• ポートフォリオ機能


ポートフォリオを新規に作成して保存
既存のポートフォリオに追加保存

  • この表をプリントする
PDF PDFをダウンロード
審決分類 審判 全部申し立て 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備  B32B
審判 全部申し立て 2項進歩性  B32B
管理番号 1386146
総通号数 7 
発行国 JP 
公報種別 特許決定公報 
発行日 2022-07-29 
種別 異議の決定 
異議申立日 2021-08-25 
確定日 2022-04-25 
異議申立件数 1 
訂正明細書 true 
事件の表示 特許第６８４８３３９号発明「ガスバリア積層体及びその製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。 
結論 特許第６８４８３３９号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１−４〕について訂正することを認める。 特許第６８４８３３９号の請求項１ないし４に係る特許を維持する。 
理由 第１ 手続の経緯
特許第６８４８３３９号（以下「本件特許」という。）の請求項１〜４に係る特許についての出願は、平成２８年１０月２５日に出願したものであって、令和３年３月８日にその特許権の設定登録（特許掲載公報発行日：令和３年３月２４日）がされた。
本件特許異議の申立ての経緯は、次のとおりである。

令和 ３年 ８月２５日 ：特許異議申立人加藤浩志（以下「申立人」という。）による請求項１〜４に係る特許に対する特許異議の申立て
令和 ３年１１月１９日付け：取消理由通知書
令和 ４年 １月１９日 ：特許権者による意見書の提出及び訂正の請求
（以下「本件訂正請求」といい、訂正そのものを「本件訂正」という。）

なお、本件訂正請求について申立人へ送付し、意見を求めたが、指定期間内に意見書の提出はなかった。

第２ 本件訂正の適否
１ 本件訂正の内容
本件訂正請求は、「特許第６８４８３３９号の特許請求の範囲を本訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１〜４について訂正することを求める。」ものであり、その訂正の内容は、訂正箇所に下線を付して示すと、次のとおりである。
＜訂正事項＞
本件訂正前の請求項１に記載された「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピークのＣＯＯ結合ピークの面積率」を、
「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピーク全体の面積に対する、ＣＯＯ結合ピークの面積の比率」に訂正する（請求項１の記載を直接的又は間接的に引用する請求項２〜４も同様に訂正する。）。

２ 一群の請求項について
本件訂正前の請求項１〜４は、請求項２〜４が、それぞれ請求項１を直接的又は間接的に引用するものであって、請求項１の記載の訂正に連動して訂正されるものであるから、本件訂正請求による訂正は、一群の請求項ごとにされたものである。

３ 訂正の目的、新規事項の有無及び特許請求の範囲の拡張・変更の適否について
（１）訂正の目的について
上記訂正事項は、本件訂正前の請求項１の「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピークのＣＯＯ結合ピークの面積率」について、何に対する比率を意味するのか不明瞭であったものを、明瞭とする訂正であるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。

（２）新規事項の有無について
本件訂正前の請求項１の「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピークのＣＯＯ結合ピークの面積率」について、本件特許明細書の発明の詳細な説明には次の記載がある。
「【００１８】
本発明者の鋭意検討に基づく知見によれば、ガスバリア積層体のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基材のＣＯＯ結合の割合を好適化することにより、レトルト処理・ボイル処理を行っても密着性が劣化しないガスバリア積層体が得られることを見出した。そこで、以下のような実施形態により本発明のガスバリア積層体が得られた。ただし、本発明は以下の実施形態のみに限定するものではない。
・・・
【００２１】
本発明のガスバリア積層体は、本発明者の次の知見に基づくものである。
基材であるＰＥＴの分子構造におけるＣＯＯ結合の割合をＣＯＯ％とすると、ＣＯＯ％は一般にＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）で測定される。例えば基材の測定面積を直径６ｍｍとし、１００ＷのＸ線を照射してＣ１ｓスペクトルを測定し、波形分離解析を行うことによって、前記ＣＯＯ％の測定値が得られる。本発明者は種々の実験検討により、このＣＯＯ％が適切な値になっていないと、密着性劣化を起こしやすいことを見出した。」
これらの記載から訂正前の請求項１に記載の「ＣＯＯ結合ピークの面積率」が、「基材のＣ１ｓピーク全体の面積に対する」ものであることは明らかである。
したがって、本件訂正は、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内においてするものである。

（３）特許請求の範囲の拡張・変更の存否について
本件訂正は、本件訂正前の請求項１の発明特定事項である「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピークのＣＯＯ結合ピークの面積率が、１６．２％から１７．８％の範囲内であり」について明瞭にするものであり、発明のカテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。

（４）小括
以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第120条の5第2項ただし書第３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第４項並びに第９項で準用する同法第126条第5項及び第６項の規定に適合する。
したがって、特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１−４〕について訂正することを認める。

第３ 本件訂正後の本件発明
上記第２のとおり本件訂正が認められたことから、本件特許の請求項１〜４に係る発明（以下「本件発明１」等という。）は、訂正特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定される、次のとおりのものである。
「【請求項１】
ポリエチレンテレフタレートからなる基材の少なくとも一方の面に酸化アルミニウム膜を積層してなるガスバリア積層体において、
Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピーク全体の面積に対する、ＣＯＯ結合ピークの面積の比率が、１６．２％から１７．８％の範囲内であり、前記酸化アルミニウム膜が、前記ＸＰＳによって算出される酸素とアルミニウムの比（Ｏ／Ａｌ）が１．５から１．８の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体。
【請求項２】
前記酸化アルミニウム膜の厚さが５〜３０ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載のガスバリア積層体。
【請求項３】
前記請求項１または２に記載のガスバリア積層体の製造工程において、前記基材上にプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理が施されていることを特徴とするガスバリア積層体の製造方法。
【請求項４】
前記ＲＩＥ処理が、アルゴン、窒素、酸素、水素のうちの１種類のガス、または、これらの混合ガスを用いて１回以上行われる処理であることを特徴とする、請求項３に記載のガスバリア積層体の製造方法。」

第４ 取消理由の概要
本件訂正前の請求項に係る特許に対して、当審が令和３年１１月１９日付け取消理由通知書で特許権者に通知した取消理由の概要は、次のとおりである。

１ 取消理由１（明確性）
本件特許は、特許請求の範囲の「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピークのＣＯＯ結合ピークの面積率」の記載が不備のため、特許法第36条第6項第2号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである。

