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審決分類 審判 全部申し立て 2項進歩性  C25D
審判 全部申し立て 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備  C25D
審判 全部申し立て 発明同一  C25D
管理番号 1385176
総通号数 6 
発行国 JP 
公報種別 特許決定公報 
発行日 2022-06-24 
種別 異議の決定 
異議申立日 2021-06-02 
確定日 2022-03-25 
異議申立件数 1 
訂正明細書 true 
事件の表示 特許第６７９２８２９号発明「蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。 
結論 特許第６７９２８２９号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１１について訂正することを認める。 特許第６７９２８２９号の請求項１ないし１１に係る特許を維持する。 
理由 第１ 手続の経緯

特許第６７９２８２９号の請求項１〜１１に係る特許についての出願は、令和１年５月１３日（優先権主張 平成３０年１１月１３日 日本国）を出願日とする特願２０１９−９０９４６号であり、令和２年１１月１１日にその特許権の設定登録がされ、同年１２月２日に特許掲載公報が発行され、その後、全請求項（請求項１〜１１）に係る特許について、令和３年６月２日に特許異議申立人村戸良至（以下、「異議申立人」という。）により特許異議の申立てがなされ、同年８月３日付けで取消理由が通知され、その指定期間内である同年９月２７日に特許権者より意見書の提出及び訂正の請求があり、これに対し、異議申立人からは意見書の提出がなかったものである。

第２ 訂正の適否

１ 訂正事項
上記令和３年９月２７日になされた訂正の請求は、本件特許請求の範囲を、上記訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１１について訂正することを求めるものであって、その訂正（以下、「本件訂正」という。）の具体的な訂正事項は次のとおりである。

特許請求の範囲の請求項１１に「金属板の製造方法。」とあるのを、「金属板の製造方法であり、前記製造方法は、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であるか否かを検査する検査工程を含み、前記圧延工程における圧延条件及び前記アニール工程におけるアニール条件が、前記検査工程の結果に基づいて設定される、金属板の製造方法。」に訂正する。

２ 訂正の目的の適否、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
（１）上記訂正事項は、訂正前の請求項１１の「金属板の製造方法」が、「前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であるか否かを検査する検査工程を含み、前記圧延工程における圧延条件及び前記アニール工程におけるアニール条件が、前記検査工程の結果に基づいて設定される」ことを含むことを限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。

（２）上記訂正事項の内、「前記製造方法は、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であるか否かを検査する検査工程を含み」は、本件明細書の【００８７】の「アニール工程の後、金属板６４の断面に現れる結晶粒の寸法を検査する結晶粒検査工程を実施する。具体的には、結晶粒の平均断面積が第１閾値以上且つ第２閾値以下であるか否かを検査する。」との記載、及びこの第１閾値以上且つ第２閾値以下に関する同【００９３】の「検査工程においては、例えば、結晶粒の平均断面積が０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下である金属板６４を、合格と判定する。また、結晶粒の平均断面積が０．５μｍ２未満である、又は５０μｍ２を超える金属板６４を、不合格と判定する。」等の記載に基づくものである。
また、上記訂正事項の内、「前記圧延工程における圧延条件及び前記アニール工程におけるアニール条件が、前記検査工程の結果に基づいて設定される」は、同【０１１０】の「検査工程を金属板６４の製造方法における金属板６４の選別以外の目的で用いる例について説明する。例えば、結晶粒の平均断面積に基づく金属板６４の検査は、圧延工程の条件やアニール工程の条件などの、金属板６４を製造するための条件を最適化するために利用されてもよい。具体的には、まず、様々な圧延条件やアニール条件で金属板６４を製造し、得られた金属板６４の結晶粒の平均断面積を算出する。また、圧延条件及びアニール条件と、得られた金属板６４の結晶粒の平均断面積とを照らし合わせる。これによって、結晶粒の平均断面積が０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下である金属板６４を高い確率で製造するための圧延条件及びアニール条件などを見出すことができる。このように、結晶粒の平均断面積に基づく金属板６４の検査は、適切な圧延条件及びアニール条件を見出すために利用されてもよい。」との記載等に基づくものであるから、上記訂正事項は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内の訂正である。

（３）上記訂正事項は、訂正前の請求項１１の「金属板の製造方法」をさらに限定するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。

３ 小括
本件訂正は、請求項１１について訂正することを求めるものであるところ、上記２のとおり、訂正事項は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものに該当し、かつ、同条第９項において準用する同法第126条第5項及び第６項の規定に適合するものであるから、訂正後の請求項１１について訂正することを認める。

第３ 本件発明

上記第２のとおり、本件訂正は認容し得るものであるから、本件訂正後の請求項１１に係る発明を含め、請求項１ないし請求項１１に係る発明（以下、各請求項に係る発明及び特許を項番に対応して「本件発明１」、「本件特許１」などといい、併せて「本件発明」、「本件特許」ということがある。）の記載は、次のとおりである。
「【請求項１】
蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって、
前記金属板は、少なくともニッケルを含む鉄合金の圧延材からなり、且つ３０μｍ以下の厚みを有し、
前記金属板の断面のうち前記金属板の圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面に現れる結晶粒をＥＢＳＤ法で測定し、測定結果を解析することにより算出される、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であり、
前記平均断面積は、ＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される、金属板。
【請求項２】
前記圧延材におけるニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ３８質量％以下である、請求項１に記載の金属板。
【請求項３】
前記結晶粒の平均断面積が、２．０μｍ２以上である、請求項１又は２に記載の金属板。
【請求項４】
前記金属板は、１３μｍ以上の厚みを有する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の金属板。
【請求項５】
蒸着マスクであって、
金属板と、
金属板に形成された貫通孔と、を備え、
前記金属板は、少なくともニッケルを含む鉄合金の圧延材からなり、且つ３０μｍ以下の厚みを有し、
前記金属板の断面のうち前記金属板の圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面に現れる結晶粒をＥＢＳＤ法で測定し、測定結果を解析することにより算出される、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であり、
前記平均断面積は、ＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される、蒸着マスク。
【請求項６】
前記圧延材におけるニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ３８質量％以下である、請求項５に記載の蒸着マスク。
【請求項７】
前記結晶粒の平均断面積が、２．０μｍ２以上である、請求項５又は６に記載の蒸着マスク。
【請求項８】
前記金属板は、１３μｍ以上の厚みを有する、請求項５乃至７のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項９】
請求項５乃至８のいずれか一項に記載の蒸着マスクと、
前記蒸着マスクが溶接されたフレームと、を備える、蒸着マスク装置。
【請求項１０】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の金属板を準備する工程と、
前記金属板を長手方向に沿って搬送する工程と、
前記金属板に貫通孔を形成する加工工程と、を備える、蒸着マスクの製造方法。
【請求項１１】
蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法であって、
少なくともニッケルを含む鉄合金からなり、且つ３０μｍ以下の厚みを有する前記金属板を、圧延法によって圧延材として得る作製工程を備え、
前記作製工程は、７０％以上９５％以下の圧下率で前記金属板を圧延する圧延工程と、前記圧延工程によって得られた前記金属板を搬送しながら５００℃〜６００℃の範囲内で３０秒〜９０秒にわたってアニールするアニール工程と、を含み、
前記金属板の断面のうち圧延材の圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面に現れる結晶粒をＥＢＳＤ法で測定し、測定結果を解析することにより算出される、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であり、
前記平均断面積は、ＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される、金属板の製造方法であり、
前記製造方法は、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であるか否かを検査する検査工程を含み、
前記圧延工程における圧延条件及び前記アニール工程におけるアニール条件が、前記検査工程の結果に基づいて設定される、金属板の製造方法。」

第４ 令和３年８月３日付けで通知した取消理由及びこの取消理由において採用しなかった異議申立人による特許異議の申立理由の概要

１ 令和３年８月３日付けで通知した取消理由の概要
・特許法第36条第6項第1号所定の規定違反（以下、「取消理由」という。）
本件明細書の【０００７】及び【０００８】等の記載によれば、製造方法の発明である訂正前の請求項１１に係る発明の課題は、「蒸着マスクの厚みが小さくても、蒸着マスクを構成する金属板の強度が低下せず、蒸着マスクの製造工程や蒸着マスクの使用の際に金属板に塑性変形が生じない金属板の製造方法」を提供することにあるといえる。
そして、本件明細書の特に「検査工程」に関する、同【００８９】、【００９０】、【００９１】及び【００９３】等の記載によれば、金属板の強度を確保するには、金属板の結晶粒の寸法を小さくすることは知られていたところ、３０μｍ以下の厚みを有する金属板の結晶粒の寸法を定量的に把握する手法として、ＥＢＳＤ法に基づいて結晶粒の平均断面積を算出する方法が、精度などの点で優れていることに基づき、この結晶粒の平均断面積が第１閾値以上第２閾値以下であるか否かを検査し、この条件を満足する金属板を選別していることが理解される。また、同【０１４８】〜【０１７１】に記載される「実施例」においても、同【０１６２】に記載される第２例〜第１６例は、【０１６３】でＥＢＳＤ法に基づいて結晶粒の平均断面積を算出し、「ＯＫ」又は「ＮＧ」の判定を行っている。
一方で、製造方法における「圧延工程」及び「アニール工程」について、本件明細書には、これらの工程の条件に関する概略的な記載を、それぞれ認めることができるが、「圧延工程」又は「アニール工程」でこれらの条件を満足すれば、ＥＢＳＤ法に基づいて算出された結晶粒の平均断面積が第１閾値以上第２閾値以下となるのかは明らかでない。
そうすると、本件明細書の記載によれば、検査工程において、ＥＢＳＤ法に基づいて結晶粒の平均断面積を算出し、この結晶粒の平均断面積が第１閾値以上第２閾値以下であるか否かを検査し、選別工程において、この条件を満足する金属板を選別することにより、上記の発明の課題を解決していると理解するのが相当である。
しかしながら、本件発明１１には、上記の検査工程、選別工程に関する特定はなされていないから、本件発明１１は、発明の詳細な説明の記載又はその示唆により当業者が本件発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるということはできないし、また、その記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし本件発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるということはできない。

