料１００の提供を、マイクロ波プラズマ装置１０ができるようにする。図２に示す実施形態では、製品材料１００は、ターゲット１０２に向かう実質的な速度を有する溶融液滴又は部分溶融粒子としてプラズマ室１８から排出される。製品材料１００の全てが、粒子又は液滴の、大きさ、速度、温度、及び相において、実質的に均一である。」 摘記１ｅ：段落００５０及び００５２ 「［００５０］約１キロワット（１ｋＷ）以上のマイクロ波源の出力レベルでは、マイクロ波放射は軸５４に実質的に平行に例外的な長さにまで、プラズマジェット３６の長さを増大させることができ、その長さはＲＦ及びＤＣアーク放電により得られる最大の長さを超える。他の変数としては、マイクロ波源１６の出力レベル、プロセスガス２６の速度によりプラズマジェット３６の長さを大きくすることができる。しかしながら、プロセスガス２６の過度の速度または質量流量は、プロセスガスに結合するマイクロ波放射１４の能力を超えることがあり、それによってプラズマジェット３６を消滅させる。…例示的な実施形態では、プラズマジェット３６は、５インチにまで伸ばされる。… ［００５２］プロセス材料２２の望ましい組成物は、限定されないが、酸化物、窒化物及び炭化物のセラミックス、希土類のセラミック、金属及び金属合金のいずれかである。」 摘記１ｆ：段落００５５〜００５６ 「［００５５］本発明の別の利点は、その設計により、ガスの制御された層流に原料を軸方向に注入することを可能にすることである。その結果、注入された粒子の熱履歴は、他の粒子の熱履歴と非常に類似している。例えば、十分に発達した流れのために、チューブ中心から半径の１／２以内に注入された粒子は、２５％以内の同様の速度を有する。これによって、類似の滞留時間と類似する融解挙動を示すようになる。 ［００５６］本発明の別の利点は、軸方向の注入の構成は、非常に均一な大きさの液滴を生成する圧電液滴製造器の使用を可能にすることである。このほぼ均一な滞留時間と組み合わされた場合には、従来技術と比較して、高度に均質な被膜及び粉末を製造する非常に均一な溶融状態となる。」 摘記１ｇ：図１ 「  」 摘記１ｈ：図３ 「  」 （２）上記刊行物２には、次の記載がある。 摘記２ａ：請求項１ 「【請求項１】液状物を供給する供給管とガス供給管とを合わせ持つ多重管構造を有する原料供給ノズルをプラズマ炎中に挿入し、プラズマ炎中に液状物が供給できるプラズマ装置を用いてセラミックス粉末を製造する方法において、（Ｉ）１種類の金属元素を有する金属化合物あるいは２種類以上の混合物、（ＩＩ）２種類以上の金属元素を有する金属化合物、のうち（Ｉ）および／または（ＩＩ）を溶媒中に溶解および／または分散させた液状物をプラズマ炎中に供給することを特徴とするセラミックス粉末の製造方法。」 摘記２ｂ：段落００２１〜００２２ 「【００２１】…さらに特定のプラズマ条件、液状物中の正味の原材料の濃度および分散粒子の粒度条件の時に、球状のセラミックス粉末を製造できる。加えて液状物中の正味の原材料の濃度および分散粒子の粒度条件をさらに適切に選ぶことにより、セラミックスの超微粒子が得られる。 【００２２】用いるプラズマ源としては、好ましくは、高周波誘導プラズマ、マイクロ波誘導プラズマあるいはＥＣＲプラズマなど何れでも良いが、これのみに限定されるものではなく、例えば直流アークプラズマも使用可能である。」 摘記２ｃ：段落００２７〜００２８ 「【００２７】実施例１〜７ 各セラミックスの前駆体である市販のシュウ酸マグネシウム、シュウ酸バリウム、シュウ酸アルミニウム、シュウ酸イットリウム、シュウ酸ランタン、アンモニウムミョウバン、水酸化アルミニウムの篩分けを行ない、粒径４５μｍ以下のの粉末を得た。この粉末１０ｇに対して純水１００ｍｌを加え、液状物を調製した。 【００２８】次に高周波誘導プラズマ装置において、原料供給ノズルの先端がプラズマ炎中に位置するように原料供給ノズルを設置し、プラズマ炎を発生させ、このプラズマ炎中に先に調製した液状物を原料供給ノズルにより噴霧供給した。この時の実験条件を表１に示す。液状物は、１．０ｍｌ／分の割合で原料供給ポンプを用い供給した。その結果、プラズマ炎の乱れもなく、液状原料を安定供給でき、セラミックス粉末を得た。得られたセラミックス粉末は、メノー乳鉢により粉砕後、Ｘ線回折実験を行ない、最強ピーク強度比を求めた。その結果を表２に示す。」 ２．刊行物１に記載された発明 摘記１ｂの「図１を参照するに、本発明の実施態様に相当する材料処理のためのマイクロ波プラズマ装置１０は、…プラズマ室１８にプロセス材料２２を供給する材料供給システム２０、プラズマ室１８にプロセスガス２６を供給する加圧源２４…も含んでいる。」