２ 取消理由２（進歩性）
本件特許の請求項１〜４に係る発明は、引用文献１に記載された発明及び引用文献２の記載事項に基いて、及び、引用文献３に記載された発明及び引用文献２の記載事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。

［引用文献等一覧］
引用文献１：特開２００５−５９２６５号公報（申立人提出：甲第１号証）
引用文献２：特開２００６−５６０９２号公報（申立人提出：甲第２号証）
引用文献３：特開２００４−１３７４１９号公報（申立人提出：甲第３号証）

第５ 当審の判断
１ 取消理由２（進歩性）について
（１）引用文献１に記載された事項、引用文献１に記載された発明
引用文献１には、以下の記載がある（下線は当審が付した。以下同様。）。
ア 「【請求項１】
少なくとも一方の表面に、厚さ５〜１００ｎｍの無機酸化物からなる蒸着層を設けたポリエチレンテレフタレートフィルムを処理水に浸漬し、無機酸化物からなる蒸着層を取り除いた後に、該フィルム表面のＸ線光電子分光測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、出力１００Ｗ）を行った時に、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．２３以下であることを特徴とする強密着蒸着フィルム。」
イ 「【請求項４】
前記無機酸化物が、酸化アルミニウム、酸化珪素もしくはそれらの混合物であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の強密着蒸着フィルム。」
ウ 「【００２４】
図２はＸＰＳ測定で得られる未処理ＰＥＴのＣ１ｓ波形をピーク分離解析したスペクトルである。Ｃ１ｓ波形はＣ−Ｃ結合５、Ｃ−Ｏ結合６、ＣＯＯ結合７に分離される。なお、それぞれの結合エネルギーの値は、２８５．０ｅＶ（Ｃ−Ｃ結合）、２８６．６〜２８６．７ｅＶ（Ｃ−Ｏ結合）、２８８．９〜２８９．０ｅＶ（ＣＯＯ結合）である。
【００２５】
上記のように無機酸化物層を除去した後のＰＥＴフィルム表面のＸＰＳ測定を行った時、Ｃ１ｓ波形分離から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．２３以下になる場合、このＰＥＴフィルムと無機酸化物層は極めて良好な密着性を示し、レトルトなどの加熱殺菌処理を行ってもデラミネーションが生じない。さらに好ましくは、官能基比率が０．０５〜０．２３の範囲になることである。０．０５未満ではフィルム表面を処理しすぎで、表面が劣化してしまう。
【００２６】
それに対し、未処理のＰＥＴフィルムの場合には、無機酸化物層を除去した後のＰＥＴフィルム表面は、官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）は０．２５程度になる。このような場合はＰＥＴフィルムと無機酸化物層の密着性が悪く、レトルトなどの加熱殺菌処理を行うとデラミネーションが発生する。
【００２７】
上記のような無機酸化物層と密着のよいＰＥＴフィルムを得るために、ＰＥＴフィルム表面にリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）を利用したプラズマ前処理を施すことが有効である。ＲＩＥを利用したプラズマ前処理を行うことで、発生したラジカルやイオンを利用してＰＥＴフィルムの表面構造を化学的に変化させることが可能であり、官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）を制御することができる。更にこの処理を行うことで、蒸着の際に無機酸化物の緻密な薄膜を形成させることができる。その結果、基材と無機酸化物層との密着性を強化させることができ、ガスバリア性向上やクラック発生防止につながるだけでなく、レトルトなどの加熱殺菌を行った場合においても、デラミネーションが起こることがない。」
エ 「【００２８】
次に、無機酸化物層２について、詳しく説明する。無機酸化物からなる蒸着薄膜層は、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化錫、酸化マグネシウム、或いはそれらの混合物などの無機酸化物の蒸着膜からなり、透明性を有しかつ酸素、水蒸気等のを有する層であればよい。各種殺菌耐性を配慮するとこれらの中では、特に酸化アルミニウム及び酸化珪素を用いることがより好ましい。ただし本発明の蒸着薄膜層は、上述した無機酸化物に限定されず、上記条件に適合する材料であれば用いることが可能である。
【００２９】
蒸着薄膜層の厚さは、用いられる無機化合物の種類・構成により最適条件が異なるが、一般的には５〜３００ｎｍの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし膜厚が５ｎｍ未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また膜厚が３００ｎｍを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがあるので問題がある。より好ましくは、１０〜１５０ｎｍの範囲内にあることである。」

オ 【図２】（当審注：図中の「４」，「５」，「６」は、【００２４】の記載からみて、順に「５」，「６」、「７」の誤記と認める。）
「

」
カ 「【００４１】
以下に本発明の強密着蒸着フィルムの実施例を具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［表面状態分析方法］
測定に用いたＸ線光電子分光装置は、日本電子株式会社製ＪＰＳ−９０ＭＸＶを用い、Ｘ線源としては非単色化ＭｇＫα（１２５３．６ｅＶ）を使用、出力は１００Ｗ（１０ｋＶ−１０ｍＡ）で測定した。定量分析にはＯ１ｓで２．２８、Ｃ１ｓで１．００の相対感度因子を用いて計算をした。Ｃ１ｓ波形の波形分離解析にはガウシアン関数とローレンツ関数の混合関数を使用し、帯電補正はベンゼン環に由来するＣ−Ｃ結合ピークを２８５．０ｅＶとして補正した。
【実施例１】
【００４２】
厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの未処理面に、以下の条件にてリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）を利用したプラズマ前処理を施した。この時、電極には周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いた。
［プラズマ処理条件］
印加電力：１２０Ｗ
処理時間：０．１ｓｅｃ
処理ガス：アルゴン
処理ユニット圧力：２．０Ｐａ
この上に、電子線加熱方式を用いた反応蒸着により、酸化アルミニウムを１５ｎｍの厚みで成膜して、強密着蒸着フィルムを作成した。
【００４３】
次にこのフィルムを１．０ｗｔ．％のトリエタノールアミンを添加した蒸留水中に８０℃で５分間浸漬し、酸化物アルミニウム蒸着層を取り除いた後、そのフィルム表面のＸＰＳ測定を行った。」
キ 「【００５３】
更に、二液硬化型ポリウレタン系接着剤を用いて、ドライラミネートにより、上記蒸着フィルム／延伸ナイロン（１５μｍ）／未延伸ポリプロピレン（７０μｍ）のレトルト用包装材料を作成した。
［評価１］
上記積層サンプルの蒸着フィルム／延伸ナイロン間のラミネート強度を、オリエンテック社テンシロン万能試験機ＲＴＣ−１２５０を用いて測定した（ＪＩＳ Ｚ１７０７準拠）。但し、測定の際に測定部位を水で湿潤させながら行った。
結果を表１に示す。
［評価２］
上記積層サンプルを用いて４辺をシール部とするパウチを作製し、内容物としてを充填した。その後、１２１℃−３０分間のレトルト殺菌を行い、目視によりレトルト後の状態を観察した。結果を表１に示す。
【００５４】
【表１】