２ 取消理由において採用しなかった異議申立人による特許異議の申立理由の概要
（１）特許法第29条の2所定の規定違反（以下、「申立理由１」という。）
本件発明１〜１０及び訂正前の請求項１１に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と同一であるから、それらの特許は、特許法第29条の2の規定に違反してされたものである。
記
甲第１号証：国際公開２０２０／０６７５３７号

（２）特許法第29条第2項所定の規定違反（以下、「申立理由２」という。）
ア 本件発明１〜１０は、下記甲第２号証に記載された発明及び下記甲第６〜８号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明できたものであり、訂正前の請求項１１に係る発明は、下記甲第２号証に記載された発明及び下記甲第６〜９号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから、それらの特許は、特許法第29条第2項の規定に違反してされたものである（以下、「申立理由２−１」という。）。
イ 本件発明１〜１０は、下記甲第３号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明できたものであり、訂正前の請求項１１に係る発明は、下記甲第３号証に記載された発明及び下記甲第９号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから、それらの特許は、特許法第29条第2項の規定に違反してされたものである（以下、「申立理由２−２」という。）。
ウ 本件発明１〜１０は、下記甲第４号証に記載された発明及び下記甲第６〜８号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから、それらの特許は、特許法第29条第2項の規定に違反してされたものである（以下、「申立理由２−３」という。）。
エ 本件発明１〜１０は、下記甲第５号証に記載された発明及び下記甲第６〜８号証に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明できたものであるから、それらの特許は、特許法第29条第2項の規定に違反してされたものである（以下、「申立理由２−４」という。）。
記
甲第２号証：特開平８−２６０１０９号公報
甲第３号証：特開２０１４−１０１５４３号公報
甲第４号証：特開２００１−２６２２７８号公報
甲第５号証：特開平５−１４４３８４号公報
甲第６号証：国際公開第２０１８／０６６６１１号
甲第７号証：特開平１０−３１９８７０号公報
甲第８号証：特開２０１７−１５００３８号公報
甲第９号証：特開２０１７−６６５３０号公報
（以下、「甲第１号証」を「甲１」などという。）

（３）特許法第36条第6項第1号所定の規定違反（以下、「申立理由３」という。）
本件発明の課題を解決するために、本件発明１の金属板は、「前記金属板の断面のうち前記金属板の圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面に現れる結晶粒をＥＢＳＤ法で測定し、測定結果を解析することにより算出される、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であり、
前記平均断面積は、ＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される、」との構成を備えるところ、この構成を得るために、アニール工程の温度や時間は重要な要件であると理解されるが、【０１４８】〜【０１７１】に記載された実施例において、金属板の厚みや圧下率については記載があるものの、アニールに関しては、温度、時間のみならず、アニール工程そのものが行われたのか否かについても開示されていない。
ここで、【００７７】には、「アニール工程の条件は、金属板６４の厚みや圧下率などに応じて適切に設定されるが、例えば、５００℃以上６００℃以下の範囲内で３０秒以上９０秒以下にわたってアニール工程が実施される。」との記載があるが、本件明細書の記載を見ても、本件発明１及び本件発明５における金属板の厚みや、訂正前の請求項１１に係る発明における圧下率において、５００℃以上６００℃以下の範囲内で３０秒以上９０秒以下のアニール工程が行われた場合に、どのような結晶粒が得られるのか理解できない。
そうすると、課題を解決するために必要な上記の構成をどのようにして得るのか理解できないから、本件発明１、５、これらの発明を引用する本件発明２〜４、６〜１０、及び訂正前の請求項１１に係る発明は、発明の詳細な説明の記載により、発明の課題を解決できると当業者が認識できるように記載された範囲を超えており、サポート要件を満たしていない。

第５ 当審の判断

１ 取消理由（特許法第36条第6項第1号所定の規定違反（サポート要件違反））について
取消理由は、要するに、本件発明の課題を解決するには、ＥＢＳＤ法に基づいて結晶粒の平均断面積を算出し、この結晶粒の平均断面積が第１閾値以上第２閾値以下であるか否かを検査する検査工程と、この条件を満足する金属板を選別する選別工程を含む金属板の製造方法である必要があると理解されるところ、訂正前の請求項１１に係る発明には、上記の検査工程、及び判定工程に関する特定はなされていないから、訂正前の請求項１１に係る発明は、サポート要件を満たしていないというものである。
本件訂正により、本件発明１１には、「蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法」が、「前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であるか否かを検査する検査工程」を含むことが特定されることにより、本件発明１１には、発明の課題を解決するのに直接的に必要な検査工程が特定された。そして、本件発明１１には、訂正前の請求項１に係る発明の、結晶粒の平均断面積が第１閾値以上第２閾値以下である条件を満足する金属板を選別する選別工程は、直接には特定されていないものの、本件発明１１は、訂正前の請求項１１に係る発明の、結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であることが満たされている金属板の製造方法として特定されているのであるから、上記検査工程後、当然、訂正前の請求項１１に係る発明の上記の条件を満たされている金属板を選別しているといえる。
そうすると、本件発明１１は、本件発明の課題を解決するのに必要な工程が特定されているものであり、本件発明の課題を解決できるものであるから、本件発明１１は、サポート要件を満たしており、取消理由には理由がない。

２ 申立理由１（特許法第29条の2所定の規定違反）について
甲１に係る日本語特許出願は、２０１９年（令和１年）９月２７日を国際出願日とする国際特許出願であり、本件特許についての出願の優先日である平成３０年１１月１３日の後に出願されたものであるから、特許法第184条の13の規定により読み替えて適用する同法第29条の2の規定中の、特許出願の日（優先日）前の「他の特許出願又は実用新案登録出願（第百八十4条の4第3項又は実用新案法第四十8条の4第3項の規定により取り下げられたものとみなされた第百八十4条の4第1項の外国語特許出願又は同法第四十8条の4第1項の外国語実用新案登録出願を除く。）」に該当しない。
したがって、申立理由１には、理由がない。
なお、この甲１に係る日本語特許出願は、本件特許についての出願の優先日前に出願された「特願２０１８−１８２９９３号」などを基礎出願として優先権を主張するものであり、特許法第184条の15第2項の規定により読み替えて適用する同法第41条第3項の規定により、当該日本語特許出願の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された発明に係る発明のうち、当該基礎出願の願書に最初に添付された明細書、特許請求の範囲又は図面に記載された発明は、当該日本語特許出願について国際公開がされた時に、当該基礎出願について出願公開されたものとみなして、同法第29条の2の規定を適用することから、本来、当該基礎出願を、特許法第29条の2所定の拡大先願の判断における、いわゆる「先願」とするのが相当であるが、ここでは、本件特許異議の申立てにかんがみ、当該日本語特許出願を「先願」として扱い、その国際出願日における国際出願の明細書、請求の範囲又は図面（以下、「甲１明細書等」という。）に記載された発明と本件発明との異同について、念のため検討しておく。
（１）甲１明細書等に記載の事項
ア 「請求の範囲
［請求項１］ 質量％にて、Ｎｉ：３５．０〜３７．０％、Ｃｏ：０．００〜０．５０％を含有し、残部がＦｅ及び不純物からなり、 板厚が５．００μｍ以上５０．００μｍ以下であるメタルマスク材料であって、 一辺が１００ｍｍの正方形の前記メタルマスク材料の試料を、当該試料の板厚が２／５になるまでその片側からエッチングをし、エッチングをした前記試料を定盤に載置した時の、前記試料の４角の浮き上がり量のうち最大値である反り量が５．０ｍｍ以下であることを特徴とするメタルマスク材料。」

イ 「技術分野
［０００１］ 本発明は、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）の製造等で使用されるメタルマスク材料とメタルマスクに関する。
背景技術
［０００２］ ＲＧＢ素子を個別にパターニングする塗り分け方式でＯＬＥＤをカラー表示する場合、メタルマスクを使用し、ＲＧＢ毎に他の色の電極開口部をマスキングして蒸着する。すなわち、ＯＬＥＤ用のメタルマスクは、窓枠形状のフレームにゆがみやたるみの無いようにテンションを付加した状態で固定され、図１８に示すように、有機ＥＬ発光材料３ａをマスク孔１ａからガラス基板又はフィルム基板等の基板２上に蒸着させる。
・・・
［０００６］ しかし、インバー合金からなるメタルマスク材料をハーフエッチングすると、メタルマスク材料の中央部が凹むように縁部側が反り返る変形（以下、「エッチング後の反り」という。）が生じる場合がある。このようなエッチング後の反りによって、前記基板２とのアライメントの精度が損なわれ、基板２上の画素パターンとメタルマスク１のパターンとの間に位置ずれが生じるため、有機ＥＬ素子の有機化合物層の微細なパターニングを行うことができないという問題が生じる。
・・・
［００１３］ 本発明は、このような問題に鑑みて成されたものであり、反り量が低減されるＯＬＥＤ用のメタルマスク材料とその製造方法とメタルマスクを提供することを課題とする。」

