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| 審決分類 |
審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない。 C23C 審判 査定不服 5項独立特許用件 特許、登録しない。 C23C |
|---|---|
| 管理番号 | 1388727 |
| 総通号数 | 10 |
| 発行国 | JP |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2022-10-28 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2021-02-24 |
| 確定日 | 2022-08-29 |
| 事件の表示 | 特願２０１９−１２７７６３「基板付蒸着マスク」拒絶査定不服審判事件〔令和 １年１０月１０日出願公開、特開２０１９−１７３１８１〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 本件審判の請求は、成り立たない。 |
| 理由 |
第１ 手続の経緯 本願は、平成２７年９月２８日に出願された特願２０１５−１９０２６４号（以下「原出願」という。）の一部を令和元年７月９日に新たな特許出願（特願２０１９−１２７７６３号）としたものであって、その後の手続の経緯は以下のとおりである。 令和 ２年 ６月３０日付け：拒絶理由通知書(特許法第50条の2の通 知を伴う拒絶理由通知） 令和 ２年 ８月２８日 ：意見書、手続補正書の提出 令和 ３年 １月 ８日付け：令和２年８月２８日にされた手続補正につ いての補正の却下の決定、拒絶査定 令和 ３年 ２月２４日 ：審判請求書、手続補正書の提出 第２ 令和３年２月２４日にされた手続補正についての補正の却下の決定 ［補正の却下の決定の結論］ 令和３年２月２４日にされた手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。 ［理由］ １ 本件補正について（補正の内容） （１）本件補正後の特許請求の範囲の記載 本件補正により、特許請求の範囲の請求項１の記載は、次のとおり補正された（下線部は、補正箇所である。）。 「【請求項１】 ガラス製基板と、 前記ガラス製基板上にめっき処理されて形成され、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有するめっき層からなる複数の蒸着マスクとを備え、 複数の蒸着マスクは複数段、複数列毎に配置されており、 前記ガラス製基板は、ガラス基板と、前記ガラス基板上に位置する導電性パターンと、を含み、 前記めっき層は、前記導電性パターン上に位置する第１金属層と、前記第１金属層上に位置する第２金属層と、を含み、 前記第１金属層には、第１開口部が設けられており、 前記第２金属層には、前記第１開口部に連通する第２開口部が設けられており、 前記第２開口部の輪郭が前記第１開口部の輪郭を囲んでいる、ことを特徴とする基板付蒸着マスク。」 （２）本件補正前の特許請求の範囲 本件補正前の特許請求の範囲の請求項１の記載は、願書に最初に添付した特許請求の範囲に記載される次のとおりである（なお、令和２年８月２８日にされた手続補正は、令和３年１月８日付けの補正の却下の決定によって却下された。）。 「【請求項１】 ガラス製基板と、 基板上にめっき処理されて形成され、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有するめっき層からなる複数の蒸着マスクとを備え、 複数の蒸着マスクは複数段、複数列毎に配置されていることを特徴とする基板付蒸着マスク。」 ２ 補正の適否 本件補正は、本件補正前の請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項である「基板」、及び「めっき層」について、上記のとおり限定を付加するものであって、補正前の請求項１に記載された発明と補正後の請求項１に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるから、特許法第17条の2第5項2号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。 そこで、本件補正後の請求項１に記載される発明（以下「本件補正発明」という。）が同条第６項において準用する同法第126条第7項の規定に適合するか（特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか）について、以下、検討する。 （１）本件補正発明 本件補正発明は、上記１（１）に記載したとおりのものである。 （２）引用発明、引用文献に記載された技術事項、周知技術 ア 引用文献２に記載された発明 （ア）原査定の拒絶の理由で引用された本願の原出願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献である、特開２００３−１０７７２３号公報（平成１５年４月９日出願公開。以下「引用文献２」という。）には、図面とともに、次の記載がある。（下線は、当審で付した。以下同じ。） 「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、各種電子デバイスの製造工程、特に、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子の製造工程に用いて好適なメタルマスクの製造方法に関するものである。」 「【０００９】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、製造工程における寸法管理が容易で、高精度のメタルマスクを多数枚、同一の精度で作製することができるメタルマスクの製造方法を提供することを目的とする。」 「【００２６】［第１の実施の形態］本発明の第１の実施の形態のＥＬ素子用蒸着用メタルマスクの製造方法について図１に基づき説明する。 【００２７】まず、図１（ａ）に示すように、蒸着またはスパッタリングにより、ガラス基板１の表面（一主面）に導電性材料である、例えば厚みが０．１μｍのＣｒ（クロム）膜（導電膜）２を成膜し、スピンコート法等により、このＣｒ膜２上に、例えば厚みが０．７μｍの感光材料（第１のレジスト膜）３を形成する。 【００２８】次いで、電子ビーム露光法、レーザビーム露光法等により、感光材料３にマスクパターン３ａを直接形成する。次いで、この感光材料３をマスクとしてＣｒ膜２をエッチングし、図１（ｂ）に示すように、このＣｒ膜２に前記マスクパターン３ａと同一形状のマスクパターン２ａを形成し、その後、感光材料３を剥離（除去）する。このプロセスに、一般的に知られているものを適宜選択して使用することができる。例えば、上述の電子ビーム露光法や、レーザビーム露光法では、電子ビームやレーザビームを感光材料３の所定の領域に走査して、その領域を感光する。また、マスタマスクを用いて、所定の領域にのみ光を照射し、感光材料３を感光してもよい。 【００２９】次いで、このＣｒ膜２上に厚みが５０μｍのドライフィルム４をラミネート（形成）し、このＣｒ膜２をマスクとしてドライフィルム４をガラス基板１側から光５を照射して露光する。この結果、図１（ｃ）に示すように、ドライフィルム４にマスクパターン２ａと同一形状のマスクパターン４ａが形成される。 