との記載、 摘記１ｃの「ＤＣステッピングモータを制御するためのコンピュータプログラムは、プラズマジェットの温度、マイクロ波源の出力レベル、プロセスガスの質量速度、及びエミッタロッドの長さ９４のような、検知又は派生した変数に基づいてモータ角度を調整する。」との記載、 摘記１ｄの「液滴８９は、混合室８７を通って流れる搬送ガスとして搬送ガス８０中に懸濁される。搬送ガス８０は、エミッタ管６４を通ってプラズマ室１８に提供される噴射機６２を介して供給されるプロセスガス２６と完全に混合するように、材料２２がプロセスガス２６のプラズマジェット３６中に同伴されるようになる。例えば、プロセス材料２２を含有する液滴は、直径が約１０ミクロン（１０μｍ）であってもよく、搬送ガス８０は、軸５４に実質的に平行な線に沿って、プラズマ室１８の中に注入されてもよい。…液滴８９の実質的な均一性は、従前に達成可能であったものよりも実質的に向上した、大きさ、速度、温度、及び溶融状態の均一性を有する製品材料１００の提供を、マイクロ波プラズマ装置１０ができるようにする。…製品材料１００の全てが、粒子又は液滴の、大きさ、速度、温度、及び相において、実質的に均一である。」との記載、 摘記１ｆの「ほぼ均一な滞留時間と組み合わされた場合には、従来技術と比較して、高度に均質な被膜及び粉末を製造する非常に均一な溶融状態となる。」との記載、及び 摘記１ｇの図１の記載からみて、刊行物１には、 『プラズマ室１８にプロセス材料２２を供給し、プラズマ室１８にプロセスガス２６を供給する、マイクロ波プラズマ装置１０を用いる、材料処理の方法であって、 プロセス材料２２を含有する液滴は直径が約１０ミクロンであり、搬送ガス８０は、軸５４に実質的に平行な線に沿って、プラズマ室１８の中に注入され、 搬送ガス８０は、噴射機６２を介して供給されるプロセスガス２６と完全に混合して、材料２２がプロセスガス２６のプラズマジェット３６中に同伴され、 プラズマジェットの温度、マイクロ波源の出力レベル、プロセスガスの質量速度、及びエミッタロッドの長さの変数に基づいて、コンピュータプログラムによる制御を行い、 ほぼ均一な滞留時間と組み合わされて、高度に均質な粉末を製造する非常に均一な溶融状態となり、 粒子の大きさが均一性を有する製品材料１００を提供する方法。』についての発明（以下「刊１発明」という。）が記載されているといえる。 ３．対比 本願請求項１に係る発明（以下「本１発明」ともいう。）と刊１発明とを対比する。 刊１発明の「マイクロ波プラズマ装置１０」を用いる「粒子の大きさが均一性を有する製品材料１００を提供する方法」は、本１発明の「マイクロ波生成プラズマを使用して粒子を作製する方法」に相当する。 刊１発明の「プロセス材料２２を含有する液滴」を「軸５４に実質的に平行な線に沿って、プラズマ室１８の中に注入」する構成は、刊１発明の「液滴」と「プラズマ室１８」の各々が本１発明の「前駆体液滴」と「マイクロ波プラズマトーチ」の各々に対応するので、本１発明の「前駆体液滴をマイクロ波プラズマトーチ中へ導入すること」に相当する。 刊１発明の「搬送ガス８０は、噴射機６２を介して供給されるプロセスガス２６と完全に混合して、材料２２がプロセスガス２６のプラズマジェット３６中に同伴」は、刊１発明の「プラズマジェット３６」と「プロセスガス２６」と「材料２２」の各々が本１発明の「マイクロ波生成プラズマ」と「同軸層流のガス流」と「前記前駆体液滴」の各々に対応するので、本１発明の「マイクロ波生成プラズマに向かう少なくとも１つの同軸層流のガス流を使用して前記前駆体液滴を連行すること」に相当する。 刊１発明の「ほぼ均一な滞留時間」と組み合わされて、高度に均質な粉末を製造する「非常に均一な溶融状態」は、刊１発明の材料２２を含有する液滴がプラズマジェット３６の中で「溶融状態」になる程度の高温にさらされていることから、本１発明の「前記前駆体液滴を前記マイクロ波生成プラズマ内の高温に暴露すること」に相当する。 してみると、本１発明と刊１発明は 『マイクロ波生成プラズマを使用して粒子を作製する方法であって、 前駆体液滴をマイクロ波プラズマトーチ中へ導入すること、 マイクロ波生成プラズマに向かう少なくとも１つの同軸層流のガス流を使用して前記前駆体液滴を連行すること、 前記前駆体液滴を前記マイクロ波生成プラズマ内の高温に暴露すること、 を含む、方法。』という点において一致し、次の（α）及び（β）の点において一応相違する。 （α）前駆体液滴が、本１発明は「塩溶液」からなるのに対して、刊１発明は「塩溶液」からなるものとして特定されていない点 （β）本１発明は「前記マイクロ波生成プラズマ中での前記前駆体液滴の滞留時間を制御することを含み、前記のマイクロ波プラズマ中での前記前駆体液滴の滞留時間を制御することは、プラズマプルームの量を制御することを含」むのに対して、刊１発明は、当該「前記マイクロ波生成プラズマ中での前記前駆体液滴の滞留時間を制御することを含み、前記のマイクロ波プラズマ中での前記前駆体液滴の滞留時間を制御することは、プラズマプルームの容積を制御することを含」むか否か不明な点 ４．判断 （１）上記（α）の相違点について 刊行物２には「マイクロ波誘導プラズマ」をプラズマ源（摘記２ｂの段落００２２）とした「金属化合物…を溶媒中に溶解および／または分散させた液状物をプラズマ炎中に供給することを特徴とするセラミックス粉末の製造方法」に関する発明（摘記２ａの請求項１）が記載され、具体的には「セラミックスの前駆体である市販のシュウ酸マグネシウム」等の「粉末１０ｇに対して純水１００ｍｌを加え、液状物を調製」し、この「調製した液状物」を「プラズマ炎中」に噴霧供給する発明（摘記２ｃの段落００２７〜００２８の実施例）が記載されている。 そして、刊１発明を含む刊行物１に記載の発明では「プロセス材料２２の望ましい組成物は、限定されない」が「セラミック」などの材料が好ましいとされている（摘記１ｅの段落００５２）。 してみると、刊行物１及び２に記載の発明は『マイクロ波誘導プラズマをプラズマ源とした粉末の製造方法』に関する技術分野に属するという点で共通するものであるところ、このような技術分野において、原材料を「セラミックスの前駆体」である「シュウ酸マグネシウム」等を水で溶解した「塩溶液」の形態で供給することは、刊行物２に記載されるように普通に知られているので、望ましいプロセス材料として「セラミック」を想定している刊１発明の「プロセス材料２２を含有する液滴」を、刊行物２に記載の「セラミックスの前駆体」であるシュウ酸マグネシウム等の「塩溶液の前駆体液滴」とすることは、当業者にとって通常の創作能力の発揮の範囲である。 （２）上記（β）の相違点について ア 刊行物１の段落００４３〜００４４（摘記１ｄ）の「液滴８９は…搬送ガス８０中に懸濁され…エミッタ管６４を通ってプラズマ室１８に提供され…材料２２が…プラズマジェット３６中に同伴されるようになる。…液滴８９の実質的な均一性は…向上した、大きさ、速度、温度、及び溶融状態の均一性を有する製品材料１００の提供を…できるようにする。」との記載にあるように、刊行物１に記載の発明は「液滴」の均一性を向上させることで、大きさや速度や温度などの均一性を有する製品材料１００の提供を可能にしているものである。 イ そして、刊行物１の段落００３１（摘記１ｃ）の「図３に示すように、エミッタロッド９０が、…管６４を通って突出し…ＤＣステッピングモータを制御するためのコンピュータプログラムは、プラズマジェットの温度、マイクロ波源の出力レベル、プロセスガスの質量速度、及びエミッタロッドの長さ９４のような…変数に基づいてモータ角度を調整する。」との記載にあるように、刊１発明は「コンピュータプログラムによる制御」によってエミッタロッド９０の先端部分の突出位置を上下することで、プラズマ室１８内に形成される「プラズマジェット」の大きさ（容積）や、これを通過する「液滴」の速度（単位時間当たりの移動距離）などを変動させ、これにより「大きさ、速度、温度、及び溶融状態の均一性を有する製品材料１００の提供」を可能にしているものであって、プラズマジェットの大きさ（容積）や、これを通過する液滴の速度などを変動させる制御によって、液滴のプラズマ中の滞留時間（容積が大きくなれば滞留時間も長くなり、液滴の移動速度が遅くなれば滞留時間も長くなる）が制御されることは明らかである。 ウ してみると、刊１発明は、コンピュータプログラムによる「制御」によって、エミッタロッド９０の突出位置を調整し、プラズマ室１８の内部にあるプラズマジェット３６（プラズマプルーム）の大きさ（容積）を変動させて、当該プラズマジェット３６の中を通過する「液滴」の「速度」などの均一性を制御しているといえるので、刊１発明は、本１発明の「前記マイクロ波生成プラズマ中での前記前駆体液滴の滞留時間を制御することを含み、前記のマイクロ波プラズマ中での前記前駆体液滴の滞留時間を制御することは、プラズマプルームの容積を制御することを含」むという構成を実質的に具備しているといえるものである。したがって、上記（β）の点に実質的な差異があるとはいえない。 