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| 審決分類 |
審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) C23C 審判 査定不服 1項3号刊行物記載 取り消して特許、登録(定型) C23C |
|---|---|
| 管理番号 | 1391729 |
| 総通号数 | 12 |
| 発行国 | JP |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2022-12-28 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2021-12-24 |
| 確定日 | 2022-12-06 |
| 事件の表示 | 特願２０２０− ５４６４９「蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及びパターンの形成方法」拒絶査定不服審判事件〔令和 ２年 ９月１０日出願公開、特開２０２０−１４３３７１、請求項の数（１０）〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 |
| 理由 |
本願は、平成２７年５月２９日（優先権主張 平成２６年６月６日 日本国）に出願された特願２０１５−１０９６９９号の一部を、同年１１月２６日に分割して新たな特許出願とした特願２０１５−２３０３７０号の一部を、さらに平成３１年１月２３日に分割して新たな特許出願とした特願２０１９−９３２４号の一部を、さらに令和２年３月２５日に分割して新たな特許出願としたものであって、その請求項１ないし１０に係る発明は、令和３年１２月２４日に提出された手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１０に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由を検討しても、その理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 審決日 | 2022-11-18 |
| 出願番号 | P2020-054649 |
| 審決分類 |
P
1
8・
113-
WYF
(C23C)
P 1 8・ 121- WYF (C23C) |
| 最終処分 | 01 成立 |
| 特許庁審判長 |
日比野 隆治 |
| 特許庁審判官 |
後藤 政博 原 賢一 |
| 発明の名称 | 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及びパターンの形成方法 |
| 代理人 | 特許業務法人 インテクト国際特許事務所 |
| 代理人 | 石橋 良規 |