【００３０】次いで、図１（ｄ）に示すように、Ｃｒ膜２に前処理を施した後、該Ｃｒ膜２上に電気メッキにより、例えば、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｎｉ−Ｗ合金等からなる金属メッキ層６を形成する。金属メッキ層６の厚さは３０μｍ〜５０μｍ程度である。その後、この金属メッキ層６を剥離し、マスクパターン４ａと同一形状のマスクパターン７ａが形成されたメタルマスク７とする。」 「【００３６】次に、Ｃｒ膜２が形成されたガラス基板１を利用してメタルマスクを製造する際の手順について、図２を用いてさらに詳細に説明する。 ＜途中省略＞ 【００４７】ここで、Ｓ１６においてドライフィルム４を感光する際に、ガラス基板１を移動したりすることによって、ガラス基板１の裏面から照射される光により、感光されるドライフィルム４のエリアが徐々に広がるように形成することが好適である。すなわち、照射される光が完全な平行光でなければ、ガラス基板１を移動することにより、照射される光がＣｒ膜２の裏側へ若干回り込み、感光する領域が広がる。また、照射される光をＣｒ膜２の近辺で焦点を合わせ、その後若干広がるように設定しても同様の感光が行える。さらに、ガラス基板１の裏面側に、照射光を回折板や散乱板を設け、これによって平行光線を各種の方向を向く散乱光に変換して露光してもよい。これによっても、Ｃｒ膜２の開口を通過した光が開口から広がってドライフィルム４を感光することができる。 【００４８】また、露光の際に、図３に示すように、ドライフィルム４のガラス基板１とは反対の方向に乱反射板１０を配置し、この乱反射板（拡散ボード）１０による反射光をドライフィルム４に対し照射することも好適である。すなわち、この構成によって、ドライフィルム４を一旦通り抜けた光が乱反射板１０により反射され、再度ガラス基板１に向けて照射される。従って、ガラス基板１から離れるに従って、感光される領域が広がる。 【００４９】さらに、ドライフィルム４のエッチングの方法を適宜選択することで、このようなテーパ状のドライフィルム４のエッチングが行える。 【００５０】そして、このようにすると、Ｓ１７の現像において、図４（ａ）に示すように、上方に向けてより広い面積のドライフィルム４を残留させることができる。従って、電気メッキにより形成される金属メッキ層６は、図４（ｂ）に示すように、Ｃｒ膜２上で、最も面積が広く、上方に向けて面積が小さくなるテーパ状の側面を有する。このため、剥離された金属メッキ層６からなるメタルマスク７は、図３に示すように、開口の最も小さい箇所がＣｒ膜２と同様の形状になり、そこから厚み方向（図における上方）に向けて開口が大きくなる。 【００５１】このようなメタルマスクは、使用したときに開口を規定するのは、開口の最も小さい場所であり、この場所はＣｒ膜２と同一に形成されている。従って、非常に精度の高いメタルマスクが得られる。 【００５２】さらに、このようなメタルマスクは、蒸着マスクに利用した場合において、適切な蒸着が行える。すなわち、ＥＬパネルが大きくなってくると、蒸着を行う基板も大きくなる。このような大基板に蒸着を行う際にメタルマスクの開口がまっすぐの孔であると、周辺部分と中心部分とで、蒸着量に差が生じやすい。しかし、メタルマスクの開口にテーパが付いていることによって、周辺部において斜め方向から飛来する蒸発物の蒸着が可能になり、蒸着量の均一化が図れる。なお、メタルマスクは、開口の小さい側を基板側として、蒸着を行う。これにより、蒸着を行う面積自体は正確なものに維持できる。」 「【図１】  」 「【図３】  」 「【図４】  」 （イ）上記記載から、引用文献２には、次の技術事項が記載されているものと認められる。 ａ 引用文献２に記載された技術は、各種電子デバイスの製造工程、特に、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子の製造工程に用いて好適なメタルマスクに関するものであり（【０００１】）、製造工程における寸法管理が容易で、高精度のメタルマスクを多数枚、同一の精度で作製することができるメタルマスクの製造方法を提供することを課題としたものである（【０００９】）。 ｂ 引用文献２には、以下の手順でＥＬ素子用蒸着用メタルマスクを製造する方法が記載されている（【００２６】〜【００３０】）。 （ａ）ガラス基板１の表面に導電性材料である、例えばＣｒ（クロム）膜（導電膜）２を成膜し、このＣｒ膜２上に、感光材料（第１のレジスト膜）３を形成する工程。 （ｂ）感光材料３にマスクパターン３ａを形成し、この感光材料３をマスクとしてＣｒ膜２をエッチングし、このＣｒ膜２に前記マスクパターン３ａと同一形状のマスクパターン２ａを形成し、その後、感光材料３を剥離（除去）する工程。 （ｃ）このＣｒ膜２上にドライフィルム４をラミネート（形成）し、このＣｒ膜２をマスクとしてドライフィルム４をガラス基板１側から光５を照射して露光して、ドライフィルム４にマスクパターン２ａと同一形状のマスクパターン４ａを形成する工程。 （ｄ）Ｃｒ膜２に前処理を施した後、該Ｃｒ膜２上に電気メッキにより、例えば、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｎｉ−Ｗ合金等からなる金属メッキ層６を形成する工程。 （ｅ）この金属メッキ層６を剥離し、マスクパターン４ａと同一形状のマスクパターン７ａが形成されたメタルマスク７を得る工程。 ｃ ドライフィルム４を感光する際に、ガラス基板１を移動したりすることによって、ガラス基板１の裏面から照射される光により、感光されるドライフィルム４のエリアが徐々に広がるように形成することが好適であり（【００４７】）、上方に向けてより広い面積のドライフィルム４を残留させることで、電気メッキにより形成される金属メッキ層６は、Ｃｒ膜２上で、最も面積が広く、上方に向けて面積が小さくなるテーパ状の側面を有するものとなり、このため、剥離された金属メッキ層６からなるメタルマスク７は、開口の最も小さい箇所がＣｒ膜２と同様の形状になり、そこから厚み方向に向けて開口が大きくなる（【００５０】）。 ｄ このようなメタルマスクは、蒸着マスクに利用した場合において、適切な蒸着が行える。すなわち、ＥＬパネルが大きくなってくると、蒸着を行う基板も大きくなり、このような大基板に蒸着を行う際にメタルマスクの開口がまっすぐの孔であると、周辺部分と中心部分とで、蒸着量に差が生じやすいが、メタルマスクの開口にテーパが付いていることによって、周辺部において斜め方向から飛来する蒸発物の蒸着が可能になり、蒸着量の均一化が図れる（【００５２】）。 （ウ）上記（ア）、（イ）から、引用文献２には、ＥＬ素子用蒸着用メタルマスクを製造する工程の途中の、金属メッキ層６を剥離する前の時点において製造される、以下の構造物に係る発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。 「ガラス基板と、 前記ガラス基板の表面に成膜され、エッチングによってマスクパターンが形成されたＣｒ膜（導電膜）と、 前記Ｃｒ膜上に電気メッキにより形成された、例えば、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｎｉ−Ｗ合金等からなる金属メッキ層とを備えた構造物であって、 前記金属メッキ層は、剥離されて、ＥＬ素子用蒸着用メタルマスクとなるものであり、 剥離されてメタルマスクとなる前記金属メッキ層は、開口の最も小さい箇所がＣｒ膜と同様の形状になり、そこから厚み方向に向けて開口が大きくなる、 前記構造物。」 