表１より、実施例１〜４の本発明の強密着蒸着フィルムは、実施例５〜８の比較のための蒸着フィルムに比べて、ラミネート強度に優れ、かつレトルト処理後のデラミネーションの発生もなく、食品及びレトルト食品分野や医薬品、電子部材等の非食品分野の包装に用いられる実用範囲の広い包装材料を提供することが可能である。」

以上を総合し、特に実施例１に注目すると、引用文献１には以下の物の発明（以下、「引用発明１−１」という。）、及び、製造方法の発明（以下、「引用発明１−２」という。）が記載されている。
（引用発明１−１）
「厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの一面にリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理を施し、処理面に酸化アルミニウムを１５ｎｍの厚さで成膜蒸着してなるガスバリア性を有する強密着蒸着フィルムであって、
前記リアクティブエッチング処理後のポリエチレンテレフタレートフィルム表面にＸ線光電子分光測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、出力１００Ｗ）を行った時に、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．２３である
ガスバリア性を有する強密着蒸着フィルム。」
（引用発明１−２）
「厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの一面にリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理を施し、処理面に酸化アルミニウムを１５ｎｍの厚さで成膜蒸着してなるガスバリア性を有する強密着蒸着フィルムであって、
前記リアクティブエッチング処理後のポリエチレンテレフタレートフィルム表面にＸ線光電子分光測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、出力１００Ｗ）を行った時に、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．２３である
ガスバリア性を有する強密着蒸着フィルムを製造する工程において、
前記ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムにアルゴンガスを用いてなるリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）を利用したプラズマ前処理を施した
強密着蒸着フィルムの製造方法。」

（２）引用文献２に記載された事項
引用文献２には、以下の記載がある。
ア 「【請求項１】
プラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面にプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理を施すことによって設けられているプラズマ前処理層上に、一般式ＡｌＯXで表され、Ｘが１．５〜１．７の範囲である酸化アルミニウムからなる酸化アルミニウム蒸着層が少なくとも設けられていることを特徴とする強密着蒸着フィルム。
・・・（中略）・・・
【請求項３】
前記プラスチック材料がポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド類、ポリエステル類、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、セルロース、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリウレタン類の少なくとも一種類以上を成分に持っているか、あるいは共重合成分に持っていることを特徴とする、請求項１または２記載の強密着蒸着フィルム。
【請求項４】
前記ポリエステル類がポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレートおよびそれらの共重合体のいずれかであることを特徴とする、請求項３に記載の強密着蒸着フィル ム。」
イ 「【発明の効果】
【００１９】
本発明の強密着蒸着フィルムとそれを用いたレトルト用包装材料は、プラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面に、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理を施し、その上に、一般式ＡｌＯXで表され、Ｘが１．５〜１．７の範囲である酸化アルミニウムからなる蒸着層が設けられているので、基材と酸化アルミニウムからなる蒸着層との密着性が極めて強固であると共に、極めて良好なガスバリア性を奏する。さらに、これらにレトルト処理等の加熱殺菌処理を行った場合においても、ハイバリア性を保持し、デラミネーションなどが発生しない。」
ウ 「【００２６】
次に酸化アルミニウム蒸着層２について、詳しく説明する。この酸化アルミニウム蒸着層２は、上述の如く、基材１のＲＩＥによる処理を行ったプラズマ前処理層４の上に積層されており、特に一般式ＡｌＯｘで表される酸化アルミニウムのＸが１．５〜１．７の範囲にある酸化アルミニウムからなることを特徴とする、透明な蒸着層である。
【００２７】
このＸの値は酸化アルミニウム蒸着層表面のＸ線光電子分光法による測定（ＸＰＳ測定）で計測することができる。即ち、酸化アルミニウム蒸着層をその表面から厚さの３分の２程度の深さまでＡｒイオンエッチングにて削り取り、露出した表面部分をＸ線源ＭｇＫα、Ｘ線出力１００Ｗの条件にてＸＰＳ測定し、得られたアルミニウム原子と酸素原子の比率からＸの値を求める。この場合、酸化アルミニウム蒸着層の表面は空気中の酸素による酸化や表面汚染などの影響により元素比が変わり、また、エッチングし過ぎると基材の影響が出てしまうため、正しい値を求めることが出来ない。従って、上述したように酸化アルミニウム蒸着層をその表面から３分の２程度の深さを削り取ってから所期の測定を行う必要がある。
【００２８】
このような測定により得られたＡｌＯｘのＸ値が１．５以下の場合には、アルミニウムが多い状態であるので、酸化アルミニウム蒸着層に色が付いてしまって概観を損ねる。さらに、アルミニウムが過剰の状態では基材表面の官能基と酸化アルミニウムとの相互作用が起こりにくいため、基材との密着性が悪くなり好ましくない。また、ＡｌＯｘのＸ値が１．７以上の場合には酸素が過剰な状態であるが、このような状態の酸化アルミニウム蒸着層は硬くて脆いために伸びに対して弱く、割れが発生しやすい。そのため、例えばこのような酸化アルミニウム蒸着層を設けた蒸着フィルムで包装体を作製し、それに対してレトルト殺菌処理をしたような場合、レトルト殺菌時の熱や圧力により包装体に変形が起き易くなり、その変形に耐えられずに酸化アルミニウム蒸着層が割れ、結果としてバリア性 が低下する恐れがでてくる。
【００２９】
従って、基材との密着がよく、レトルト殺菌時に容器の変形が起こっても割れが起きにくい層にするために、前述の如くに、ＡｌＯｘのＸの値を１．５〜１．７の範囲にすることが重要である。この範囲であると、プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理を行った基材表面との相互作用が起こり、密着性が向上する。また、緻密な酸化アルミニウム蒸着層の上に後述の如くにガスバリア性被膜層３をさらに積層した場合、この層との密着性も向上する。これらの密着性向上の効果により、酸化アルミニウム蒸着層はさらに割れが生じにくくなり、結果としてレトルト殺菌後もハイバリア性を維持できる。
【００３０】
酸化アルミニウム蒸着層２の厚さは、一般的には５〜３００ｎｍの範囲内が望ましく、その値は要求される機能により適宜選択される。ただし膜厚が５ｎｍ未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また膜厚が３００ｎｍを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後に折り曲げられたり引っ張られたりすることにより、薄膜に亀裂を生じる恐れがあるので問題がある。より好ましくは、１０〜１５０ｎｍの範囲内にあることである。」

