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審決分類 審判 査定不服 特174条1項 取り消して特許、登録(定型) C07D
審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 取り消して特許、登録(定型) C07D
管理番号 1386489
総通号数
発行国 JP 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2022-08-26 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2020-06-22 
確定日 2022-02-08 
事件の表示 特願2016−566122「化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法及び精製方法」拒絶査定不服審判事件〔平成28年6月30日国際公開、WO2016/104214、請求項の数(17)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、2015年12月14日(優先権主張 2014年12月25日 日本(JP))を国際出願日とする特許出願であって、その請求項1〜17に係る発明は、令和3年12月20日提出の手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項1〜17に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審からの拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2022-01-24 
出願番号 P2016-566122
審決分類 P 1 8・ 537- WYF (C07D)
P 1 8・ 55- WYF (C07D)
最終処分 01   成立
特許庁審判長 瀬良 聡機
特許庁審判官 冨永 保
大熊 幸治
発明の名称 化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法及び精製方法  
代理人 内藤 和彦  
代理人 大貫 敏史  
代理人 稲葉 良幸  
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