イ 引用文献３に記載された技術事項 （ア）同じく原査定の拒絶の理由で引用された本願の原出願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献である、特開２００２−８３６７９号公報（平成１４年３月２２日出願公開。以下「引用文献３」という。）には、図面とともに、次の記載がある。 「【請求項１】第一電極が形成された１枚の基板上に、ｎ面（ｎは３以上の整数）の少なくとも有機化合物からなる発光層を含む薄膜層および第二電極を形成し、その後、基板をｎ個に切断する工程を含む有機電界発光装置の製造方法であって、前記発光層もしくは前記第二電極の少なくとも一方を、１枚の基板に対してｍ個（ｍは２以上ｎ未満の整数）のシャドーマスクを配置させたマスク蒸着法によりパターニングすることを特徴とする有機電界発光装置の製造方法。 【請求項２】１個のシャドーマスクがｋ面（ｋは２以上ｎ未満の整数）に対応したマスクパターンを有しており、ｎ＝ｍ×ｋであることを特徴とする請求項１記載の有機電界発光装置の製造方法。」 「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子、フラットパネルディスプレイ、バックライト、照明、インテリア、標識、看板、電子写真機などの分野に利用可能な、電気エネルギーを光に変換できる有機電界発光装置の製造方法に関する。」 「【０００６】 【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技術では大きな基板で小さな表示装置を大量に多面取りする場合に、シャドーマスクの数が多くなりすぎて、それぞれの相対位置合わせを行う手間が増大するという問題があった。また、シャドーマスクを保持するフレームの幅やシャドーマスク同士の隙間などに起因する蒸着無効エリアが相対的に広くなる、つまり、基板の有効活用面積が低下するので、１枚の基板から製造できる表示装置数が理想状態に比べて減少するという問題があった。 【０００７】本発明はかかる問題を解決し、シャドーマスク数の過度な増大を防ぎ、基板面積を効率的に活用することが可能な、マスク蒸着法による有機電界発光装置の多面取り製造方法を提供する。」 「【００１０】本発明の好ましい一形態を図１の概念図に示す。１枚の基板上に１６面の少なくとも有機化合物からなる発光層を含む薄膜層および第二電極を形成し、その後、基板を１６個に切断する場合に（ｎ＝１６）、発光層もしくは第二電極の少なくとも一方を、１枚の基板に対して４個のシャドーマスク３０を配置させたマスク蒸着法によりパターニングする例である（ｍ＝４）。それぞれ１個のシャドーマスクはさらに４面に対応したパターンを有しているので（ｋ＝４）、ｎ＝ｍ×ｋの関係にある。」 「【００２３】シャドーマスクの好ましい厚みは、マスク部分の幅の３倍以下、より好ましくは２倍以下である。開口部をエッチング法で除去して作製する場合と電鋳法のようにマスク部を形成して作製する場合などシャドーマスクの作製方法によって、制約される条件が異なるので、選択できる厚さの範囲も異なってくる。本発明に用いるような微細なマスク部分を有するシャドーマスクの作製は、これに限定されるものではないが、電鋳法が好ましい。」 「【００４５】実施例１ 発光層パターニング用としてマスク部分と補強線とが同一平面内に形成されたＮｉ合金からなるシャドーマスクを作製した。１個のシャドーマスクの外形は１２０×８４ｍｍ、マスク部分の厚さは２５μｍである。１面に対応するマスクパターンとして、長さ２９ｍｍ、幅１００μｍのストライプ状開口部がピッチ３００μｍで３２４本配置され、各ストライプ状開口部には、開口部と直交する幅２０μｍ、厚さ２５μｍの補強線が０．９ｍｍ間隔に形成されている。１個のシャドーマスクには、前記パターンが４面分形成されている（ｋ＝４）。また、シャドーマスクは外形が等しい幅４ｍｍのステンレス鋼製フレームに固定されている。このように作製した４個のシャドーマスクを、図１に示したように、長辺方向に１０ｍｍ、短辺方向に１６ｍｍの間隔をあけて、それぞれの相対位置を合わせて２×２の配列に配置した（ｍ＝４）。」 「【図１】  」 上記【００１０】の記載を参酌すると、上記【図１】から、１個のシャドーマスクには、４面（ｋ＝４）のマスクパターンが２段、２列毎に配置されるとともに、各マスクパターンが形成されている領域を囲むように、マスクパターンが形成されていない領域が存在することを見て取ることができる。 （イ）上記（ア）の【請求項２】及び【０００１】の記載によれば、シャドーマスクは、電気エネルギーを光に変換できる有機電界発光装置の製造に用いられるものであり、同【００２３】の記載によれば、シャドーマスクは、電鋳法により作製されることが好ましいものであるといえる。 また、同【請求項２】及び【００４５】の記載によれば、１個のシャドーマスクには、ｋ面（ｋは２以上ｎ未満の整数）に対応したマスクパターンが形成されるものであり、同【０００７】及び【００１０】の記載によれば、シャドーマスクは、１枚の基板から有機電界発光装置を多面取りするためのものであるといえる。 そうすると、１個のシャドーマスクに形成されるマスクパターンの配置は、上記【図１】から見て取れる２段、２列毎に限定されるものではなく、複数段、複数列毎に配置されるものであるといえる。 （ウ）以上によれば、引用文献３には、以下の技術事項が記載されていると認められる。 「電気エネルギーを光に変換できる有機電界発光装置の製造に用いられるシャドーマスクは、 複数のマスクパターンが、複数段、複数列毎に配置され、各マスクパターンが形成されている領域を囲むように、マスクパターンが形成されていない領域が存在し、 前記シャドーマスクは、電鋳法で作製されることが好ましいこと。」 ウ 引用文献４に記載された技術事項 （ア）同じく原査定の拒絶の理由で引用された本願の原出願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献である、特開２０１０−６２１２５号公報（平成２２年３月１８日出願公開。以下「引用文献４」という。）には、図面とともに、次の記載がある。 「【技術分野】 【０００１】 本発明は、ストライプ状のスリットを備えた薄膜蒸着用マスク及びこのマスクを用いた有機電界発光素子の製造方法に関する。」 「【００２８】 本実施例の薄膜蒸着用マスク１０は、電鋳工程などの素材成形技術により製造され得る。電鋳工程を用いると、微細なパターニング及び優れた表面平滑性を得ることができる。」 「【００３７】 図３は、本発明の一実施例による薄膜蒸着用マスクの分解斜視図である。 【００３８】 同図に示すように、本実施例のマスクアセンブリは、大量生産のための装置であって、マスク１０ａと、フレーム２０ａとを備える。 【００３９】 マスク１０ａは、有機電界発光素子をなす単位基板を一度に複数枚ずつ蒸着できるように、金属薄板のベース部材１１ａに形成された複数の単位マスキングパターン部１２ａを備える。複数の単位マスキングパターン部１２ａは、格子状に配列され得る。各単位マスキングパターン部１２ａは、１つの素子に有機物を蒸着することができるものであり、所望する形状にパターニングされた複数のスリット１３ａと、隣接するスリット間に位置するリブ１５ａとを備える。」 