（３）引用文献３に記載された事項、引用文献３に記載された発明
引用文献３には、以下の記載がある。
ア 「【請求項１】
少なくとも、一方の表面が、Ｘ線光電子分光法により測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、Ｘ線出力１００Ｗ）した元素比率（Ｏ／Ｃ）が、０．４９以下であることを特徴とするポリエチレンテレフタレートフィルム。
【請求項２】少なくとも、一方の表面が、Ｘ線光電子分光法により測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、Ｘ線出力１００Ｗ）し、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）、０．３２以下であることを特徴とするポリエチレンテレフタレートフィルム。」
イ 「【００１８】
図１は本発明のＰＥＴフィルムを説明する断面図である。プラズマを利用したリアクティブエッチング（ＲＩＥ）による前処理を施したＰＥＴフィルム１表面上に、無機蒸着膜２が積層されている構造である。
図２はＸＰＳ測定で得られた未処理ＰＥＴのＣ１ｓ波形をピーク分離解析スペクトルである。Ｃ１ｓ波形はＣ−Ｃ結合４、Ｃ−Ｏ結合５、ＣＯＯ結合６に分離される。なお、それぞれの結合エネルギーの値は、２８５．０ｅＶ（Ｃ−Ｃ結合）、２８６．６〜２８６．７ｅＶ
（Ｃ−Ｏ結合）、２８８．９〜２８９．０ｅＶ（ＣＯＯ結合）である。
【００１９】
Ｘ線光電子分光法による測定（ＸＰＳ測定）では、被測定物質の表面から数ｎｍの深さ領域の原子の種類と濃度やその原子と結合している原子の種類やそれら結合状態が分析でき、元素比率、官能基比率などを求めることができる。
本発明のＰＥＴフィルムは、少なくとも一方の表面に表面処理を施すことにより元素比率（Ｏ／Ｃ）が０．４９以下、及び／またはＣ１ｓ波形分離から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．３２以下を示すものである。そして、該表面上に無機蒸着膜を積層した際、該無機蒸着膜と極めて良好な密着性を示し、レトルトなどの加熱殺菌を行っても無機蒸着膜とデラミネーションを起こしにくい。また、さらに好ましくは、元素比率（Ｏ／Ｃ）が０．２０〜０．４９、及び／またはＣ１ｓ波形分離から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．０５〜０．３２の範囲内であると良い。
【００２０】
それに対し、通常のプラズマ処理などの表面処理が施されていない未処理状態ＰＥＴフィルムは、原子濃度比（Ｏ／Ｃ）が０．５程度の値を示すことが一般的である。また、Ｃ１ｓ波形はＰＥＴ分子構造に由来するＣ−Ｃ結合、Ｃ−Ｏ結合、ＣＯＯ結合のピークに分離され、これらのピーク強度比はＣ−Ｃ：Ｃ−Ｏ：ＣＯＯ＝３：１：１になり、Ｃ−ＣとＣＯＯの比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）は０．３３程度になる。このような（Ｏ／Ｃ）と（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）を示すＰＥＴフィルムは、レトルトなどの加熱殺菌を行うと無機蒸着膜とデラミネーションを起こし密着性が低い。
【００２１】したがって、本発明のＰＥＴフィルムを包装材料として用いれば、レトルトなどの加熱殺菌を行っても、無機蒸着膜とＰＥＴフィルムとの剥離が防止され、高いガスバリア性を維持するものとなる。」
ウ
【図２】

エ 「【００２６】
本発明のＰＥＴフィルムにおいては、ＰＥＴフィルム１の表面の元素比率（Ｏ／Ｃ）を０．４９以下、及び／又は官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）を０．３２以下の範囲となるように調整する。
【００２７】
ＰＥＴフィルム表面にプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理を施すことが有効である。このＲＩＥによる処理を行うことで、発生したラジカルやイオンを利用して元素比率（Ｏ／Ｃ）と官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）を制御する。その結果、ＰＥＴフィルムと無機蒸着層との密着性を強化させることができ、ガスバリア性向上やクラック発生防止につながるだけでなく、レトルトなどの加熱殺菌を行った場合においても、デラミネーションが起こることがない。
【００２８】
次に本発明に用いる無機蒸着膜２は、透明性を有し、かつ酸素、水蒸気等のガスバリア性を有する層であれば、特に限定するものではなく、金属や金属化合物などを用いることができる。中でも、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化錫、酸化マグネシウム、或いはそれらの混合物などの無機酸化物の蒸着膜からなることが好ましい。各種殺菌耐性を配慮するとこれらの中では、特に酸化アルミニウム及び酸化珪素を用いることがより好ましい。ただし無機蒸着膜２は、上述した物に限定されず、上記条件に適合する材料であれば用いることが可能である。
【００２９】
無機蒸着膜２の厚さは、用いられる無機化合物の種類・構成により最適条件が異なるが、一般的には５〜３００ｎｍの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし膜厚が５ｎｍ未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また膜厚が３００ｎｍを越える場合は薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後に折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがあるので問題がある。より好ましくは、１０〜１５０ｎｍの範囲内にあることである。」
オ 「【００３２】
【実施例】
以下に本発明のＰＥＴフィルムの実施例を具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３３】
［表面状態分析方法］
測定に用いたＸ線光電子分光装置は、日本電子株式会社製ＪＰＳ−９０ＭＸＶを用い、Ｘ線源としては非単色化ＭｇＫα（１２５３．６ｅＶ）を使用、出力は１００Ｗ（１０ｋＶ−１０ｍＡ）で測定した。定量分析にはＯ１ｓで２．２８、Ｃ１ｓで１．００の相対感度因子を用いて計算をした。Ｃ１ｓ波形の波形分離解析にはガウシアン関数とローレンツ関数の混合関数を使用し、帯電補正はベンゼン環に由来するＣ−Ｃ結合ピークを２８５．０ｅＶとして補正した。
【００３４】
＜実施例１＞
厚さ１２μｍのＰＥＴフィルムの片面に、処理方法としてリアクテブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理を施した。この時、電極には周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用い、処理ガスにアルゴン／酸素混合ガスを用いた。ＸＰＳ 測定におけるＯ／Ｃは０．４６で、ＣＯＯ／Ｃ−Ｃは０．３２であった。この上に、電子線加熱方式を用いた反応蒸着により、酸化アルミニウムを２０ｎｍの厚みで成膜して、積層体を作成した。」

