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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) G03F
審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 取り消して特許、登録(定型) G03F
審判 査定不服 1項3号刊行物記載 取り消して特許、登録(定型) G03F
管理番号 1386868
総通号数
発行国 JP 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2022-08-26 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2021-04-16 
確定日 2022-04-05 
事件の表示 特願2018−524917「パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜」拒絶査定不服審判事件〔平成30年 1月 4日国際公開、WO2018/003271、請求項の数(32)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、平成29年 4月27日(優先権主張 平成28年 6月30日)の出願であって、その請求項に係る発明は、特許請求の範囲の請求項に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当合議体が通知した拒絶理由を検討してもそれらの理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2022-03-15 
出願番号 P2018-524917
審決分類 P 1 8・ 121- WYF (G03F)
P 1 8・ 113- WYF (G03F)
P 1 8・ 537- WYF (G03F)
最終処分 01   成立
特許庁審判長 里村 利光
特許庁審判官 植前 充司
下村 一石
発明の名称 パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び、レジスト膜  
代理人 三橋 史生  
代理人 伊東 秀明  

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