「【図３】  」 上記【００３７】〜【００３９】の記載を参酌すると、上記【図３】から、薄膜蒸着用マスク１０ａには、複数の単位マスキングパターン部１２ａが、９段、７列毎に配置され、各単位マスキングパターン部１２ａが形成されている領域を囲むように、単位マスキングパターン部１２ａが形成されていない領域が存在することを見て取ることができる。 （イ）上記（ア）の【００３９】によれば、薄膜蒸着用マスク１０ａは、有機電界発光素子をなす単位基板を一度に複数枚ずつ蒸着できるものであり、金属薄板のベース部材１１ａに形成された複数の単位マスキングパターン部１２ａを備え、複数の単位マスキングパターン部１２ａは、格子状に配列され得るものである。 そうすると、薄膜蒸着用マスク１０ａに形成される複数の単位マスキングパターン部１２ａの配列は、上記【図３】から見て取れる９段、７列毎に限定されるものではなく、複数段、複数列毎に配列されるものであるといえる。 また、同【００２８】には、薄膜蒸着用マスク１０は、電鋳工程などの素材成形技術により製造され得ることが記載されている。 （ウ）以上によれば、引用文献４には、次の技術事項が記載されていると認められる。 「有機電界発光素子をなす単位基板を一度に複数枚ずつ蒸着できる薄膜蒸着用マスク１０ａは、 金属薄板のベース部材１１ａに形成された複数の単位マスキングパターン部１２ａを備え、複数の単位マスキングパターン部１２ａは、複数段、複数列毎に配列され、各単位マスキングパターン部１２ａが形成されている領域を囲むように、単位マスキングパターン部１２ａが形成されていない領域が存在し、 前記薄膜蒸着用マスク１０は、電鋳工程などの素材成形技術により製造され得るものであること。」 エ 引用文献６に記載された技術事項 （ア）同じく原査定の拒絶の理由で引用された本願の原出願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった引用文献である、特開２００１−２３７０７３号公報（平成１３年８月３１日出願公開。以下「引用文献６」という。）には、図面とともに、次の記載がある。 「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、電流の注入によって発光するエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬともいう）を呈する有機化合物材料の薄膜からなる発光層（以下、有機発光層という）を各々が備えた複数の有機ＥＬ素子を所定パターンでもって基板上に形成された有機ＥＬ表示パネルの製造方法に関し、特に該製造方法の蒸着工程に用いるメタルマスク及びその製造方法に関する。」 「【０００５】 【発明が解決しようとする課題】小型表示パネルを製造する場合、蒸着法を用いる製造プロセスにおいて、小型表示パネル用透明基板を大型の透明基板からの多面取りすることによりにより製造効率を高めている。大型化した透明基板を用いた場合、媒体の蒸着工程において、図１に示すように、複数のメタルマスク領域１０１を有する多面取り用メタルマスク１０２を用いなければならない。 【０００６】しかしながら、多面取り用メタルマスクの大型化によって、複数のメタルマスク領域のうち１つでも、精度不良、開口部のバリ、つぶれなどの欠陥があると、多面取り用メタルマスクの製造歩留まりが低下するという問題点があった。また、開口部が大きくスリットが細いパターンの場合にはマスク強度が不足し、各メタルマスクが撓む問題により、微細なパターンが形成できない問題があった。」 「【図１】  」 上記【０００５】の記載を参照すると、上記【図１】から、多面取り用メタルマスク１０２が有する複数のメタルマスク領域１０１は、２段、３列毎に配列され、各メタルマスク領域１０１を囲むように、メタルマスク領域１０１が形成されていない領域が存在することを見て取ることができる。 （イ）上記（ア）の【０００１】には、電流の注入によって発光するエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬともいう）を呈する有機化合物材料の薄膜からなる発光層（以下、有機発光層という）を各々が備えた複数の有機ＥＬ素子を所定パターンでもって基板上に形成された有機ＥＬ表示パネルの製造方法の蒸着工程に用いるメタルマスクが記載されている。 また、同【０００５】の記載によれば、多面取り用メタルマスク１０２が有する複数のメタルマスク領域１０１は、多面取りのために複数となっているものであるから、当該複数のメタルマスク領域１０１は、上記【図１】から見て取れる２段、３列毎に限定されるものではなく、複数段、複数列毎に配列されるものであるといえる。 （ウ）以上によれば、引用文献６には、以下の技術事項が記載されていると認められる。 「電流の注入によって発光するエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬともいう）を呈する有機化合物材料の薄膜からなる発光層を各々が備えた複数の有機ＥＬ素子を所定パターンでもって基板上に形成された有機ＥＬ表示パネルの製造方法の蒸着工程に用いる多面取り用メタルマスク１０２は、 複数のメタルマスク領域１０１を有し、複数のメタルマスク領域１０１は、複数段、複数列毎に配列され、各メタルマスク領域１０１を囲むように、メタルマスク領域１０１が形成されていない領域が存在すること。」 オ 周知技術 （ア）本願の原出願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった文献である、特開２００３−２３１９６４号公報（平成１５年８月１９日出願公開。以下「周知文献１」という。）には、図面とともに、次の記載がある。 「【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜パターンの形成に使用される蒸着マスクおよびその製造方法、並びに該蒸着マスクを使用して薄膜層が形成された有機電界発光装置に関する。」 「【００３１】本発明の蒸着マスクの一例を、図１から図３に示す。蒸着する際に基板側に位置する１層目３０には蒸着パターンである発光層パターンに対応した形状の開口部ａ（図中、３２）と補強線３３が設けられている。【００３２】補強線は開口部ａの変形を防止するために導入され、蒸着物をマスクすることが目的ではない。したがって、画素の上に補強線の影が生じないように、画素と画素の隙間の非発光領域に位置するように補強線は配置される。 【００３３】２層目３１には、１層目の開口部ａよりも大きな開口部ｂ（図中、３４）が設けられている。３層以上の複数層を設ける場合は、３層目以降の層に１層目の開口部ａよりも大きな開口部ｂを設けてもよい。 【００３４】補強線は、蒸着マスクが２層からなる場合は１層目のみに設け、３層以上からなる場合は１層目の開口部ａよりも大きい開口部ｂを持つ層の直前の層まで設けてもかまわない。蒸着マスクが２層からなる場合は、２層目の開口部ｂが、１層目の開口部ａおよび補強線を露出させる。 【００３５】上記の多層構成をとることで、１層目は比較的薄く形成でき開口部ａを精度良く形成可能であり、かつ、補強線も細くできる。蒸着パターンは１層目の開口部ａによって規定されるので、目的とする蒸着パターンの精度が向上する。また、補強線を細くできるので非発光領域を小さく設計でき、開口率が大きく、耐久性に優れた有機電界発光装置を得ることができる。 【００３６】２層目以降を設ける目的の一つは、蒸着マスクの強度向上である。図１に示したように、蒸着マスクは取り扱いを容易にするためフレーム３５に固定されることが多い。