ウ 「実施例
［０１４４］ 以下、本発明の実施例を示すが、これらは本発明をより良く理解するために提供するものであり、本発明が限定されることを意図するものではない。
［０１４５］ ［実施例１］
表１０、１１の条件にて、冷間圧延の圧下率と焼鈍温度を調整することにより、試料Ｎｏ．１〜６のメタルマスク材料を製造した。表１０に記載された元素成分は、試料Ｎｏ．１〜６のメタルマスク材料の組成であり、表１０の”ＣＣ”は連続鋳造によってスラブが製造されたことを示す。また、最終焼鈍は、水素ガス雰囲気化で４．０秒以上保定することにより行った。
［０１４６］［表１０］

［０１４７］［表１１］

・・・
［０１４９］ 本発明例のメタルマスク材料の酸化皮膜厚は、図１６に示すように３．５ｎｍ未満であった。これらの試料Ｎｏ．１〜６のそれぞれを１００ｍｍ角にカットして、前記カットされた試料の片面をレジストで覆い、次いで、板厚が２／５になるまで塩化第二鉄水溶液中に浸漬することによりハーフエッチングを行った。試料Ｎｏ．２〜６の反り量は、いずれも５．０ｍｍ以下であった。これに対して、試料Ｎｏ．１は、反り量が５．０ｍｍ超であった。前記反り量の測定結果を表１１に示す。
・・・
［０１５３］ 試料Ｎｏ．１〜６の｜ΔＤ｜、ＤＭ、引張強さ（ＴＳ）、降伏強度（ＹＳ）、ハーフエッチングの反り量の各測定結果を表１２に示す。尚、表１２の降伏強度（ＹＳ）は、ＪＩＳ Ｚ２２４１に規定する金属材料引張試験方法に準拠する試験方法に基づいて測定された０．２％耐力である。
［０１５４］［表１２］

」

（２）甲１明細書等に記載された発明
上記（１）アの［請求項１］の記載によれば、甲１明細書等には、「質量％にて、Ｎｉ：３５．０〜３７．０％、Ｃｏ：０．００〜０．５０％を含有し、残部がＦｅ及び不純物からなり、
板厚が５．００μｍ以上５０．００μｍ以下であるメタルマスク材料であって、
一辺が１００ｍｍの正方形の前記メタルマスク材料の試料を、当該試料の板厚が２／５になるまでその片側からエッチングをし、エッチングをした前記試料を定盤に載置した時の、前記試料の４角の浮き上がり量のうち最大値である反り量が５．０ｍｍ以下であることを特徴とするメタルマスク材料。」が記載されている。
そして、このメタルマスク材料の実施例として、同ウの［０１４９］には、「１００ｍｍ角にカットして、前記カットされた試料の片面をレジストで覆い、次いで、板厚が２／５になるまで塩化第二鉄水溶液中に浸漬することによりハーフエッチングを行った。」後の反り量が、「いずれも５．０ｍｍ以下」である試料Ｎｏ．２〜６の他、反り量が５．０ｍｍ超であり、比較例に当たる試料Ｎｏ．１が記載されている。
ここで、試料Ｎｏ．１のメタルマスク材料は、同ウの［０１４６］［表１０］によれば、質量％にて、Ｎｉ：３５．７％、Ｃｏ：０．２８％を含有し、残部がＦｅ及び不純物からなるものであり、同ウの［０１４７］［表１１］によれば、板厚が２５μｍであり、同ウの［０１５４］［表１２］によれば、反り量が７．０ｍｍであるものである。
さらに、試料Ｎｏ．１のメタルマスク材料は、同ウの［０１４７］［表１１］によれば、最終圧延圧下率が９１．７％、最終焼鈍温度６５０℃で保定時間４．８秒の条件で製造されたものである。
試料Ｎｏ．１のメタルマスク材料に関する事項を、上記（１）アの［請求項１］の記載に当てはめると甲１明細書等には、以下の発明（以下、「甲１発明」という。）が記載されているといえる。

「質量％にて、Ｎｉ：３５．７％、Ｃｏ：０．２８％を含有し、残部がＦｅ及び不純物からなり、
板厚が２５μｍであるメタルマスク材料であって、
一辺が１００ｍｍの正方形の前記メタルマスク材料の試料を、当該試料の板厚が２／５になるまでその片側からエッチングをし、エッチングをした前記試料を定盤に載置した時の、前記試料の４角の浮き上がり量のうち最大値である反り量が７．０ｍｍであり、
最終圧延圧下率が９１．７％、最終焼鈍温度６５０℃で保定時間４．８秒の条件で製造されたメタルマスク材料。」

（３）本件発明１について
ア 対比
上記（１）イの［０００２］の「ＲＧＢ素子を個別にパターニングする塗り分け方式でＯＬＥＤをカラー表示する場合、メタルマスクを使用し、ＲＧＢ毎に他の色の電極開口部をマスキングして蒸着する。」との記載によれば、甲１発明の「メタルマスク」は、蒸着の際のパターニングのメタルマスクとして用いられるものであるから、本件発明１の「蒸着マスク」に相当する。また、甲１発明の「質量％にて、Ｎｉ：３５．７％、Ｃｏ：０．２８％を含有し、残部がＦｅ及び不純物から」なる「メタルマスク材料」は、本件発明１における「蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって」「少なくともニッケルを含む鉄合金」からなるものである。さらに、甲１発明の「メタルマスク材料」は、圧延を経て製造されるものであるから、「圧延材」であり、「板厚が２５μｍ」であるから、本件発明１の「３０μｍ以下の厚みを有し」との条件を満たすものである。
そうすると、本件発明１と甲１発明は、「蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって、前記金属板は、少なくともニッケルを含む鉄合金の圧延材からなり、且つ３０μｍ以下の厚みを有する金属板。」の点で一致し、以下の点で相違しているものと認められる。

＜相違点＞
本件発明１は、「金属板の断面のうち前記金属板の圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面に現れる結晶粒をＥＢＳＤ法で測定し、測定結果を解析することにより算出される、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であり、
前記平均断面積は、ＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される」ものであるのに対し、甲１発明では、この様な構成を有しているのか明らかでない点。

イ 判断
上記相違点について、検討する。
（ア）甲１明細書等には、上記相違点に係る本件発明１の構成は何ら記載されていないし、金属板内の結晶粒の大きさに関する記載すらない。
（イ）異議申立人は、異議申立書の２５頁１５行〜２６頁１３行において、上記相違点について、以下のとおり主張する。
「金属組織の特性（結晶粒の大きさ等）は、出発材料と製造方法により決定されることは、当業者には明らかである。
本件特許の明細書には、金属板の製造方法が開示されている（段落００５７〜００８６）。製造方法には、一般的な蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法と同様、溶解工程、圧延工程、アニール工程が含まれる。
そして、本件特許の明細書においては、結晶粒の大きさについて、圧延工程で圧下率を調整することにより結晶粒の寸法を調整することができることが開示されている（段落００６３）。また、アニール工程の温度が高い場合は結晶粒の成長が速く進むので、アニール工程の時間が長すぎると結晶粒の平均断面積が大きくなることを開示している（段落００８０）。より具体的には、圧下率は、好ましくは、７０％以上、９５％以下である(段落００６５)。また、アニール工程の条件は、たとえば、５００℃以上６００℃以下の範囲内で３０秒以上９０秒以下であり（段落００７７）、温度に応じて、アニール工程の時間の上限を、・・・
・６００℃超６５０℃以下：１分以下
とすることができる（段落００８０）。
甲１号証には、前述したとおり、最終圧延圧下率が９１．７％であり、最終焼鈍温度が６５０℃、保定時間が４．８秒である具体例が示されている。これは、上述した本件特許の圧下率、アニール工程の温度、時間の範囲に含まれる。してみれば、甲１発明のメタルマスク材料は、本件特許の金属板と同じ金属組織、すなわち、結晶粒の大きさを有する。言い換えれば、甲１発明は、上述した本件発明の１−Ｃ、１−Ｄの要件を満たす。」
念のため上記主張についても検討するに、確かに出発材料が同じで、甲１発明のメタルマスク用素材を製造する工程、及びその工程での具体的な各製造条件までが、本件発明１の金属板の製造方法における具体的な各製造条件に一致しているのであれば、甲１発明においても、本件発明１の金属板と同じメタルマスク用素材が製造されていると考える余地がある。
しかしながら、本件明細書における圧延工程、アニール工程（焼鈍に相当する）の条件は範囲として記載され、その範囲に甲１明細書等に記載の対応する工程の条件が含まれるからといって、各工程における具体的な製造条件で一致しているとすることはできない。しかも、本件明細書に記載される工程には、本件訂正で、本件発明１１に対して特定された「結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であるか否かを検査する検査工程」及び、前記「検査工程」に引き続く、上記条件を満足する金属板を選別する選別工程を含まれるが、甲１明細書等に記載される製造方法には、これらの工程は存在していない。
そうすると、本件明細書に記載される本件発明１の製造方法と、甲１明細書等に記載される甲１発明の製造方法が同じであるということはできないから、甲１発明の「メタルマスク用素材」が、本件発明１の「金属板」と同じ物であるということはできず、異議申立書での上記の観点でも、上記相違点を、実質的な相違点ではないとすることはできない。