以上を総合し、特に実施例１に注目すると、引用文献３には以下の物の発明（以下、「引用発明３−１」という。）、及び、製造方法の発明（以下、「引用発明３−２」という。）が記載されている。
（引用発明３−１）
「厚さ１２μｍのＰＥＴフィルムの一面にリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理を施し、処理面に酸化アルミニウムを２０ｎｍの厚さで成膜蒸着してなるガスバリア性を有する酸化アルミニウム蒸着ＰＥＴフィルムであって、
該リアクティブエッチング処理後のフィルム表面をＸ線光電子分光法により測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、Ｘ線出力１００Ｗ）し、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．３２である
ガスバリア性を有する酸化アルミニウム蒸着ＰＥＴフィルム。」
（引用発明３−２）
「厚さ１２μｍのＰＥＴフィルムの一面にリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理を施し、処理面に酸化アルミニウムを２０ｎｍの厚さで成膜蒸着してなるガスバリア性を有する酸化アルミニウム蒸着ＰＥＴフィルムであって、
該前記リアクティブエッチング処理後のポリエチレンテレフタレートフィルム表面にフィルム表面をＸ線光電子分光法により測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、Ｘ線出力１００Ｗ）し、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．３２である
ガスバリア性を有する酸化アルミニウム蒸着ＰＥＴフィルムを製造する工程において、
前記ＰＥＴフィルムにアルゴン／酸素混合ガスを用いてなるリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）を利用したプラズマ前処理を施した
酸化アルミニウム蒸着ＰＥＴフィルムの製造方法。」

２ 引用発明１−１、１−２に基づく本件発明１〜４の進歩性についての検討
まず、本件発明１と引用発明１−１を対比する。
（１）引用発明１−１の「厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム一面にリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理を施し、処理面に酸化アルミニウムを１５ｎｍの厚さで成膜蒸着してなるガスバリア性を有する強密着蒸着フィルム」は、本件発明１の「ポリエチレンテレフタレートからなる基材の少なくとも一方の面に酸化アルミニウム膜を積層してなるガスバリア積層体」に相当する。
（２）引用発明１−１の「前記リアクティブエッチング処理後のポリエチレンテレフタレートフィルム表面にＸ線光電子分光測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、出力１００Ｗ）を行った時に、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．２３である」と、本件発明１の「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピーク全体の面積に対する、ＣＯＯ結合ピークの面積の比率が、１６．２％から１７．８％の範囲内であり」とは、
（２−１）引用発明１−１の「前記リアクティブエッチング処理後のポリエチレンテレフタレートフィルム」が本件発明１の「前記基材」に相当し、かつ、引用発明１−１の「Ｘ線光電子分光測定」による「Ｃ１ｓ波形」が本件発明１の「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）」による「Ｃ１ｓピーク」に相当するため、両者の測定法と測定対象は一致するとともに、
（２−２）引用発明１−１の「官能基」の「ＣＯＯ」が本件発明１の「ＣＯＯ結合」に相当するから、両者は「基材」である「ポリエチレンテレフタレートフィルム」の「ＣＯＯ結合」の存在量を測定する限りにおいて一致する。

そうすると、本件発明１と引用発明１−１は、以下の点で一致し、相違する。
＜一致点＞
「ポリエチレンテレフタレートからなる基材の一方の面に酸化アルミニウム膜を積層してなるガスバリア積層体であって、
Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピークから、ＣＯＯ結合の存在量を測定している
ガスバリア積層体。」

＜相違点１＞
基材のＣＯＯ結合の測定に関し、本件発明１は「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピーク全体の面積に対する、ＣＯＯ結合ピークの面積の比率が、１６．２％から１７．８％の範囲内」であると特定しているのに対し、引用発明１−１は「前記リアクティブエッチング処理後のポリエチレンテレフタレートフィルム表面にＸ線光電子分光測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、出力１００Ｗ）を行った時に、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．２３である」としている点。
＜相違点２＞
ガスバリア積層体を構成する「酸化アルミニウム膜」に関し、本件発明１は「前記酸化アルミニウム膜が、前記ＸＰＳによって算出される酸素とアルミニウムの比（Ｏ／Ａｌ）が１．５から１．８の範囲内である」のに対し、引用発明１−１は、そのように特定されていない点。

上記＜相違点１＞について検討する。
本件発明１と引用発明１−１の相違点は、ポリエチレンテレフタレートからなるフィルム様の基材を同一の測定法にて測定した際に、ＣＯＯ基の存在割合の表し方として、本件発明１ではＣ１ｓピーク全体、すなわち、全官能基のピーク面積に対するＣＯＯ基のピーク面積の比率とした表し方を採用し、引用発明１−１ではポリエチレンテレフタレートフィルム内のＣ−Ｃ基に対するＣＯＯ基の存在比率とした表し方を採用していると理解できる。
引用文献１には、測定対象であるポリエチレンテレフタレートフィルムの官能基組成に関する記載として、上記１（１）ウ、及びオがあり、オの図面はリアクティブエッチング処理が施されていない、「未処理」のフィルムを測定した場合のＣ１ｓ波形分離解析スペクトル図とされ、ウの【００２４】によれば、未処理のＰＥＴには、官能基としてＣ−Ｃ結合、Ｃ−Ｏ結合、ＣＯＯ結合がＣ１ｓ波形に含まれるが、オの図２の図示ではこれがすべてではなく、他の官能基も若干ながら存在することがわかる。
また、ウの【００２７】によれば、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）を利用したプラズマ処理を施すことにより、ＰＥＴフィルムの表面構造が化学的に変化するとされ、その結果、官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）を制御することができる旨の記載がある。
引用文献１の実施例１のポリエチレンテレフタレートフィルムを測定した結果は、ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ＝０．２３であることは明瞭であるものの、他の官能基全体のＣ１ｓピーク波形の全面積はいかほどであり、それに対するＣＯＯのピーク波形の面積がいかほどかは、ＣＯＯ／Ｃ−Ｃの比率単独では割り出すことができないし、たとえリアクティブイオンエッチング処理が未処理である場合に測定した全波形図である引用文献１の図２があろうとも、リアクティブイオンエッチング処理によりＰＥＴフィルムの表面構造が化学的に変化するとされている以上、処理後のＰＥＴフィルムの官能基は、処理前の図２と異なるというべきであり、処理後の実施例１のＰＥＴフィルムの測定結果は不知というべきである。
そうすると、当該相違点１に係る引用発明１−１の「前記リアクティブエッチング処理後のポリエチレンテレフタレートフィルム表面にＸ線光電子分光測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、出力１００Ｗ）を行った時に、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．２３である」ことからは、ＲＩＥ処理により表面の官能基の調整が行われた結果の「ポリエチレンテレフタレートフィルム」の官能基全体に対するＣＯＯの比率は不明であるというにとどまり、本件発明１の対応する発明特定事項との異同は不知と認められる。
したがって、当該相違点１の相違は、引用発明１−１のポリエチレンテレフタレートフィルム表面の官能基のうち、ＣＯＯ結合のフィルム全体に対する比率について、本件発明１と同等である、または、実質的に同等であるとまでは言えず、本件発明１は、引用発明１−１に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。