この際に蒸着マスクには張力が付加されるが、１層目だけではこの張力に耐えることができず、蒸着マスクの寸法が伸びたり、シワがよるといった問題が生じることがある。２層目以降を付加することでこの問題を解決することができる。 【００３７】さらに２層目もしくは２層目以降の層の開口部ｂを１層目の開口部より大きくすることで、前述の蒸着影の影響が軽減される。すなわち、図２における角度θを蒸着物の入射角より大きくすることで蒸着影を軽減できる。さらに１層目の断面をテーパー形状にすればより好ましい。薄い１層目をテーパー形状にすることは、蒸着マスク全体の厚さをテーパー形状にするよりも寸法精度の点で優れる。もちろん２層目をテーパー加工してもよい。」 「【００４５】蒸着マスクの好ましい製造方法を、図４〜９を使用して説明する。 【００４６】はじめに電鋳母型３７上に通常のフォトリソグラフィ法などを利用してレジストパターン３８を形成する（図４）。このレジストパターンは１層目の開口部ａや位置マークのパターンに対応している。次に、電鋳法によって電鋳母型上にＮｉやＮｉ−Ｃｏ合金などを析出させ、マスク部分の１層目３０のパターンを形成する（図５）。レジストパターンを一旦除去した後に、再度レジストパターン３９を形成する（図６）。電鋳法によって１層目の上にマスク部分の２層目３１のパターンを形成する（図７）。レジストパターンを除去して電鋳母型からこの積層体を剥離する（図８）。この積層体に張力を付加しながらフレーム３５に接着し（図９）、不要部分を切り取ることで蒸着マスクが得られる。１層目と２層目は必ずしも同一材料で形成する必要はない。必要に応じて各層の組成を最適化できる。」 「【図１】  【図２】  【図３】  」 ａ 上記【００３３】の記載を参照すると、上記【図１】、【図２】から、「２層目３１の開口部３４の輪郭が１層目３０の開口部３２を囲むように形成されていること」を見て取ることができる。 ｂ 上記記載から、引用文献８には、次の技術事項が記載されていると認められる。 「有機電界発光装置を形成するための蒸着マスクを多層構成とし、１層目３０を比較的薄く形成することで蒸着パターンを規定する開口部３２を精度良く形成可能とし、２層目３１を設けることで蒸着マスクの強度向上が可能となり、さらに２層目３１の開口部３４を１層目３０の開口部３２より大きくすることで、蒸着影の影響が軽減されること。」 「２層目３１の開口部３４の輪郭が１層目３０の開口部３２を囲むように形成されていること」 「蒸着マスクの１層目３０を電鋳法により形成し、２層目３１も電鋳法により形成すること。」 （イ）本願の原出願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった文献である、特開２００５−１５４８７９号公報（平成１７年６月１６日出願公開。以下「周知文献２」という。）には、図面とともに、次の記載がある。 「【技術分野】 【０００１】 本発明は、蒸着用メタルマスク、および蒸着用メタルマスクの製造方法に関し、特に有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示パネルの製造において、蒸着法で素子を形成する際に用いられる蒸着用メタルマスクに関する。」 「【００１１】 本発明は、平面基板にマスク蒸着するための複数の蒸気通孔を有する蒸着用メタルマスクにおいて、該蒸着用メタルマスクが少なくとも２種以上の異なる金属層からなる積層体であることを特徴とする蒸着用メタルマスクである。 特に有機ＥＬ表示パネル製造用の蒸着用メタルマスクであって、該蒸着用メタルマスクが少なくとも２種以上の異なる金属層を重ね合せた積層体からなることを特徴とする。この金属層のいずれかの層には、単一の金属だけではなく合金を用いることも好ましい。」 「【実施例１】 【００１８】 ＜途中省略＞本実施の形態では、図１に示す蒸着用メタルマスク７の平面方向の熱膨張係数と、ガラス基板１の熱膨張係数とを略同一に調整している例を示す。その製造工程の概略を図２に示すが、電鋳法によって第一の金属層のニッケル層１３と、第二の金属層のニッケル−鉄合金層１５からなる積層体として蒸着用メタルマスクを製造するものである。 ＜途中省略＞ 【００２０】 ＜途中省略＞ 図４にこの平面図を示す。２００ｍｍ四方の蒸着メタルマスクの中に、小さな開口１７で第一の金属層が形成されており、その上に大きな開口１８で第二の金属層が形成されている。こうすることで開口部１６のパターン形状は周囲を第一の金属層によって正確に形成されており、また蒸着用メタルマスクの機械的な強度に関しては、第二の金属層の強度で支持している。」 「【図２】  」 「【図４】  」 ａ 上記【００１８】、【００２０】の記載を参照すると、上記【図２】、【図４】から、「第二の金属層１５の開口１８の輪郭が第一の金属層１３の開口１７を囲むように形成されていること」を見て取ることができる。 ｂ 上記記載から、引用文献９には、次の技術事項が記載されていると認められる。 「２種以上の異なる金属層を重ね合せた積層体で形成した有機ＥＬ表示パネル製造用の蒸着用メタルマスクについて、小さな開口１７を第一の金属層１３に形成し、大きな開口１８を第二の金属層１５に形成することにより、開口部１６のパターン形状は周囲を第一の金属層１３によって正確に形成されており、また蒸着用メタルマスクの機械的な強度に関しては、第二の金属層１５の強度で支持すること。」 「第二の金属層１５の開口１８の輪郭が第一の金属層１３の開口１７を囲むように形成されていること。」 「蒸着用メタルマスクを構成する積層体について、電鋳法により第一の金属層１３のニッケル層と第二の金属層１５のニッケル−鉄合金層を形成すること。」 （ウ）周知技術の認定 周知文献１には、有機電界発光装置を形成するための蒸着マスクを多層構成とし、電鋳法で１層目を比較的薄く形成することで蒸着パターンを規定する開口部を精度良く形成可能とし、電鋳法で２層目を設けることで蒸着マスクの強度向上を可能とし、さらに２層目の開口部を１層目の開口部より大きくすることで、蒸着影の影響を軽減するという技術において、前記２層目の開口部の輪郭が１層目の開口部を囲むように形成されることが記載されている（上記（ア）ｂ）。 また、周知文献２にも、有機ＥＬ表示パネル製造用の蒸着用メタルマスクについて、小さな開口を有する第一の金属層を電鋳法で形成し、大きな開口を有する第二の金属層を電鋳法で形成することで、開口部のパターン形状の周囲を第一の金属層によって正確に形成するとともに、蒸着用メタルマスクの機械的な強度を第二の金属層の強度で支持するという技術において、第二の金属層の開口の輪郭が第一の金属層の開口を囲むように形成されることが記載されている（上記（イ）ｂ）。 ここで、周知文献１、２に記載の「電鋳」法は、金属めっきの一種といえるし、周知文献１、２に記載の「有機電界発光装置を形成するための蒸着マスク」及び「有機ＥＬ表示パネル製造用の蒸着用メタルマスク」は、いずれも「ＥＬ素子用蒸着マスク」といえるから、上記周知文献１、２の記載から、ＥＬ素子用蒸着マスクを、第一の金属めっき層と第二の金属めっき層とを含む積層構造にし、第一の金属めっき層を比較的薄く形成して蒸着パターンを規定する開口部を精度良く形成可能にするとともに、第二の金属めっき層によりメタルマスクの強度を向上させ、さらに第二の金属めっき層の開口部を第一の金属めっき層の開口部より大きく形成することで蒸着影の影響を軽減するとともに、前記第二の金属めっき層の大きな開口部の輪郭が前記第一の金属めっき層の開口部の輪郭を囲むように形成するという技術は、本願の原出願の出願日当時における周知技術であったと認められる。 （３）引用発明との対比 ア 本件補正発明と引用発明とを対比する。 （ア）引用発明の「ガラス基板の表面に成膜され、エッチングによってマスクパターンが形成されたＣｒ膜（導電膜）」は、本件補正発明の「ガラス基板上に位置する導電性パターン」に相当する。 したがって、引用発明の「ガラス基板」と「前記ガラス基板の表面に成膜され、エッチングによってマスクパターン２ａが形成されたＣｒ膜（導電膜）」とからなる部材は、本件補正発明の「ガラス基板と、前記ガラス基板上に位置する導電性パターンと、を含」む「ガラス製基板」に相当する。 （イ）引用発明の「例えば、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｎｉ−Ｗ合金等からなる金属メッキ層」は、「Ｃｒ膜上に電気メッキにより形成された」ものであり、「剥離されて、ＥＬ素子用蒸着用メタルマスク」となるから、引用発明の「金属メッキ層」は、本件補正発明の「導電性パターン上に位置する第１金属層」であって、「めっき層からなる」「蒸着マスク」に相当する。 （ウ）引用発明の「金属メッキ層」の「開口」は、本件補正発明の「第１金属層」に設けられた「第１開口部」に相当する。 （エ）引用発明の「金属メッキ層」に形成された「開口」が位置する領域は有孔領域といえる。そして、有孔領域の周囲において、当該有孔領域を囲む「金属メッキ層」は無孔領域といえる。したがって、引用発明の「金属メッキ層」と、本件補正発明の「めっき層」とは、「有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する」点で一致する。 （オ）上記（ア）〜（エ）より、本件補正発明と引用発明とは、「基板付蒸着マスク」である点で共通するといえる。 イ 以上のことから、本件補正発明と引用発明との一致点及び相違点は、次のとおりである。 【一致点】 「ガラス製基板と、 前記ガラス製基板上にめっき処理されて形成され、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有するめっき層からなる蒸着マスクとを備え、 前記ガラス製基板は、ガラス基板と、前記ガラス基板上に位置する導電性パターンと、を含み、 前記めっき層は、前記導電性パターン上に位置する第１金属層を含み、 前記第１金属層には、第１開口部が設けられている、基板付蒸着マスク。」 【相違点１】 「蒸着マスク」を、本件補正発明は、「ガラス製基板上」に「複数」備え、「複数の蒸着マスクは複数段、複数列毎に配置」されているのに対し、引用発明は、当該構成について特定されていない点。 【相違点２】 「めっき層」について、本件補正発明は、「輪郭が前記第１開口部の輪郭を囲んでいる」「第１開口部に連通する第２開口部が設けられ」た「第１金属層上に位置する第２金属層」を含むのに対し、引用発明は、「開口の最も小さい箇所」「から厚み方向に向けて開口が大きくなる」「金属メッキ層」を含む点。 （４）判断 以下、相違点について検討する。 ア 相違点１について （ア）引用文献２には、上記（２）アのとおり、ＥＬ素子用蒸着用メタルマスクの製造方法が記載されているところ、同引用文献には、図１、図３、及び図４等に、製造されるＥＬ素子用蒸着用メタルマスクの開口の近傍の様子が模式的に記載されているだけであって、製造されるＥＬ素子用蒸着用メタルマスクの全体の形状・構造について、具体的な記載はない。 しかしながら、引用発明に係る「構造物」の金属メッキ層は、剥離されて、ＥＬ素子用蒸着用メタルマスクとなるのであるから、引用発明の金属メッキ層の全体の形状・構造としては、ＥＬ素子用蒸着用メタルマスクとして通常用いられているものと同様の形状・構造が想定されていると考えることが自然かつ合理的である。 （イ）一方、上記（２）イ（ウ）のとおり、引用文献３には、「電気エネルギーを光に変換できる有機電界発光装置の製造に用いられるシャドーマスクは、複数のマスクパターンが、複数段、複数列毎に配置され、各マスクパターンが形成されている領域を囲むように、マスクパターンが形成されていない領域が存在し、前記シャドーマスクは、電鋳法で作製されることが好しいこと。」という技術事項（以下、「引用文献３技術事項」ともいう。）が記載されているところ、引用文献３の上記（２）イ（ア）の【００４５】には、「１面に対応するマスクパターンとして、長さ２９ｍｍ、幅１００μｍのストライプ状開口部がピッチ３００μｍで３２４本配置され、各ストライプ状開口部には、開口部と直交する幅２０μｍ、厚さ２５μｍの補強線が０．９ｍｍ間隔に形成されている。」と記載されていることから、上記「マスクパターンが形成されている領域」は、開口部を有している領域、すなわち、孔を有している領域であるから、有孔領域であるといえ、上記「マスクパターンが形成されている領域を囲むように」「存在する」「マスクパターンが形成されてない領域」は、有孔領域を囲む孔の無い領域、すなわち、有効領域を囲む無孔領域であるといえる。 そして、本件補正発明の「蒸着マスク」は、「有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する」ものであって、さらに、本願明細書の【００３１】において、「図示された例では、一つの有孔領域２２が一つの有機ＥＬディスプレイ装置に対応するようになっている。さらに、一つの有孔領域２２が、一つの蒸着マスク２０及び後述する一つの単位レジストパターン３Ｂに対応するようにしてもよい。すなわち、図１（ａ）（ｂ）（ｃ）に示された蒸着マスク装置１０（蒸着マスク２０）によれば、多面付蒸着が可能となっている。」と、一つの有孔領域２２が一つの蒸着マスク２０に対応することが記載されていることを踏まえれば、引用文献３技術事項の「マスクパターンが形成されている領域」、「マスクパターンが形成されている領域を囲むように」「存在する」「マスクパターンが形成されてない領域」は、それぞれ、本件補正発明の「有孔領域」、「無孔領域」に相当し、引用文献３技術事項の「マスクパターンが形成されている領域」、及び、「マスクパターンが形成されている領域を囲むように」「存在する」「マスクパターンが形成されてない領域」は、本件補正発明の「有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する」「蒸着マスク」に相当する。 また、引用文献３技術事項の「シャドーマスク」は、「電鋳法で作製されることが好ましい」ものであるから、技術常識に照らせば、メタルマスクであるといえ、同「有機電界発光装置」は、「ＥＬ素子」であるといえる。 そうすると、引用文献３には、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する複数の蒸着マスクとを備え、複数の蒸着マスクは複数段、複数列毎に配置されるという、ＥＬ素子用メタルマスクの形状・構造が記載されているといえる。 また、引用文献４には、上記（２）ウ（ウ）のとおり、「有機電界発光素子をなす単位基板を一度に複数枚ずつ蒸着できる薄膜蒸着用マスク１０ａは、金属薄板のベース部材１１ａに形成された複数の単位マスキングパターン部１２ａを備え、複数の単位マスキングパターン部１２ａは、複数段、複数列毎に配列され、各単位マスキングパターン部１２ａが形成されている領域を囲むように、単位マスキングパターン部１２ａが形成されていない領域が存在し、前記薄膜蒸着用マスク１０は、電鋳工程などの素材成形技術により 製造され得るものであること。」