ウ 小括
以上のとおり、上記相違点は、実質的な相違点であるから、本件発明１は、甲１発明と同一であるとすることはできない。

（４）本件発明２〜１１について
本件発明１を少なくとも引用する本件発明２〜４、１０、「蒸着マスク」の発明である本件発明５、本件発明５を少なくとも引用する本件発明６〜９、及び「金属板の製造方法」である本件発明１１は、いずれも、発明特定事項に、上記（３）アに記載の相違点に係る本件発明１の構成を有するものであるところ、この相違点が実質的な相違点である以上、本件発明２〜１１は、甲１発明と同一であるとすることはできない。

（５）申立理由１に関するまとめ
以上のとおり、本件特許１〜１１は、特許法第29条の2の規定に違反してされたものではない。
したがって、申立理由１には、理由がない。

３ 申立理由２（特許法第29条第2項所定の規定違反について
（１）甲２〜甲９に記載の事項
ア 甲２に記載の事項
（ア）「【特許請求の範囲】
【請求項１】 重量％にて、Ｎｉ３１〜３６％、Ｃｕ１．０％を越え４．０％以下、Ｍｎ１．０％以下、Ｓｉ０．５％以下、Ｂ０．０００５〜０．１％を含有し、ＮｉとＣｕの含有量は１０１％≦３Ｎｉ＋２Ｃｕ≦１１０％の関係を満足し、残部は不純物を除き実質的にＦｅよりなることを特徴とする電子部品用Ｆｅ−Ｎｉ系合金。
【請求項２】 圧延方向および厚み方向に平行な面の結晶粒の平均断面積が２００μｍ２以下かつ平均展伸度が２．５以上であることを特徴とする電子部品用Ｆｅ−Ｎｉ系合金。」

（イ）「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、リードフレーム、シャドウマスク等の電子部品材料として使用するのに適した低コストのＦｅ−Ｎｉ系合金に関するものである。」

（ウ）「【０００６】そこで本発明は、低Ｎｉ合金の低コスト、低熱膨張特性および熱間加工性を害することなく耐食性を、さらにはプレス打ち抜き性および強度をも改善した電子部品用低Ｎｉ合金を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の重要な点は、低Ｎｉ合金にＣｕとＢを複合添加することで低Ｎｉ合金の低熱膨張特性を害することなく、耐食性、強度を、またＣｕ単独添加低Ｎｉ合金の熱間加工性や耐食性を改善したものである。すなわち、Ｂを添加することでＣｕ添加による熱間加工性の劣化を防止し、またさらに耐食性、強度を向上させることができる。また、結晶粒の大きさと形状を制御することで、強度、プレス打ち抜き面の平滑性のいずれをも向上させることができる。」

（エ）「【００１３】結晶粒の制御はＮｉの低下およびＣｕの添加により劣化した強度を向上させるのに効果があり、また材料のプレス性の向上にも著しい効果がある。本発明合金において、圧延方向と厚み方向に平行の断面での結晶粒の平均断面積を２００μｍ２以下、かつ展伸度を２．５以上とすると、Ｆｅ−４２％Ｎｉ合金に比し、強度は勝るとも劣らず、プレス打ち抜き面の平滑性は遜色のないものとなるので望ましい。このうち、結晶粒の平均断面積 ２００μｍ２以下を得るためには、例えば７０〜８０％の冷間圧延後、組成によって再結晶温度が変わるので注意が必要であるが、例えば３３．７Ｎｉ−２．０Ｃｕならば８００℃で約３分間の焼鈍を行なえばよい。また、展伸度２．５以上を得るためには、再結晶組織の材料を約４０％の圧下率で圧延すればよい。より望ましくは平均断面積は１００μｍ２以下、展伸度は３以上、より望ましい展伸度は３．５以上である。
【００１４】
【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。表１に示す組成の合金を真空高周波誘導炉にて溶解、鋳造した後、１１５０℃で鍛造、熱間圧延を行い、１０００℃×１ｈの溶体化処理を施した後、冷間圧延と軟化焼鈍を繰り返し、０．２５ｍｍの板材に仕上げた。さらにそれぞれ定められた圧延率で最終冷間圧延を施した後、還元雰囲気中において再結晶温度以下の一定温度で歪取焼鈍を施した。」

イ 甲３に記載の事項
（ア）「【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＮｉとＣｏとを合計で３０〜４５質量％、Ｃｏを０〜６質量％含有し、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなるＦｅ−Ｎｉ系合金であり、圧延面の結晶方位（１１１）、（２００）、（２２０）、（３１１）のＸ線回折強度を、それぞれ、Ｉ（１１１）、Ｉ（２００）、Ｉ（２２０）、Ｉ（３１１）としたとき、以下の関係を満たすことを特徴とする、メタルマスク材料。
式１：Ｉ（２００）／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦４０％
式２：Ｉ（３１１）／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦２５％
式３：｛Ｉ（２２０）＋Ｉ（２００）｝／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦９０％
【請求項２】
請求項１に記載のメタルマスク材料を用いたメタルマスク。」

（イ）「【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬディスプレイの製造等で使用されるメタルマスク材料及びメタルマスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
・・・
有機ＥＬディスプレイの製造では、一定寸法の開孔を複数設けたメタルマスクを基板上にセットし、蒸着により有機材料を基板の所定位置に成形するカラーパターニング工程がある。この工程では、蒸着源からの輻射熱、さらには、メタルマスク表面に温度の高い有機材料が付着することで、メタルマスクの温度が１００℃程度にまで上昇する場合があり、基板上の成形位置の精度を保つため、メタルマスクには基板と同程度以下の熱膨張を有する材料を使用する必要がある。」

（ウ）「【００１２】
（結晶の配向）
メタルマスク材料の圧延面の結晶方位（１１１）、（２００）、（２２０）、（３１１）のＸ線回折積分強度を、それぞれ、Ｉ（１１１）、Ｉ（２００）、Ｉ（２２０）、Ｉ（３１１）としたとき、以下の式１〜式３の関係を満たすと、エッチング性（エッチングの均一性）に優れ、高精細なエッチング加工が可能となる。
式１：Ｉ（２００）／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦４０％
式２：Ｉ（３１１）／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦２５％
式３：｛Ｉ（２２０）＋Ｉ（２００）｝／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦９０％
【００１３】
一般に、結晶方位によりエッチング速度に差異があることが知られており、材料が特定方位に強く配向していない場合に均一にエッチングされる。材料が特定方位に強く配向した場合は、特定方位が優先的にエッチングされ易くなる、又はエッチングされ難くなることで、エッチングが不均一になることで、エッチング精度が低下する。メタルマスク用素材として使用されるＦｅ−Ｎｉ系の合金では、主要な結晶方位は（１１１）、（２００）、（２２０）、（３１１）であり、本発明者が各方位の配向度とエッチング性の関係を鋭意調査した結果、（２００）、（３１１）につき、それぞれが一定範囲以下かつ、（２００）、（２２０）の合計の配向度が一定値以下の場合に、良好なエッチング性を示すことを見出した。すなわち、均一かつ精度良くエッチングするためには、式１〜式３を満たすような、特定方位にのみ強く配向しない材料を使用すればよい。式１〜式３につき、いずれか１つ以上が上限を超えた場合、エッチング速度が部分的に不均一となり、エッチング精度が劣化する。
なお、式１〜式３は、後述する最終再結晶焼鈍前の圧延加工度及び結晶粒度を制御することで、調整することができる。
【００１４】
（厚み）
本発明のメタルマスク材料の厚みは、例えば、０．０２〜０．１０ｍｍ、より好ましくは、０．０２５〜０．０８ｍｍとすることができる。メタルマスク材料の厚みが、０．０２ｍｍ未満であるとハンドリング性が劣ると共に、有機材料の堆積によりメタルマスクに歪や変形が生じ易くなることで、基板上に形成される有機材料の位置精度が劣る場合がある。メタルマスク材料の厚みが０．１０ｍｍを超えるとシャドウイング効果が顕著に生じる場合がある。
【００１５】
（メタルマスク材料の製造方法）
本発明のメタルマスク材料は、例えば、次のように製造することができるが、以下に示す方法に限定されることを意図しない。
まず溶解炉で原料を溶解し、上記Ｆｅ−Ｎｉ系合金組成の溶湯を得る。この時、溶湯の酸素濃度が高いと、酸化物などの晶出物の生成量が増えてエッチング不良の原因となる場合があるため、一般的な脱酸方法、例えば炭素を加えて真空誘導溶解などにより溶湯の清浄度を高めてからインゴットに鋳造する。その後、熱間圧延、酸化層の研削除去の後、冷間圧延と焼鈍を繰返して所定の厚みに仕上げる。ここで、最終再結晶焼鈍前の冷間圧延加工度を３５〜８５％とし、最終再結晶焼鈍にてＪＩＳ Ｇ ０５５１に規定する結晶粒度番号が７．０以上となるように焼鈍し、さらに最終冷間圧延の加工度を３５〜８５％とする。最終再結晶焼鈍後の結晶粒度番号を７．０以上とするためには、最終再結晶焼鈍時の温度と時間を制御すれば良い。
【００１６】
メタルマスク材料の（２００）、（２２０）、（３１１）の配向度は、上述のように最終再結晶焼鈍前の冷間圧延加工度、最終再結晶焼鈍の結晶粒度番号、及び最終冷間圧延の加工度によって決まる。例えば、最終冷間圧延の加工度が低い場合は、最終再結晶焼鈍で得られる結晶配向がそのまま残りやすいため、最終製品の結晶配向は最終再結晶焼鈍の影響を強く受ける。また、最終再結晶焼鈍前の冷間圧延加工度に応じて、最終再結晶焼鈍の結晶配向が影響を受ける。・・・
最終再結晶焼鈍後の結晶粒度番号が７．０未満であると、（２００）の配向が強くなり、式１の値が上限値を超え、ハーフエッチング性及びエッチング精度が劣る。なお、最終再結晶焼鈍後の結晶粒度番号が大きくても、未再結晶部分がなければ、エッチング性への影響は小さいため、結晶粒度番号に特に上限は無い。」