よって、本件発明１は、上記相違点２を検討するまでもなく、引用発明１−１及び引用文献２記載事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
また、本件発明２−４は、本件発明１の発明特定事項の全てを含むガスバリア積層体ないしガスバリア積層体の製造方法とされ、その一部をさらに限定する発明であるため、前述と同様、引用発明１−１又は引用発明１−２及び引用文献２記載事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。

３ 引用発明３−１、３−２に基づく本件発明１〜４の進歩性についての検討
本件発明１と引用発明３−１を対比する。
（１）引用発明３−１の「厚さ１２μｍのＰＥＴフィルム一面にリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理を施し、処理面に酸化アルミニウムを２０ｎｍの厚さで成膜蒸着してなるガスバリア性を有する酸化アルミニウム蒸着ＰＥＴフィルム」は、本件発明１の「ポリエチレンテレフタレートからなる基材の少なくとも一方の面に酸化アルミニウム膜を積層してなるガスバリア積層体」に相当する
（２）引用発明３−１の「該リアクティブエッチング処理後のフィルム表面をＸ線光電子分光法により測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、Ｘ線出力１００Ｗ）し、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．３２である」と、本件発明１の「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピーク全体の面積に対する、ＣＯＯ結合ピークの面積の比率が、１６．２％から１７．８％の範囲内であり」とは、
（２−１）引用発明３−１の「前記リアクティブエッチング処理後のポリエチレンテレフタレートフィルム」が本件発明１の「前記基材」に相当し、かつ、引用発明３−１の「Ｘ線光電子分光測定」による「Ｃ１ｓ波形」が本件発明１の「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）」による「Ｃ１ｓピーク」に相当するため、両者の測定法と測定対象は一致するとともに、
（２−２）引用発明３−１の「官能基」の「ＣＯＯ」が本件発明１の「ＣＯＯ結合」に相当するから、両者は「基材」である「ポリエチレンテレフタレートフィルム」の「ＣＯＯ結合」の存在量を測定する限りにおいて一致する。
そうすると、本件発明１と引用発明３−１は、以下の点で一致し、相違する。
＜一致点＞
「ポリエチレンテレフタレートからなる基材の一方の面に酸化アルミニウム膜を積層してなるガスバリア積層体であって、
Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピークから、ＣＯＯ結合の存在量を測定している
ガスバリア積層体。」

＜相違点３＞
基材のＣＯＯ結合の測定に関し、本件発明１は「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピーク全体の面積に対する、ＣＯＯ結合ピークの面積の比率が、１６．２％から１７．８％の範囲内」であると特定しているのに対し、引用発明３−１は「該フィルム表面をＸ線光電子分光法により測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、Ｘ線出力１００Ｗ）し、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．３２である」としている点。
＜相違点４＞
ガスバリア積層体を構成する「酸化アルミニウム膜」に関し、本件発明１は「前記酸化アルミニウム膜が、前記ＸＰＳによって算出される酸素とアルミニウムの比（Ｏ／Ａｌ）が１．５から１．８の範囲内である」のに対し、引用発明３−１は、そのように特定されていない点。

上記＜相違点３＞について検討する。
本件発明１と引用発明３−１の相違点は、ポリエチレンテレフタレートからなるフィルム様の基材を同一の測定法にて測定した際に、ＣＯＯ基の存在割合の表し方として、本件発明１ではＣ１ｓピーク全体、すなわち、全官能基のピーク面積に対するＣＯＯ基のピーク面積の比率とした表し方を採用し、引用発明３−１ではポリエチレンテレフタレートフィルム内のＣ−Ｃ基に対するＣＯＯ基の存在比率とした表し方を採用していると理解できる。
引用文献３には、測定対象であるポリエチレンテレフタレートフィルムの官能基組成に関する記載として、上記１（３）イ、及びウがあり、ウの図面はリアクティブエッチング処理が施されていない、「未処理」のフィルムを測定した場合のＣ１ｓ波形分離解析スペクトル図とされ、イの【００２０】によれば、未処理のＰＥＴには、官能基としてＣ−Ｃ結合、Ｃ−Ｏ結合、ＣＯＯ結合がＣ１ｓ波形に含まれるが、ウの図２の図示ではこれがすべてではなく、他の官能基も若干ながら存在することがわかる。
また、エの【００２７】によれば、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）を利用したプラズマ処理を施すことにより、ＰＥＴフィルムの表面構造が化学的に変化するとされ、その結果、官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）を制御することができる旨の記載がある。
引用文献３の実施例１のポリエチレンテレフタレートフィルムを測定した結果は、ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ＝０．３２であることは明瞭であるものの、他の官能基全体のＣ１ｓピーク波形の全面積はいかほどであり、それに対するＣＯＯのピーク波形の面積がいかほどかは、ＣＯＯ／Ｃ−Ｃの比率単独では割り出すことができないし、たとえリアクティブイオンエッチング処理が未処理である場合に測定した全波形図である引用文献３の図２があろうとも、リアクティブイオンエッチング処理によりＰＥＴフィルムの表面構造が化学的に変化するとされている以上、処理後のＰＥＴフィルムの官能基は、処理前の図２と異なるというべきであり、処理後の実施例１のＰＥＴフィルムの測定結果は不知というべきである。
そうすると、当該相違点１に係る引用発明３−１の「該フィルム表面をＸ線光電子分光法により測定（測定条件：Ｘ線源ＭｇＫα、Ｘ線出力１００Ｗ）し、Ｃ１ｓ波形の解析から求めた官能基比率（ＣＯＯ／Ｃ−Ｃ）が０．３２である」ことからは、ＲＩＥ処理により表面の官能基の調整が行われた結果の「ポリエチレンテレフタレートフィルム」の官能基全体に対するＣＯＯの比率は不明であるというにとどまり、本件発明１の対応する発明特定事項との異同は不知と認められる。
したがって、当該相違点３の相違は、引用発明３−１のポリエチレンテレフタレートフィルム表面の官能基のうち、ＣＯＯ結合のフィルム全体に対する比率について、本件発明１と同等である、または、実質的に同等であるとまでは言えず、本件発明１は、引用発明３−１に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。

