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| 審決分類 |
審判 査定不服 特36条4項詳細な説明の記載不備 取り消して特許、登録(定型) C07C 審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) C07C 審判 査定不服 1項3号刊行物記載 取り消して特許、登録(定型) C07C 審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 取り消して特許、登録(定型) C07C 審判 査定不服 特37 条出願の単一性（ 平成16 年１ 月１ 日から） 取り消して特許、登録(定型) C07C |
|---|---|
| 管理番号 | 1392467 |
| 総通号数 | 13 |
| 発行国 | JP |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2023-01-27 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2021-01-08 |
| 確定日 | 2023-01-05 |
| 事件の表示 | 特願２０１７−５３８１３１「化合物及びその製造方法、並びに、組成物、光学部品形成用組成物、リソグラフィー用膜形成組成物、レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、感放射線性組成物、アモルファス膜の製造方法、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜の製造方法、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法、及び、精製方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２９年 ３月 ９日国際公開、ＷＯ２０１７／０３８９７９、請求項の数（３３）〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 |
| 理由 |
本願は、２０１６年９月２日（優先権主張 ２０１５年９月３日 （ＪＰ）日本国）を国際出願日とする出願であって、その請求項１〜３３に係る発明は、令和４年９月１６日受付の手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜３３に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。 そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審において通知した拒絶理由を検討してもそれらの理由によって拒絶すべきものとすることはできない。 また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 審決日 | 2022-12-16 |
| 出願番号 | P2017-538131 |
| 審決分類 |
P
1
8・
121-
WYF
(C07C)
P 1 8・ 537- WYF (C07C) P 1 8・ 536- WYF (C07C) P 1 8・ 65- WYF (C07C) P 1 8・ 113- WYF (C07C) |
| 最終処分 | 01 成立 |
| 特許庁審判長 |
木村 敏康 |
| 特許庁審判官 |
野田 定文 冨永 保 |
| 発明の名称 | 化合物及びその製造方法、並びに、組成物、光学部品形成用組成物、リソグラフィー用膜形成組成物、レジスト組成物、レジストパターンの形成方法、感放射線性組成物、アモルファス膜の製造方法、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜の製造方法、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法、及び、精製方法 |
| 代理人 | 大貫 敏史 |
| 代理人 | 内藤 和彦 |
| 代理人 | 稲葉 良幸 |