エ 仮に上記（β）の点が、実質的な差異があったとしても、刊行物１の段落００５５〜００５６（摘記１ｆ）の記載にあるように均一な滞在時間とするために「前駆体液滴の滞留時間」を制御することは刊１発明においても必要なことであり、刊行物１の段落００５０（摘記１ｅ）の「マイクロ波源１６の出力レベル、プロセスガス２６の速度によりプラズマジェット３６の長さを大きくすることができる。」との記載にあるように、プラズマジェットの長さも刊１発明において調整可能であり、かつ所定の処理を行うために何らかの制御が必要であることも明らかである。そして、「前記のマイクロ波プラズマ中での前記前駆体液滴の滞留時間を制御することは、プラズマプルームの容積を制御することを含む」ことは、令和３年３月２６日付けの意見書の３．（Ａ）（３）において「液滴がプラズマを通過するとき、プラズマプルームを通過するのに費やした時間自体（すなわち滞留時間）は、容積（または空間サイズ）がより小さいプラズマと比較して、大きなプラズマを通過するときの方が大きくなる。これは、他の全ての範囲においても等しく、プラズマを通過するのに費やす時間は、プラズマの容積または空間サイズが大きくなるにつれて大きくなるからことから明らか」と主張するように自明のことである。したがって、上記（β）は、当業者が刊行物１の記載及び技術常識に基づいて当業者が容易に想到しうることである。 オ なお、同意見書の３．（Ｂ）において『刊行物１の「コンピュータプログラム」についての唯一の言及は、例えば段落［００３１］にある、「ＤＣステッピングモーターを制御するコンピュータプログラムは、プラズマジェット温度などの検出または導出された変数に基づいてモーター角度を調整する」という部分になります。なお、このモーターは刊行物１には具体的には示されておらず、単に摩擦ホイール（図３の要素９２）を駆動するのに用いて、エミッタロッド（図３の要素９０）の位置を制御するとあるのみです。この教示からは、刊行物１に記載されたコンピュータプログラムが、エミッタロッド（９０）を動かすために摩擦ホイール（９２）のモーターを制御することは明らかです。また、エミッタロッドはプラズマの点火に使用されるため、チャンバー内のプラズマプルームの位置に影響を与える可能性があるものの、プラズマプルームの容積（すなわち、空間サイズ）、つまりどれだけの時間、粒子がプラズマプルーム内に位置するのかということには影響しません。』と主張するが、図３（摘記１ｈ）のエミッタロッド９０の先端部分の突出位置が上下（長さ９４）に制御されれば、プラズマジェット３６の上端の位置も上下に変動し、その一方で、プラズマ室１８の出口５２の位置は上下に変動しないので、結果としてプラズマジェット３６の容積に影響が生じることは明らかであって、上記「プラズマプルームの容積…には影響しません」との主張は採用できない。 （３）本１発明の効果について 本願明細書の段落００１８には「概して均一粒径及び均一熱履歴を有する粒子を生成することである。」との記載があるところ、刊行物１の段落００４４（摘記１ｄ）には「従前に達成可能であったものよりも実質的に向上した、大きさ、速度、温度、及び溶融状態の均一性を有する製品材料１００の提供」との記載があるので、得られる粒子の「粒径」や「熱履歴」の均一性は、刊行物１に実質的に記載された効果であり、本１発明に格別予想外の効果があるとは認められない。 （４）まとめ 以上総括するに、本１発明は、刊行物１及び２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許をすることができないものである。 第５ むすび 以上のとおり、本１発明は、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 別掲 |
（行政事件訴訟法第４６条に基づく教示） この審決に対する訴えは、この審決の謄本の送達があった日から３０日（附加期間がある場合は、その日数を附加します。）以内に、特許庁長官を被告として、提起することができます。 審判長 門前 浩一 出訴期間として在外者に対し９０日を附加する。 |
| 審理終結日 | 2021-06-16 |
| 結審通知日 | 2021-06-22 |
| 審決日 | 2021-07-14 |
| 出願番号 | P2018-116125 |
| 審決分類 |
P
1
8・
121-
WZ
(B01J)
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| 最終処分 | 02 不成立 |
| 特許庁審判長 |
門前 浩一 |
| 特許庁審判官 |
亀ヶ谷 明久 木村 敏康 |
| 発明の名称 | マイクロ波プラズマ処理を使用した多相複合材料の製造方法 |
| 代理人 | 特許業務法人川口國際特許事務所 |