よって、本件発明１は、上記相違点４を検討するまでもなく、引用発明３−１及び引用文献２記載事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
また、本件発明２−４は、本件発明１の発明特定事項の全てを含むガスバリア積層体ないしガスバリア積層体の製造方法とされ、その一部をさらに限定する発明であるため、前述と同様、引用発明３−１又は引用発明３−２及び引用文献２記載事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。

４ 取消理由１（明確性）について
請求項１に記載された「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピークのＣＯＯ結合ピークの面積率」は、上述のように、本件訂正により「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピーク全体の面積に対する、ＣＯＯ結合ピークの面積の比率」に訂正されたため、取消理由１は理由のないものとなった。

５．取消理由通知において採用しなかった特許異議申立理由について
申立人は、特許異議申立書において、上記取消理由の他に次の理由を主張する。
（１） （ｉ）発明の本質、（ｉｉｉ）Ｏ／Ａｌ、（ｉｖ）製造方法に関する特許法第36条第6項第2号（明確性）
（２） 特許法第36条第6項第1号（サポート要件）
（３） 特許法第36条第4項第1号（実施可能要件）
しかしながら、上記主張の理由（１）〜（３）は次に示すとおり成り立たない。

（１）明確性について
ア （ｉ）及び（ｉｉｉ）について
本件の請求項１の「Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピーク全体の面積に対する、ＣＯＯ結合ピークの面積の比率」及び「前記酸化アルミニウム膜が、前記ＸＰＳによって算出される酸素とアルミニウムの比（Ｏ／Ａｌ）が１．５から１．８の範囲内である」の記載は、それぞれ特定される発明の内容を把握することができるものであり、明確である。
イ （ｉｖ）について
本件の請求項３、４は、発明のカテゴリーとして末尾に「ガスバリア積層体の製造方法」と記載されているとおり、物の製造方法に関する発明である。
そして、その製造方法に関する記載として、請求項３には「前記基材上にプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理が施されていることを特徴とする」と記載されているとおり、「基材」に「プラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理」を「施」すことを特定しようとする記載であると理解でき、製造工程上で採用する一部の工程を特定しようとした内容が明確である。
よって、請求項３及び請求項３を引用する請求項４の記載は、明確である。

（２）サポート要件について
本件特許発明が解決しようとする課題は、本件特許明細書の【０００１】−【０００９】の記載から、「従来のようなガスバリア基材に使われる酸化アルミニウム膜を積層したフィルムでは、酸化アルミニウム膜と基材ＰＥＴ間での凝集力が劣化するため、レトルト処理やボイル処理のような加熱処理により密着性の劣化を引き起こすという欠点があった」（【０００６】）ため、「レトルト処理・ボイル処理を行っても密着性が劣化しないガスバリア積層体を提供すること」（【０００９】）である。
そして、係る課題を解決するための手段としては、次の記載がある。
「【００１８】
本発明者の鋭意検討に基づく知見によれば、ガスバリア積層体のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基材のＣＯＯ結合の割合を好適化することにより、レトルト処理・ボイル処理を行っても密着性が劣化しないガスバリア積層体が得られることを見出した。」
「【００２０】
本発明のガスバリア積層体は、基材であるＰＥＴ中の分子構造のＣＯＯ結合を制御してなるものである。この結果、密着性の向上につながるだけでなく、レトルト処理・ボイル処理においても、密着性の劣化を抑制することができる。
【００２１】
本発明のガスバリア積層体は、本発明者の次の知見に基づくものである。
基材であるＰＥＴの分子構造におけるＣＯＯ結合の割合をＣＯＯ％とすると、ＣＯＯ％は一般にＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）で測定される。例えば基材の測定面積を直径６ｍｍとし、１００ＷのＸ線を照射してＣ１ｓスペクトルを測定し、波形分離解析を行うことによって、前記ＣＯＯ％の測定値が得られる。本発明者は種々の実験検討により、このＣＯＯ％が適切な値になっていないと、密着性劣化を起こしやすいことを見出した。
【００２２】
未処理の場合のＰＥＴフィルムの分子構造は、ＸＰＳで測定されるＣ１ｓ波形の波形分離解析（図２）からＣ−Ｃ結合が約６０％、Ｃ−Ｏ結合が約２０％、ＣＯＯ結合が約２０％となっている。このようにしてＸＰＳで分子構造が測定される。
【００２３】
ＣＯＯ％はＰＥＴフィルム表面の凝集力に関係しており、ＲＩＥ処理をすることにより表面の凝集力が変化することを利用して、さらにＰＥＴ基材のＣＯＯ％を適切な値に調整することができ、その効果としてレトルト処理・ボイル処理で密着性の劣化を防ぐことができる。」
「【００３９】
次に酸化アルミニウム膜２について説明する。酸化アルミニウム膜はＸＰＳ法測定によって算出される酸素とアルミニウムの比（Ｏ／Ａｌ）が１．５〜１．８であることが好ましい。Ｏ／Ａｌが１．５より小さい場合、バリア性が低下し、かつバリア層が着色し透明性を失う。一方、１．８より大きい場合、バリア膜の残留応力が大きく、また水酸基が多く導入された状態でバリア性が著しく低下する。また、ボイル・レトルト処理などで加熱されると、膜とＰＥＴ基材の密着性が低下する。
【００４０】
酸化アルミニウム膜の膜厚は、一般的には５〜３０ｎｍの範囲内が望ましく、その値は適宜選択される。ただし膜厚が５ｎｍ未満であると均一な膜が得られないことや膜厚が十分ではないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また、膜厚が３０ｎｍを越える場合は薄膜の残留応力によりフレキシビリティを保持させることができず、成膜後外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがあるので問題がある。」
「【００５６】
表１に示した結果から、実施例１〜３の条件ではフィルムの剥離強度がいずれも２Ｎ／１５ｍｍ以上が得られ、○の判定であった。これらの結果から、ＣＯＯ％が１６．２％から１７．８％、および酸化アルミニウム薄膜の酸素とアルミニウムの比（Ｏ／Ａｌ）が１．５から１．８に調整したガスバリア積層体フィルムは、優れた密着性を有し、劣化しないことを示した。」
「【００５８】
以上のように本発明のガスバリア積層体は、基材ＰＥＴフィルムのＣＯＯ％とＯ／Ａｌの値が上記の範囲であることにより、ボイル又はレトルト処理後でも優れた密着性を有しているガスバリア積層体が得られる。」
以上の記載から、本件発明の解決しようとする課題に対する解決手段は、「ガスバリア積層体のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基材のＣＯＯ結合の割合を好適化する」（【００１８】）、及び、「酸化アルミニウム膜はＸＰＳ法測定によって算出される酸素とアルミニウムの比（Ｏ／Ａｌ）が１．５〜１．８」（【００３９】）であり、「ＣＯＯ％が１６．２％から１７．８％」（【００５６】）であることが理解できる。
そして、本件の請求項１にはこれら２点が記載されているから、本件の請求項１及び請求項１を引用する請求項２〜４の記載は、発明が解決しようとする課題に対する解決手段が記載されていると認められる。
なお、申立人は、特許異議申立書の５〜６ページ及び３５〜３８ページにかけて、（ｉ）ＰＥＴフィルム、（ｉｉ）ＲＩＥ処理ガス、（ｉｉｉ）ＣＯＯ面積率の測定条件、（ｉｖ）酸化アルミニウム膜の厚み、（ｖ）他の官能基に関して、請求項１〜４の記載は、発明の課題を解決し得ないものを包含している旨を主張しているが、本件発明に関する課題解決手段は上述のとおりであり、請求項１〜４の記載は、解決しようとする課題の解決手段を適切に記載したと認められるから、かかる申立人の主張は成り立たない。