（エ）「【実施例】
【００１７】
以下、本発明の実施例を示すが、これらは本発明をより良く理解するために提供するものであり、本発明が限定されることを意図するものではない。
（実験例Ａ）
（１）メタルマスク材料の製造
Ｆｅに３６質量％のＮｉを加えた原料を真空誘導溶解にて溶製し、厚み５０ｍｍのインゴットを鋳造した。これを８ｍｍまで熱間圧延し、表面の酸化膜を研削除去した後、圧延と焼鈍を繰返して、表１の板厚のメタルマスク材料に仕上げた。最終再結晶焼鈍前の圧延加工度及び結晶粒度を表１に示す。結晶粒度は、最終再結晶焼鈍時の炉温度１０００〜１１５０℃、炉内滞留時間８〜６０秒の間で調整することで制御した。・・・
【００２１】
【表１】

」

ウ 甲４に記載の事項
（ア）「【特許請求の範囲】
【請求項１】 質量％にて、Ｎｉ：３０〜５０％、Ｎｂ：０．００５〜０．１％、Ｃ：０．０１％未満、Ｎ：０．００２〜０．０２％、残部が実質的にＦｅからなり、０．００００１３≦［％Ｎｂ］・［％Ｎ］≦０．００２であることを特徴とする高強度低熱膨張Ｆｅ−Ｎｉ系合金。
・・・
【請求項７】 請求項１ないし６のいずれかに記載のＦｅ−Ｎｉ系合金よりなることを特徴とするシャドウマスク。
【請求項８】 請求項１ないし６のいずれかに記載のＦｅ−Ｎｉ系合金よりなることを特徴とするリードフレーム。」

（イ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高強度でかつ平均熱膨張係数が小さいＦｅ−Ｎｉ系合金に関するものであり、特にシャドウマスク及びリードフレーム、さらには精密機械の各部品等の素材に適用されるものに関する。
【０００２】
【従来の技術】・・・これらＦｅ−Ｎｉ系合金やＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金（以下、Ｆｅ−Ｎｉ系合金と総称する）は、テレビやコンピューターのディスプレイにおけるシャドウマスク、ブラウン管電子銃の電極、あるいは半導体パッケージ等の製造に用いられるリードフレームといった低熱膨張特性が必要とされる用途に使用されている。」

（ウ）「【００１０】上述したような従来の合金の場合は、その造塊・凝固時に晶出する炭、窒化物が粗大になり易く、これはエッチング面に突出したり、またプレス打抜き時に金型の摩耗を増長するといった問題に繋がる。そこで本発明は、粗大になり易い炭、窒化物の析出を抑えた手法にて高強度低熱膨張Ｆｅ−Ｎｉ系合金を達成し、そして、それら合金よりなるシャドウマスクやリードフレームを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】まず、本発明者らは、Ｆｅ−Ｎｉ系合金の高強度化の手法として、粗大となり易い析出炭化物に依らない手法を検討した。その結果、超微細な調整が可能なＮｂ窒化物を組織中に多数析出させることで結晶粒の微細化が達成でき、諸特性の劣化をきたさずに高強度化を達成するに有効な手段であることをつきとめた。つまり、Ｆｅ−Ｎｉ系合金への溶解度積が小さいＮｂ、Ｎを利用することで、少量のＮｂ添加で、超微細な窒化ニオブを析出させる手法であり、粗大な炭、窒化物の析出を抑えかつ、分散強化を主作用とする従来の方法にも依らないことから、多量のＮｂ添加をも必要としない方法である。」

（エ）「【００２５】加えて、本発明者らは、その結晶粒の微細化による高強度化を達成するに有効な窒化ニオブのサイズについて検討した。本発明のＦｅ−Ｎｉ系合金においては、その高強度化に効果を示す平均結晶粒径として、ＪＩＳ Ｇ ０５５１による粒度番号が１０以上であることが望ましい。・・・
【００３０】
【実施例】 （実施例１）真空誘導溶解炉により、表１に示す各種成分に調整したＦｅ−３６％Ｎｉアンバー系合金の鋼塊を作製した。その後、１１００℃に加熱して固溶化処理を行ない、続いて鍛造と熱間圧延を施して厚さ２．５ｍｍの板材とした。この板材に８００〜９００℃での窒化ニオブの析出処理を行った後、冷間圧延と焼鈍を繰り返して厚さ０．１ｍｍの冷間圧延材とした。
【００３１】これら仕上げた冷間圧延材を供試材とし、各供試材についての平均結晶粒径（ＪＩＳ Ｇ ０５５１による結晶粒度番号）と、最大の窒化ニオブの粒径、０．２％耐力、熱膨張係数を測定した。なお、窒化ニオブの粒径測定は、供試材をスピード法で腐食した組織面について、その総測定観察視野面積５００μｍ２を走査電子顕微鏡にて観察することで行なった。また、０．２％耐力は２０℃おいて、熱膨張係数は２０〜１００℃の範囲で測定した。
【００３２】
【表１】

【００３３】本発明を満たすＮｏ．１〜５は、窒化ニオブの微細析出により微細な結晶粒が得られており、Ｎｂ無添加材（Ｎｏ．７）に比べて、熱膨張特性等のシャドウマスク材としての特性を損なうこと無く、耐力を約１０％程度向上させることができた。」

エ 甲５に記載の事項
（ア）「【請求項１】 ニッケルおよび鉄を主成分とし、かつ少くとも表面層の結晶粒内の転位密度が1011dl／cm2を超えていることを特徴とするシャドウマスク用素材。
【請求項２】 重量比でニッケルを25〜50％、残部が実質的に鉄もしくは鉄を主体とした鉄−コバルト系から成り、熱膨脹係数が 7×10-6／℃以下の低熱膨脹合金でかつ、結晶粒が粒度番号（JIS G0551 による）13以上であることを特徴とするシャドウマスク用素材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、たとえばカラーテレビのシャドウマスク構成に適するシャドウマスク用素材に関する。」

（イ）「【０００６】本発明は上記事情に対処してなされたもので、熱膨脹係数が小さいとともに、少なくとも表面層の結晶粒内の転位密度が比較的高く、もしくは結晶粒もより微細で良好なエッチング性を呈し、高精度に所要の微細な電子線通過孔の形設可能なシャドウマスク用素材の提供を目的とする。」

（ウ）「【０００８】本発明に係る第１のシャドウマスク用素材は、前記のように Ni-Fe系において、少くとも表面層の結晶粒内の転位密度を1011dl／cm2を超えるように制御されており、好ましくは結晶粒度も粒度番号（JIS G0551による）8以上、さらに好ましくは13以上のものである。そして、前記Ni-Fe系における組成比は、熱膨脹係数を 9×10-6／℃以下程度に押さえるため、重量比でNi25〜45％，残部が実質的にFeであることが望ましいが、たとえば結晶粒を揃えるため、重量比で7％程度以下のCoを添加してもよいし、また転位の絡まりを少なくするため、重量比で5％程度以下のCrを添加してもよい。ここで、少くとも表面層（10nm〜0.05mm程度）の結晶粒内の転位密度を1011dl／cm2を超えるように選択・設定したのは、エッチング液（通常はFeCl2）に対する濡れ性および迅速なエッチング性を得るためで、少くとも表面層の結晶粒内の転位密度を1011〜1013dl／cm2に選択・制御することがさらに望ましい。」

（エ）「【実施例】以下本発明の実施例を説明する。
【００１４】実施例１〜６
表−１に示す組成の合金を用意し、それぞれ融点以上で溶融して調製した溶湯を、高速回転する双ロール上に流し急冷して厚さ 2 mm 、幅800 mmの薄板を得た。これらの薄板を 800℃で 時間真空アニール（焼鈍）した後、94％の圧下率で冷間圧延して厚さ0.15 mm のシャドウマスク用素材を得た。」

（オ）「【００２０】
【発明の効果】上記説明したように、本発明に係るシャドウマスク用素材は、熱膨脹係数が小さいばかりでなく、結晶粒内の転位密度が1011dl／cm2を超えたものとすることにより、あるいは結晶粒をJISG0551の規定による粒度番号No.13 以上の微細粒形型が、特に選択されている。したがって、たとえばフォトエッチングによる電子線通過孔の形設（開孔）において、高精度に孔径の一様な電子線通過孔を形設し得るとともに、電子の衝突による昇温に伴う電子線通過孔の位置ズレも防止され、カラーテレビに組み込んで実用に供した場合、色ズレなど起こらず鮮明できめ細かい（高画質の）画像が得られる。」

オ 甲６に記載の事項
（ア）「[０００１] 本開示の実施形態は、蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び有機ＥＬディスプレイの製造方法に関する。
[０００２] 蒸着マスクを用いた蒸着パターンの形成は、通常、蒸着作製するパターンに対応する開口部が設けられた蒸着マスクと蒸着対象物とを密着させ、蒸着源から放出された蒸着材を、開口部を通して、蒸着対象物に付着させることにより行われる。
[０００３] 上記蒸着パターンの形成に用いられる蒸着マスクとしては、例えば、蒸着作成するパターンに対応する樹脂マスク開口部を有する樹脂マスクと、金属マスク開口部（スリットと称される場合もある）を有する金属マスクとを積層してなる蒸着マスク（例えば、特許文献１）等が知られている。また、金属製の蒸着マスク（シャドウマスク）も知られている（例えば、特許文献２）。」