という技術事項（以下、「引用文献４技術事項」という。）が記載されているところ、引用文献４の上記（２）ウ（ア）の【００３９】には、「各単位マスキングパターン部１２ａは、・・・所望する形状にパターニングされた複数のスリット１３ａと、隣接するスリット間に位置するリブ１５ａとを備える。」と記載されていることから、上記「単位マスキングパターン部１２ａが形成されている領域」は、スリットを有している領域、すなわち、孔を有している領域であるから、有孔領域であるといえ、上記「単位マスキングパターン部１２ａが形成されている領域を囲むように」「存在する」「単位マスキングパターン部１２ａが形成されていない領域」は、有孔領域を囲む孔の無い領域、すなわち、有効領域を囲む無孔領域であるといえる。 そうすると、引用文献３技術事項について検討したのと同様に、引用文献４技術事項の「単位マスキングパターン部１２ａ」、「単位マスキングパターン部１２ａが形成されている領域を囲むように」「存在する」「単位マスキングパターン部１２ａが形成されていない領域」は、それぞれ、本件補正発明の「有孔領域」、「無孔領域」に相当し、引用文献４技術事項の「単位マスキングパターン部１２ａ」、及び、「単位マスキングパターン部１２ａが形成されている領域を囲むように」「存在する」「単位マスキングパターン部１２ａが形成されていない領域」は、本件補正発明の「有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する」「蒸着マスク」に相当する。 また、引用文献４技術事項の「薄膜蒸着用マスク１０」は、「電鋳工程などの素材形成技術により製造され得るもの」であるから、技術常識に照らせば、メタルマスクであるといえ、同「有機電界発光素子」は、「ＥＬ素子」であるといえる。 そうすると、引用文献４には、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する複数の蒸着マスクとを備え、複数の蒸着マスクは複数段、複数列毎に配置されるという、ＥＬ素子用メタルマスクの形状・構造が記載されているといえる。 加えて、引用文献６には、上記（２）エ（ウ）のとおり、「ＥＬを呈する有機化合物材料の薄膜からなる発光層を各々が備えた複数の有機ＥＬ素子を所定パターンでもって基板上に形成された有機ＥＬ表示パネルの製造方法の蒸着工程に用いる多面取り用メタルマスク１０２は、複数のメタルマスク領域１０１を有し、複数のメタルマスク領域１０１は、複数段、複数列毎に配列され、各メタルマスク領域１０１を囲むように、メタルマスク領域１０１ が形成されていない領域が存在すること。」という技術事項（以下、「引用文献６技術事項」という。）が記載されているところ、引用文献６の上記（２）エ（ア）の【０００５】には、「多面取り用メタルマスクの大型化によって、複数のメタルマスク領域のうち１つでも、精度不良、開口部のバリ、つぶれなどの欠陥があると、多面取り用メタルマスクの製造歩留まりが低下するという問題点があった。また、開口部が大きくスリットが細いパターンの場合にはマスク強度が不足し、各メタルマスクが撓む問題により、微細なパターンが形成できない問題があった」と記載されていることから、上記「メタルマスク領域１０１」は、開口部を有している領域、すなわち、孔を有している領域であるから、有孔領域であるといえ、上記「メタルマスク領域１０１を囲むように」「存在する」「メタルマスク領域１０１が形成されていない領域」は、有孔領域を囲む孔の無い領域、すなわち、有効領域を囲む無孔領域であるといえる。 そうすると、引用文献３技術事項について検討したのと同様に、引用文献６技術事項の「メタルマスク領域１０１」、「メタルマスク領域１０１を囲むように」「存在する」「メタルマスク領域１０１が形成されていない領域」は、それぞれ、本件補正発明の「有孔領域」、「無孔領域」に相当し、引用文献６技術事項の「メタルマスク領域１０１」、及び、「メタルマスク領域１０１を囲むように」「存在する」「メタルマスク領域１０１が形成されていない領域」は、本件補正発明の「有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する」「蒸着マスク」に相当する。 また、引用文献６技術事項の「有機ＥＬ素子」は、「ＥＬ素子」であるといえる。 そうすると、引用文献６には、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する複数の蒸着マスクとを備え、複数の蒸着マスクは複数段、複数列毎に配置されるという、ＥＬ素子用メタルマスクの形状・構造が記載されているといえる。 すなわち、引用文献３〜４、６の記載から、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する複数の蒸着マスクとを備え、複数の蒸着マスクは複数段、複数列毎に配置されるという形状・構造は、ＥＬ素子用蒸着用メタルマスクとして通常用いられていた形状・構造であったと認められる。 （ウ）してみれば、金属メッキ層の全体の形状・構造が特定されていない引用発明の具体化に際し、引用文献３〜４、６に記載される、ＥＬ素子用蒸着用メタルマスクとして通常用いられていた形状・構造を採用すること、すなわち、引用発明において、相違点１に係る本件補正発明の構成とすることは、当業者であれば適宜なし得たことである。 イ 相違点２について （ア）上記（２）ア（イ）ｄのとおり、引用文献２には、ＥＬパネルが大きくなってくると、蒸着を行う基板も大きくなり、このような大基板に蒸着を行う際にメタルマスクの開口がまっすぐの孔であると、周辺部分と中心部分とで、蒸着量に差が生じやすいが、メタルマスクの開口にテーパが付いていることによって、周辺部において斜め方向から飛来する蒸発物の蒸着が可能になり、蒸着量の均一化が図れるとの認識が示されている。 そして、引用発明は、「剥離されてメタルマスクとなる前記金属メッキ層は、開口の最も小さい箇所がＣｒ膜と同様の形状になり、そこから厚み方向に向けて開口が大きくなる」という構成を備えていることから、引用発明が解決しようとする課題には、基板が大きくなっても、蒸着量の均一化を図ることが含まれている。 （イ）上記（２）オ（ウ）のとおり、ＥＬ素子用蒸着マスクを、第一の金属めっき層と第二の金属めっき層とを含む積層構造にし、第一の金属めっき層を比較的薄く形成して蒸着パターンを規定する開口部を精度良く形成可能にするとともに、第二の金属めっき層によりメタルマスクの強度を向上させ、さらに第二の金属めっき層の開口部を第一の金属めっき層の開口部より大きく形成することで蒸着影の影響を軽減するとともに、前記第二の金属めっき層の大きな開口部の輪郭が前記第一の金属めっき層の開口部の輪郭を囲むように形成するという技術は、本願の原出願の出願日当時における周知技術であるところ、上記周知技術における「第一の金属めっき層」、「第一の金属めっき層の開口部」、「第二の金属めっき層」及び「第二の金属めっき層の開口部」は、それぞれ、本件補正発明の「第１金属層」、「第１開口部」、「第２金属層」及び「輪郭が前記第１開口部の輪郭を囲んでいる」「第１開口部に連通する第２開口部」に相当し、上記周知技術における「第一の金属めっき層」及び「第二の金属めっき層」は、本件補正発明の「めっき層」に相当する。 