（３）実施可能要件について
上記（２）にて示したとおり、本件の請求項１〜４に係る発明は、発明が解決しようとする課題に対して解決する手段が特許請求の範囲に記載された発明であり、その発明の実施に当たり、本件特許明細書の発明の詳細な説明には、当該発明特定事項であるＣＯＯ結合ピークの面積の比率を充足したポリエチレンテレフタレートからなる基材を用意し、当該基材に酸素とアルミニウムの比を充足した酸化アルミニウム膜を積層するとした内容が、実施例１，２，３として【００４７】〜【００４９】に記載されているから、本件特許明細書に接した当業者が本件発明を実施するに当たり、明確かつ十分な記載があると認められる。
なお、申立人は、特許異議申立書の６ページ及び３８〜３９ページにかけて、ＲＩＥ処理時間、Ｏ／Ａｌ、ＣＯＯ面積率、Ｏ／Ａｌ及び剥離強度の関係に関して発明の詳細な説明に明確かつ十分な記載がないと主張しているが、前述の実施例１〜３にはＲＩＥ処理時間の目安として出力Ｗ数と、ＣＯＯ％の目標値が記載されているから、目標値に達するための処理時間は数度のテストで知得可能であり、また酸化アルミニウム膜についての本件発明特定事項は、酸素原子とアルミニウム原子の存在比率を定めているにすぎず、定法により指定範囲の比率を得ることが可能である。
さらに、ＣＯＯ面積率、Ｏ／Ａｌ及び剥離強度の関係については、本件特許明細書の【００４７】〜【００５８】、【表１】にて三者の関係が記載されている。
したがって、申立人のかかる主張は、採用することができない。

第６ むすび
以上のとおりであるから、取消理由通知に記載した取消理由及び特許異議申立書に記載した特許異議申立理由によっては、本件請求項１−４に係る特許を取り消すことはできない。
また、他に本件請求項１−４に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり決定する。

 
発明の名称 （５７）【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエチレンテレフタレートからなる基材の少なくとも一方の面に酸化アルミニウム膜を積層してなるガスバリア積層体において、
Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定される前記基材のＣ１ｓピーク全体の面積に対する、ＣＯＯ結合ピークの面積の比率が、１６．２％から１７．８％の範囲内であり、前記酸化アルミニウム膜が、前記ＸＰＳによって算出される酸素とアルミニウムの比（Ｏ／Ａｌ）が１．５から１．８の範囲内であることを特徴とするガスバリア積層体。
【請求項２】
前記酸化アルミニウム膜の厚さが５〜３０ｎｍであることを特徴とする、請求項１に記載のガスバリア積層体。
【請求項３】
前記請求項１または２に記載のガスバリア積層体の製造工程において、前記基材上にプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理が施されていることを特徴とするガスバリア積層体の製造方法。
【請求項４】
前記ＲＩＥ処理が、アルゴン、窒素、酸素、水素のうちの１種類のガス、または、これらの混合ガスを用いて１回以上行われる処理であることを特徴とする、請求項３に記載のガスバリア積層体の製造方法。
 
訂正の要旨 審決（決定）の【理由】欄参照。
異議決定日 2022-04-08 
出願番号 P2016-208722
審決分類 P 1 651・ 121- YAA (B32B)
P 1 651・ 537- YAA (B32B)
最終処分 07   維持
特許庁審判長 藤原 直欣
特許庁審判官 西村 泰英
井上 茂夫
登録日 2021-03-08 
登録番号 6848339
権利者 凸版印刷株式会社
発明の名称 ガスバリア積層体及びその製造方法  
代理人 田村 明照  
代理人 黒木 義樹  
代理人 長谷川 芳樹  
代理人 鈴木 洋平  
代理人 黒木 義樹  
代理人 田村 明照  
代理人 鈴木 洋平  
代理人 長谷川 芳樹  

プライバシーポリシー   セキュリティーポリシー   運営会社概要   サービスに関しての問い合わせ