カ 甲７に記載の事項
（ア）「【特許請求の範囲】
【請求項１】 開口部が一定間隔で複数個形成されているシャドウマスクにおいて、前記開口部は気化源からの気化物の飛来方向に合わせて主面に対して垂直でない断面形状を有していることを特徴とするシャドウマスク。」

（イ）「【００１５】次に、図３に示す真空蒸着装置１０内の基板ホルダー１４に、透明支持基板１をアノード２を下面にして搭載し、抵抗加熱ボートにＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（α−ナフチル）−１、１′−ビフェニル−４、４′−ジアミン（以下、α−ＮＰＤと記す）を入れ、真空ポンプで真空蒸着装置１０内を１×１０-4Ｐａ以下程度に排気する。しかる後、正孔輸送層４を蒸着する範囲を四角形にくり抜いた金属製のシャドウマスクを、透明支持基板１のアノード２側に基板に対して固定するように設置し、真空蒸着装置１０内にこの基板とシャドウマスク９の下部に配置されているα−ＮＰＤの装填された抵抗加熱ボートに電流を流して加熱する。α−ＮＰＤ層を膜厚約５０μｍに蒸着して、正孔輸送層４を形成した。」

キ 甲８に記載の事項
（ア）「【請求項１】
成膜材料を蒸着又はスパッタリングによって堆積させることによる成膜プロセスでパターニングに使用されるシャドーマスクであって、
成膜対象物に対向するように配置される第１面と、
前記成膜材料に晒されるように配置される第２面と、
を有し、
前記第１面及び前記第２面は、それぞれ、凹凸を有し、
前記第２面は、前記第１面よりも、粗面化されていることを特徴とするシャドーマスク。」

（イ）「【０００２】
近年、有機ＥＬ（Electro-luminescent）素子を用いた有機ＥＬ表示装置が実用化されており、有機ＥＬ素子の有機層やカソード電極を形成する際に、蒸着法が採られる場合があり、前述の有機層やカソード電極を所望の形状に形成するために、多数の微細なスリットを配列して構成されたシャドーマスクが使用されている。表示装置の高精細化、高画質化が進むに従って、当該シャドーマスクの開発も進められている。シャドーマスクは、蒸着マスク、メタルマスクとも呼ばれている。」

ク 甲９に記載の事項
（ア）「【００７１】
（金属板の製造方法）
はじめに図９（ａ）（ｂ）を参照して、金属板の製造方法について説明する。図９（ａ）は、母材を圧延して、所望の厚さを有する金属板を得る工程を示す図であり、図９（ｂ）は、圧延によって得られた金属板をアニールする工程を示す図である。
【００７２】
〔圧延工程〕
はじめに図９（ａ）に示すように、ニッケルを含む鉄合金から構成された母材５５を準備し、この母材５５を、一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂを含む圧延装置５６に向けて、矢印Ｄ１で示す搬送方向に沿って搬送する。一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂの間に到達した母材５５は、一対の圧延ロール５６ａ，５６ｂによって圧延され、この結果、母材５５は、その厚みが低減されるとともに、搬送方向に沿って伸ばされる。これによって、厚みｔ０の板材６４Ｘを得ることができる。図９（ａ）に示すように、板材６４Ｘをコア６１に巻き取ることによって巻き体６２を形成してもよい。厚みｔ０の具体的な値は、好ましくは上述のように５〜８５μｍの範囲内となっている。
・・・
【００７５】
〔アニール工程〕
その後、圧延によって板材６４Ｘ内に蓄積された残留応力を取り除くため、図９（ｂ）に示すように、アニール装置５７を用いて板材６４Ｘをアニールし、これによって長尺金属板６４を得る。アニール工程は、図９（ｂ）に示すように、板材６４Ｘや長尺金属板６４を搬送方向（長手方向）に引っ張りながら実施されてもよい。すなわち、アニール工程は、いわゆるバッチ式の焼鈍ではなく、搬送しながらの連続焼鈍として実施されてもよい。アニール工程が実施される期間は、長尺金属板６４の厚みや圧延率などに応じて適切に設定されるが、例えば５００℃で６０秒以上にわたってアニール工程が実施される。なお上記「６０秒」は、アニール装置５７中の５００℃に加熱された空間を板材６４Ｘが通過することに要する時間が６０秒であることを意味している。
・・・
【００７８】
なお、上述の圧延工程、スリット工程およびアニール工程を複数回繰り返すことによって、厚みｔ０の長尺の金属板６４を作製してもよい。」

（２）申立理由２−１（甲２を主引用例とする理由）、申立理由２−３（甲４を主引用例とする理由）、申立理由２−４（甲５を主引用例とする理由）について
ア 本件発明１について
本件発明１は、蒸着マスクを製造するための金属板に関するものであり（【０００１】）、蒸着マスクでは、蒸着材料を所望のパターンで精度良く基板に蒸着させるために、蒸着マスクの厚みが小さいことが好ましいが、蒸着マスクの厚みが小さいと、蒸着マスクを構成する金属板の強度が低下し、蒸着マスクの製造工程や蒸着マスクの使用の際に金属板に塑性変形が生じやすくなってしまうという課題があった（【０００７】）。
この塑性変形は、特に、金属板の厚みが３０μｍ以下の場合に生じやすく（【００８８】）、原因としては、金属板の強度の低下が考えられるのに対し、これを防ぐには、金属板の結晶粒の寸法を小さくすることが考えられる（【００８９】）。
そして、３０μｍ以下の厚みを有する金属板の結晶粒の寸法を定量的に把握する手法として、電子線後方散乱回折法（ＥＢＳＤ法）に基づいて結晶粒の平均断面積を算出する方法が、精度などの点で優れているため、本件発明１は、蒸着マスクとして求められる強度の点から、ＥＢＳＤ法に基づいて算出された結晶粒の平均断面積の上限を５０μｍ２とする（【００９０】）と共に、溶接性の低下の点から、ＥＢＳＤ法に基づいて算出された結晶粒の平均断面積の下限を０．５μｍ２とするものである。
一方、甲２には、リードフレーム、シャドウマスク等の電子部品材料として使用するのに適したＦｅ−Ｎｉ系合金（上記（１）ア（ア）、（イ））が記載され、圧延、焼鈍後の板材は、圧延方向と厚み方向に平行の断面での結晶粒の平均断面積が２００μｍ２以下であることも記載されている（同（ア）、（エ））。
ここで、甲６〜８の上記（１）オ〜キの記載によれば、表示装置の基板に対し蒸着材料を所望のパターンで精度良く蒸着させるために用いる「蒸着マスク」が「シャドウマスク」とも呼ばれることがあることは理解できる。しかしながら、「シャドウマスク」は、甲２と同様に、「シャドウマスク」との記載のある甲４の同ウ（イ）の【０００２】に「テレビやコンピューターのディスプレイにおけるシャドウマスク」、及び甲５の同エ（ア）の【０００１】に「カラーテレビのシャドウマスク」、（オ）に「カラーテレビに組み込んで実用に供した場合、色ズレなど起こらず鮮明できめ細かい（高画質の）画像が得られる。」と記載されるように、「ＣＲＴディスプレイの表示面の後ろにある、蛍光体に電子ビームを照射するための金属板」を意味する方が一般的であり、甲２における「シャドウマスク」も、リードフレームと並列的に記載され、電子部品材料とされていることから、甲４及び甲５に記載の「シャドウマスク」と同様に、カラーテレビ等に組み込まれるものであるといえる。
そうすると、甲２に記載される「シャドウマスク」に関する事項は、本件発明１の「蒸着マスク」とは、別異な技術分野における事項であり、甲２に記載される「シャドウマスク」を、本件発明１の「蒸着マスク」とする何の動機付けもない。
また、上述のように、甲４及び甲５に記載の「シャドウマスク」も、蒸着マスクとは、別異な技術分野に係るものであるから、甲４及び甲５に記載される「シャドウマスク」を、本件発明１の「蒸着マスク」とする何の動機付けもない。
以上のとおり、甲６〜８に記載の事項を考慮したとしても、甲２、４及び５の「シャドウマスク」を、本件発明１の「蒸着マスク」とすることは当業者が容易に想到し得ることとはいえないから、本件発明１は、甲２、４、５に記載された発明及び甲６〜８に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

イ 本件発明２〜１０について
本件発明１を少なくとも引用する本件発明２〜４、１０、「蒸着マスク」の発明である本件発明５、本件発明５を少なくとも引用する本件発明６〜９は、いずれも、蒸着マスクを発明特定事項に含むものであるから、上記アで述べたのと同様に、本件発明２〜１０は、甲２、４、５に記載された発明及び甲６〜８に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

ウ 本件発明１１について
「金属板の製造方法」である本件発明１１は、蒸着マスクを発明特定事項に含むものであると共に、本件発明１１に対して追加で引用された甲９も、甲２の「シャドウマスク」を「蒸着マスク」にすることができるか否かに関係するものではないから、本件発明１１は、上記アで述べたのと同様に、甲２に記載された発明及び甲６〜９に記載の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