また、上記周知技術における、「前記第二の金属めっき層の大きな開口部の輪郭が前記第一の金属めっき層の開口部の輪郭を囲む」は、本件補正発明の「前記第２開口部の輪郭が前記第１開口部の輪郭を囲んでいる」に相当する。 （ウ）引用発明の「ＥＬ素子用蒸着用メタルマスク」と、上記周知技術の「第一の金属めっき層」及び「第二の金属めっき層」で構成される「ＥＬ素子用蒸着マスク」とは、いずれも、ＥＬ素子用蒸着用メタルマスクという点で共通するから、引用発明と上記周知技術の技術分野は関連している。 また、上記周知技術の「蒸着影の影響を軽減する」との課題は、引用発明の「蒸着量の均一化を図ること」との課題と共通する。 さらに、「金属メッキ層」について、引用発明の「開口の最も小さい箇所」「から厚み方向に向けて開口が大きく」することは、周辺部において斜め方向から飛来する蒸着物の蒸着を可能にして蒸着量の均一化を図るという機能を有し（上記（２）ア（イ）ｄ）、これは、上記周知技術の「第二の金属めっき層の開口部を第一の金属めっき層の開口部より大きく形成すること」ことにより、蒸着影の影響を軽減するという機能と共通する。 してみれば、引用発明の「金属メッキ層」に換えて、共通の機能を有する上記周知技術の「第一の金属めっき層」及び「第二の金属めっき層」を採用し、第一の金属めっき層に蒸着パターンを規定する開口部を形成し、かつ第二の金属めっき層の開口部を第一の金属めっき層の開口部より大きく形成するとともに、前記第二の金属めっき層の大きな開口部の輪郭が前記第一の金属めっき層の開口部の輪郭を囲むように形成することは、当業者であれば適宜なし得たことである。 ウ そして、これらの相違点を総合的に勘案しても、本件補正発明の奏する作用効果は、引用発明及び引用文献３〜４、６に記載された技術事項ないし周知技術の奏する作用効果から予測される範囲内のものにすぎず、格別顕著なものということはできない。 エ したがって、本件補正発明は、引用発明及び引用文献３〜４、６に記載された技術事項ないし周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 ３ 本件補正についてのむすび よって、本件補正は、特許法第17条の2第6項において準用する同法第126条第7項の規定に違反するので、同法第159条第1項の規定において読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下すべきものである。 したがって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。 第３ 本願発明について １ 本願発明 令和３年２月２４日にされた手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、願書に最初に添付した特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、その請求項１に記載された事項により特定される、前記第２［理由］１（２）に記載のとおりのものである。 ２ 原査定の拒絶の理由 原査定の拒絶の理由は、この出願の請求項１に係る発明は、本願の原出願の出願前に頒布された又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった下記の引用文献１又は２に記載された発明及び引用文献３〜６に記載された事項に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない、というものである。 １.特開２０１５−１５１５７９号公報 ２.特開２００３−１０７７２３号公報 ３.特開２００２−８３６７９号公報 ４.特開２０１０−６２１２５号公報 ５.特開２００６−３７２０３号公報 ６.特開２００１−２３７０７３号公報 ３ 引用文献 原査定の拒絶の理由で引用された引用文献２〜４及び引用文献６の記載事項は、前記第２の［理由］２（２）に記載したとおりである。 ４ 対比・判断 （１）引用発明との対比 ア 本願発明と引用発明とを対比する。 （ア）引用発明の「ガラス基板」と、「前記ガラス基板の表面に成膜され、エッチングによってマスクパターン２ａが形成されたＣｒ膜（導電膜）」とからなる部材は、本願発明の「ガラス製基板」に相当する。 （イ）引用発明の「例えば、Ｎｉ、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｎｉ−Ｗ合金等からなる金属メッキ層」は、「Ｃｒ膜上に電気メッキにより形成された」ものであり、「剥離されて、ＥＬ素子用蒸着用メタルマスク」となるから、引用発明の「金属メッキ層」は、本願発明の「基板上にめっき処理されて形成され」た「めっき層からなる」「蒸着マスク」に相当する。 （ウ）引用発明の「金属メッキ層」に形成された「開口」が位置する領域は有孔領域といえる。そして、有孔領域の周囲において、当該有孔領域を囲む「金属メッキ層」は無孔領域といえる。したがって、引用発明の「金属メッキ層」と、本願発明の「めっき層」とは、「有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有する」点で一致する。 （エ）上記（ア）〜（ウ）より、本願発明と引用発明とは、「基板付蒸着マスク」である点で共通するといえる。 イ 以上のことから、本願発明と引用発明との一致点及び相違点は、次のとおりである。 【一致点】 「ガラス製基板と、 基板上にめっき処理されて形成され、有孔領域と、この有孔領域を囲む無孔領域とを有するめっき層からなる蒸着マスクとを備えた基板付蒸着マスク。」 【相違点３】 「蒸着マスク」を、本願発明は、ガラス製基板上に「複数」備え、「複数の蒸着マスクは複数段、複数列毎に配置」されているのに対し、引用発明は、当該構成について特定されていない点。 （４）判断 以下、相違点について検討する。 ア 相違点３について 相違点３は、上記第２［理由］２（４）アで検討した相違点１と同一である。したがって、上記「相違点１について」で検討した理由と同様の理由によって、当業者が容易に想到し得たことである。 イ したがって、本願発明は、引用発明及び引用文献３〜４、６に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものである。 第４ むすび 以上のとおり、本願発明は、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないから、本願は拒絶されるべきものである。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 別掲 |
（行政事件訴訟法第４６条に基づく教示） この審決に対する訴えは、この審決の謄本の送達があった日から３０日（附加期間がある場合は、その日数を附加します。）以内に、特許庁長官を被告として、提起することができます。 |
| 審理終結日 | 2022-06-29 |
| 結審通知日 | 2022-07-01 |
| 審決日 | 2022-07-19 |
| 出願番号 | P2019-127763 |
| 審決分類 |
P
1
8・
121-
Z
(C23C)
P 1 8・ 575- Z (C23C) |
| 最終処分 | 02 不成立 |
| 特許庁審判長 |
河本 充雄 |
| 特許庁審判官 |
後藤 政博 関根 崇 |
| 発明の名称 | 基板付蒸着マスク |
| 代理人 | 中村 行孝 |
| 代理人 | 宮嶋 学 |
| 代理人 | 岡村 和郎 |
| 代理人 | 堀田 幸裕 |
