ポートフォリオ機能
| ポートフォリオを新規に作成して保存 |
|
|
| 既存のポートフォリオに追加保存 |
|
PDFをダウンロード
|
| 審決分類 |
審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) G03F |
|---|---|
| 管理番号 | 1391599 |
| 総通号数 | 12 |
| 発行国 | JP |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2022-12-28 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2021-10-19 |
| 確定日 | 2022-11-22 |
| 事件の表示 | 特願２０１８−５４６３７８号「反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成３０年４月２６日国際公開、ＷＯ２０１８／０７４５１２号、請求項の数（１１）〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 |
| 理由 |
本願は、平成２９年１０月１８日（優先権主張 平成２８年１０月２１日）の出願であって、その請求項１ないし１１に係る発明は、令和４年１０月１２日になされた手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１１に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審における拒絶理由を検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 審決日 | 2022-11-07 |
| 出願番号 | P2018-546378 |
| 審決分類 |
P
1
8・
121-
WYF
(G03F)
|
| 最終処分 | 01 成立 |
| 特許庁審判長 |
瀬川 勝久 |
| 特許庁審判官 |
松川 直樹 加々美 一恵 |
| 発明の名称 | 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 |
| 代理人 | 弁理士法人 津国 |