エ 申立理由２−１、申立理由２−３及び申立理由２−４に関するまとめ
上記ア〜ウによれば、申立理由２−１、申立理由２−３及び申立理由２−４には、理由がない。

（３）申立理由２−２（甲３を主引用例とする理由）について
ア 甲３に記載された発明
甲３の上記（１）イ（ア）の【請求項１】には、「ＮｉとＣｏとを合計で３０〜４５質量％、Ｃｏを０〜６質量％含有し、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなるＦｅ−Ｎｉ系合金であり、圧延面の結晶方位（１１１）、（２００）、（２２０）、（３１１）のＸ線回折強度を、それぞれ、Ｉ（１１１）、Ｉ（２００）、Ｉ（２２０）、Ｉ（３１１）としたとき、以下の関係を満たすことを特徴とする、メタルマスク材料。
式１：Ｉ（２００）／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦４０％
式２：Ｉ（３１１）／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦２５％
式３：｛Ｉ（２２０）＋Ｉ（２００）｝／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦９０％」が記載されている。
そして、甲３の同（イ）の【００１４】の「本発明のメタルマスク材料の厚みは、例えば、０．０２〜０．１０ｍｍ、より好ましくは、０．０２５〜０．０８ｍｍとすることができる。」との記載によれば、上記メタルマスク材料の厚みは、０．０２〜０．１０ｍｍであることが理解できるから、甲３には、以下の発明（以下、「甲３発明」という。）が記載されているといえる。

「ＮｉとＣｏとを合計で３０〜４５質量％、Ｃｏを０〜６質量％含有し、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなるＦｅ−Ｎｉ系合金であり、圧延面の結晶方位（１１１）、（２００）、（２２０）、（３１１）のＸ線回折強度を、それぞれ、Ｉ（１１１）、Ｉ（２００）、Ｉ（２２０）、Ｉ（３１１）としたとき、以下の関係を満たし、厚みが、０．０２〜０．１０ｍｍである、メタルマスク材料。
式１：Ｉ（２００）／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦４０％
式２：Ｉ（３１１）／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦２５％
式３：｛Ｉ（２２０）＋Ｉ（２００）｝／｛Ｉ（１１１）＋Ｉ（２００）＋Ｉ（２２０）＋Ｉ（３１１）｝≦９０％」

イ 本件発明１について
（ア）対比
甲３の上記（１）イ（イ）の【０００２】の「有機ＥＬディスプレイの製造では、一定寸法の開孔を複数設けたメタルマスクを基板上にセットし、蒸着により有機材料を基板の所定位置に成形するカラーパターニング工程がある。」との記載によれば、甲３発明の「メタルマスク」は、蒸着の際のカラーパターニングのマスクとして用いられるものであるから、本件発明１の「蒸着マスク」に相当する。
また、甲３発明の「ＮｉとＣｏとを合計で３０〜４５質量％、Ｃｏを０〜６質量％含有し、残部Ｆｅ及び不可避的不純物からなるＦｅ−Ｎｉ系合金であ」る、「メタルマスク材料」は、本件発明１における「蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって」、「少なくともニッケルを含む鉄合金」からなるものである。さらに、甲３発明の「メタルマスク材料」は、「圧延面」を有し、圧延を経て製造されるものであるから、「圧延材」である。
そうすると、本件発明１と甲３発明は、「蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって、前記金属板は、少なくともニッケルを含む鉄合金の圧延材からなる、金属板。」の点で一致し、以下の点で相違しているものと認められる。

＜相違点１＞
本件発明１では、圧延材の厚みが、「３０μｍ以下」であるのに対し、甲３発明では、「０．０２〜０．１０ｍｍ」である点。
＜相違点２＞
本件発明１は、「金属板の断面のうち前記金属板の圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面に現れる結晶粒をＥＢＳＤ法で測定し、測定結果を解析することにより算出される、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であり、 前記平均断面積は、ＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される」ものであるのに対し、甲３発明では、この様な構成を有しているのか明らかでない点。

（イ）判断
事案に鑑み、上記相違点２について、検討する。
ａ 甲３には、上記相違点２に係る本件発明１の構成は何ら記載されていない。
ｂ 甲３の上記上記（１）イ（ウ）の【００１５】の「最終再結晶焼鈍前の冷間圧延加工度を３５〜８５％とし、最終再結晶焼鈍にてＪＩＳ Ｇ ０５５１に規定する結晶粒度番号が７．０以上となるように焼鈍し、さらに最終冷間圧延の加工度を３５〜８５％とする。最終再結晶焼鈍後の結晶粒度番号を７．０以上とするためには、最終再結晶焼鈍時の温度と時間を制御すれば良い。」との記載によれば、甲３発明の「メタルマスク材料」は、少なくとも、最終再結晶焼鈍前に冷間圧延加工、最終再結晶焼鈍、その後、加工度３５〜８５％の最終冷間圧延の工程を経るものであるところ、最終再結晶焼鈍の状態で、ＪＩＳ Ｇ ０５５１に規定する結晶粒度番号が７．０以上となっているものである。そして、甲３の同（エ）の【００２１】【表１】の記載によれば、最終再結晶焼鈍の結晶粒径において、７．０、７．５、９．０及び１２．０の例も認められる。ここで、メタルマスク材料は、最終冷間圧延を経ることにより、結晶粒の断面積が変化するといえるが、甲３では、最終冷間圧延後のメタルマスク材料、すなわち甲３発明におけるメタルマスク材料における結晶粒の断面積がどの程度であるのかは不明である。また、結晶粒の断面積はその断面の選択により、断面積の値が大きく変化するところ、結晶粒の断面積の取り方を含め、ＪＩＳ Ｇ ０５５１に規定する結晶粒度番号における数値が、本件発明１のＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される結晶粒の平均断面積においてどの程度の数値になるのかも不明であるから、甲３発明は、上記相違点２における本件発明１の結晶粒の平均断面積を有するものとすることはできない。
さらに、甲３発明は、甲３発明で特定されるメタルマスク材料に対応する最終冷間圧延後のメタルマスク材料に対して結晶粒度番号を特定するものではなく、甲３発明のメタルマスク材料に対して結晶粒の大きさを所定の範囲としようとするものではないから、甲３発明には、メタルマスク材料を、上記相違点２における本件発明１の結晶粒の平均断面積を有するものとする動機付けはない。
ｃ 異議申立人は、上記相違点２について、異議申立書４０頁１５行〜４１頁１３行で、以下のとおり主張する。
「ＪＩＳ Ｇ ０５５１における単位面積（１ｍｍ２）当たりの結晶粒の数ｍと、結晶粒度番号Ｇｍとの間には、ｍ＝２（Ｇｍ＋３）の関係がある。したがって、結晶粒度番号で７．０以上は、結晶粒の断面積がおよそ９７７μｍ２以下に相当する。甲３号証には、最終再結晶焼鈍の結晶粒粒度番号が１２．０の例が示されている（段落００２１、表１、実施例３）。これは、およそ３１μｍ２の結晶粒の断面積に相当する。
結晶粒の観察方向について、金属に圧延を施すと、一般に、金属結晶は展伸され、圧延方向に長い形状となる。したがって、同じ金属結晶を、圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面で観察した場合と、圧延方向に平行な断面で観察した場合では、圧延方向に平行な断面で観察した場合のほうが結晶粒の断面積は大きく測定される。したがって、甲３発明の最終冷間圧延の前の結晶粒の断面積は、本件発明の測定方法を用いた場合３１μｍ２以下となり、本件発明の金属板と同程度である。
さらに、甲３号証に記載の発明では、最終再結晶焼鈍の後に、最終冷間圧延が施される。冷間圧延が施されれば、結晶粒の断面積は小さくなるので、最終冷間圧延が施された後の甲３発明の結晶粒の断面積は、本件発明の測定方法を用いた場合３１μｍ２未満となる。
仮に甲３号証における結晶粒の最終冷間圧延が施された後の断面積３１μｍ２未満が、０．５μｍ２未満の本件発明における結晶粒の断面積に相当し、すなわち、１／６２未満の値に相当し、本件発明の範囲外となるのであれば、甲３号証の実施例１、実施例２の結晶粒度番号９．０、７．０は、それぞれ、２４４μｍ２、９７７μｍ２に相当するから、この例の結晶粒の断面積は本件発明の範囲内であると考えられる。なお、甲３号証の圧下率を考慮すると、最終再結晶焼鈍の後に、さらに最終冷間圧延が施されることを考慮しても、甲３号証における結晶粒の断面積３１μｍ２が、０．５μｍ２未満の本件発明における結晶粒の断面積に相当するということは、一般的には考えられない。」
しかしながら、最終再結晶焼鈍の結晶粒粒度番号が１２．０の場合が、およそ３１μｍ２の結晶粒の断面積に相当するとしても、上記ｂで述べたように、甲３発明で特定されるメタルマスク材料に対応する最終冷間圧延後のメタルマスク材料において、本件発明１の、ＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される結晶粒の平均断面積とした場合に、どの程度の値になるのかが具体的に示されておらず、上記の異議申立書に記載の内容を考慮したとしても、甲３発明は、上記相違点２に係る本件発明１の結晶粒の平均断面積を有するものとすることはできないし、甲３発明には、メタルマスク材料を、上記相違点２に係る本件発明１の結晶粒の平均断面積を有するものとする動機付けもない。
さらには、上記（２）アで述べたように、本件発明１は、蒸着マスクの厚みを小さくした際（具体的には厚みが３０μｍ以下）の、蒸着マスクを構成する金属板の強度が低下に対応するため、金属板の結晶粒の寸法を小さくしているものであるから、結晶粒の寸法と蒸着マスクの厚みの関係が重要であるところ、甲３に記載される最終再結晶焼鈍の結晶粒粒度番号が１２．０の場合（甲３の上記（１）イ（エ）の【００２１】【表１】の実施例３）の箔厚（メタルマスク材料の厚み）は、０．１０ｍｍであり、３０μｍを大きく超えるものであるから、単純に、最終再結晶焼鈍の結晶粒粒度番号の点のみ実施例３より切り出し、甲３発明に適用することができるとはいえない。

（ウ）小括
以上のとおり、上記相違点２に係る本件発明１の構成は、当業者が容易に想到し得るものであるとはいえないから、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明１は、甲３発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

ウ 本件発明２〜１１
本件発明１を少なくとも引用する本件発明２〜４、１０、「蒸着マスク」の発明である本件発明５、本件発明５を少なくとも引用する本件発明６〜９、及び「金属板の製造方法」の発明である本件発明１１は、いずれも、上記イで述べた相違点２に係る本件発明１の構成を発明特定事項に含むものであるから、上記イで述べたのと同様に、本件発明２〜１１は、甲３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえない。

エ 申立理由２−２に関するまとめ
上記ア〜ウによれば、申立理由２−２には、理由がない。

（４）申立理由３（特許法第36条第6項第1号所定の規定違反）について
申立理由３は、要は、以下のものである。
本件発明の課題を解決するために、本件発明１の金属板は、「前記金属板の断面のうち前記金属板の圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面に現れる結晶粒をＥＢＳＤ法で測定し、測定結果を解析することにより算出される、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であり」との構成を備えるところ、この構成を得るために、アニール工程の温度や時間は重要な要件であると理解されるが、【０１４８】〜【０１７１】に記載された実施例において、金属板の厚みや圧下率については記載があるものの、アニールに関しては、温度、時間のみならず、アニール工程そのものが行われたのか否かについても開示されていない。ここで、【００７７】には、「アニール工程の条件は、金属板６４の厚みや圧下率などに応じて適切に設定されるが、例えば、５００℃以上６００℃以下の範囲内で３０秒以上９０秒以下にわたってアニール工程が実施される。」との記載があるが、本件明細書の記載を見ても、本件発明１及び本件発明５における金属板の厚みや、訂正前の請求項１１に係る発明における圧下率において、５００℃以上６００℃以下の範囲内で３０秒以上９０秒以下のアニール工程が行われた場合に、どのような結晶粒が得られるのか理解できない。
そうすると、課題を解決するために必要な上記の構成をどのようにして得るのか理解できないから、本件発明１、５、これらの発明を引用する本件発明２〜４、６〜１０、及び訂正前の請求項１１に係る発明は、発明の詳細な説明の記載により、発明の課題を解決できると当業者が認識できるように記載された範囲を超えており、サポート要件を満たしていない。
上記理由について検討するに、本件発明は、本件明細書の記載によれば、本件発明１１で特定されたように、「結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であるか否かを検査する検査工程」（【００８７】等）を含むものであると共に、結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下である条件を満足する金属板を選別する選別工程（【０１０６】等）を有するものであるから、【０１４８】〜【０１７１】に記載された実施例において、アニールにおける温度及び時間の条件が記載されていないとしても、本件発明１の結晶粒の断面積における上記の構成を得られることが、本件明細書の記載から理解できる。
さらには、本件明細書の【００７７】に「アニール工程の条件は、金属板６４の厚みや圧下率などに応じて適切に設定されるが、例えば、５００℃以上６００℃以下の範囲内で３０秒以上９０秒以下にわたってアニール工程が実施される。」と記載されるように、アニール工程の条件について、条件設定の手がかりとなる記載があると共に、同【０１１０】に「結晶粒の平均断面積に基づく金属板６４の検査は、圧延工程の条件やアニール工程の条件などの、金属板６４を製造するための条件を最適化するために利用されてもよい。具体的には、まず、様々な圧延条件やアニール条件で金属板６４を製造し、得られた金属板６４の結晶粒の平均断面積を算出する。また、圧延条件及びアニール条件と、得られた金属板６４の結晶粒の平均断面積とを照らし合わせる。これによって、結晶粒の平均断面積が０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下である金属板６４を高い確率で製造するための圧延条件及びアニール条件などを見出すことができる。」と記載されているように、当業者であれば、検査工程における結果を基に、アニール工程の条件を適宜最適化することができるといえるから、この点でも、本件発明１の結晶粒の断面積における上記の構成を得られることが、本件明細書の記載から理解できる。
そうすると、申立理由３により、本件発明１、５、これらの発明を引用する本件発明２〜４、６〜１０、及び本件発明１１は、発明の詳細な説明の記載により、発明の課題を解決できると当業者が認識できるように記載された範囲を超えており、サポート要件を満たしていないとすることはできないから、申立理由３には、理由がない。

第６ むすび

上記第５で検討したとおり、本件特許１〜１１は、特許法第36条第6項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるとも、同法第29条の2及び同法第29条のいずれの規定に違反してされたものであるともいうことはできず、同法第113条第2号又は第４号に該当するものではないから、上記取消理由及び申立理由では、本件特許１〜１１を取り消すことはできない。
また、他に本件特許１〜１１を取り消すべき理由を発見しない。

よって、結論のとおり決定する。
 
発明の名称 （５７）【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着マスクを製造するために用いられる金属板であって、
前記金属板は、少なくともニッケルを含む鉄合金の圧延材からなり、且つ３０μｍ以下の厚みを有し、
前記金属板の断面のうち前記金属板の圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面に現れる結晶粒をＥＢＳＤ法で測定し、測定結果を解析することにより算出される、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であり、
前記平均断面積は、ＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される、金属板。
【請求項２】
前記圧延材におけるニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ３８質量％以下である、請求項１に記載の金属板。
【請求項３】
前記結晶粒の平均断面積が、２．０μｍ２以上である、請求項１又は２に記載の金属板。
【請求項４】
前記金属板は、１３μｍ以上の厚みを有する、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の金属板。
【請求項５】
蒸着マスクであって、
金属板と、
金属板に形成された貫通孔と、を備え、
前記金属板は、少なくともニッケルを含む鉄合金の圧延材からなり、且つ３０μｍ以下の厚みを有し、
前記金属板の断面のうち前記金属板の圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面に現れる結晶粒をＥＢＳＤ法で測定し、測定結果を解析することにより算出される、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であり、
前記平均断面積は、ＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される、蒸着マスク。
【請求項６】
前記圧延材におけるニッケル及びコバルトの含有量が合計で３０質量％以上且つ３８質量％以下である、請求項５に記載の蒸着マスク。
【請求項７】
前記結晶粒の平均断面積が、２．０μｍ２以上である、請求項５又は６に記載の蒸着マスク。
【請求項８】
前記金属板は、１３μｍ以上の厚みを有する、請求項５乃至７のいずれか一項に記載の蒸着マスク。
【請求項９】
請求項５乃至８のいずれか一項に記載の蒸着マスクと、
前記蒸着マスクが溶接されたフレームと、を備える、蒸着マスク装置。
【請求項１０】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の金属板を準備する工程と、
前記金属板を長手方向に沿って搬送する工程と、
前記金属板に貫通孔を形成する加工工程と、を備える、蒸着マスクの製造方法。
【請求項１１】
蒸着マスクを製造するために用いられる金属板の製造方法であって、
少なくともニッケルを含む鉄合金からなり、且つ３０μｍ以下の厚みを有する前記金属板を、圧延法によって圧延材として得る作製工程を備え、
前記作製工程は、７０％以上９５％以下の圧下率で前記金属板を圧延する圧延工程と、前記圧延工程によって得られた前記金属板を搬送しながら５００℃〜６００℃の範囲内で３０秒〜９０秒にわたってアニールするアニール工程と、を含み、
前記金属板の断面のうち圧延材の圧延方向に直交する平面に対して−１０°以上＋１０°以下の角度を成す断面に現れる結晶粒をＥＢＳＤ法で測定し、測定結果を解析することにより算出される、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であり、
前記平均断面積は、ＥＢＳＤ法によって得られた測定結果を、結晶方位の差が５度以上の部分を結晶粒界と認定する条件下でエリア法により解析することによって算出される、金属板の製造方法であり、
前記製造方法は、前記結晶粒の平均断面積が、０．５μｍ２以上且つ５０μｍ２以下であるか否かを検査する検査工程を含み、
前記圧延工程における圧延条件及び前記アニール工程におけるアニール条件が、前記検査工程の結果に基づいて設定される、金属板の製造方法。
 
訂正の要旨 審決（決定）の【理由】欄参照。
異議決定日 2022-03-15 
出願番号 P2019-090946
審決分類 P 1 651・ 161- YAA (C25D)
P 1 651・ 121- YAA (C25D)
P 1 651・ 537- YAA (C25D)
最終処分 07   維持
特許庁審判長 日比野 隆治
特許庁審判官 原 賢一
後藤 政博
登録日 2020-11-11 
登録番号 6792829
権利者 大日本印刷株式会社
発明の名称 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置  
代理人 中村 行孝  
代理人 中村 行孝  
代理人 堀田 幸裕  
代理人 堀田 幸裕  
代理人 柏 延之  
代理人 宮嶋 学  
代理人 高田 泰彦  
代理人 柏 延之  
代理人 高田 泰彦  
代理人 岡村 和郎  
代理人 岡村 和郎  
代理人 宮嶋 学  
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