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審決分類 審判 全部申し立て 1項3号刊行物記載  C09K
審判 全部申し立て 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備  C09K
審判 全部申し立て ただし書き1号特許請求の範囲の減縮  C09K
審判 全部申し立て 特36条4項詳細な説明の記載不備  C09K
審判 全部申し立て 2項進歩性  C09K
審判 全部申し立て 判示事項別分類コード：857  C09K
管理番号 1397168
総通号数 17 
発行国 JP 
公報種別 特許決定公報 
発行日 2023-05-26 
種別 異議の決定 
異議申立日 2021-12-07 
確定日 2023-02-14 
異議申立件数 1 
訂正明細書 true 
事件の表示 特許第６８８４８９８号発明「研磨用組成物」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。 
結論 特許第６８８４８９８号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１〜２７〕について訂正することを認める。 特許第６８８４８９８号の請求項９、１１〜１２、１５、１７〜１８及び２０〜２５に係る特許を維持する。 特許第６８８４８９８号の請求項１〜８、１０、１３〜１４、１６、１９及び２６〜２７に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。 
理由 第１ 手続の経緯
特許第６８８４８９８号（以下「本件特許」という。）の請求項１〜２７に係る特許についての出願は、２０２０年（令和２年）２月２０日（優先権主張 令和２年１月２２日）の出願であって、令和３年５月１４日に特許権の設定登録がされ、同年６月９日に特許掲載公報が発行されたものであって、同年１２月７日に、その請求項１〜２７に係る発明の特許に対し、藤井正剛（以下「特許異議申立人」という。）により、特許異議の申立てがされたものである。
特許異議の申立て以後の手続の経緯は次のとおりである。
令和４年 ２月１７日付け 取消理由通知
同年 ４月２２日 意見書・訂正請求書（特許権者）
同年 ５月１１日付け 訂正請求があった旨の通知
同年 ６月１４日 意見書（特許異議申立人）
同年 ７月１４日付け 取消理由通知（決定の予告）
同年 ９月 ７日 上申書（特許権者）
同年 ９月１４日付け 通知書
同年１０月 ４日 上申書（特許権者）
同年１０月１２日付け 通知書
同年１１月１６日 意見書・訂正請求書（特許権者）
同年１１月２４日付け 訂正請求があった旨の通知

なお、特許異議申立人は、令和４年１１月２４日付けの訂正請求があった旨の通知に対して、指定した期間内に応答しなかった。
また、令和４年４月２２日付けの訂正請求による訂正は、特許法第120条の5第7項の規定により取り下げられたものとみなす。

第２ 訂正の適否
１．訂正の内容
令和４年１１月１６日付けの訂正請求による訂正（以下「第２訂正」という。）の「請求の趣旨」は『特許第６８８４８９８号の特許請求の範囲を本訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１〜２７について訂正することを求める。』というものであり、その内容は、以下の訂正事項１〜２７からなるものである（なお、訂正箇所に下線を付す。）。

（１）訂正事項１
訂正前の請求項１を削除する。

（２）訂正事項２
訂正前の請求項２を削除する。

（３）訂正事項３
訂正前の請求項３を削除する。

（４）訂正事項４
訂正前の請求項４を削除する。

（５）訂正事項５
訂正前の請求項５を削除する。

（６）訂正事項６
訂正前の請求項６を削除する。

（７）訂正事項７
訂正前の請求項７を削除する。

（８）訂正事項８
訂正前の請求項８を削除する。

（９）訂正事項９
訂正前の請求項９の「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含み、側鎖基が、少なくともジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基を含む研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項９の「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含み、炭素数３以上の側鎖基が、少なくともジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基を含み、ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．０５〜１０モル％であり、けん化度が８０〜９９．９モル％であり、２０℃における４％水溶液粘度が１〜３００ｍＰａ・ｓであり、さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む、研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（１０）訂正事項１０
訂正前の請求項１０を削除する。

（１１）訂正事項１１
訂正前の請求項１１の「単結晶シリコン基板の研磨用である請求項１〜１０のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項１１の「単結晶シリコン基板の研磨用である請求項９記載の研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（１２）訂正事項１２
訂正前の請求項１２の「側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．０５モル％以上である、請求項１、３〜９及び１１のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項１２の「炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．２〜１０モル％である、請求項９記載の研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（１３）訂正事項１３
訂正前の請求項１３を削除する。

（１４）訂正事項１４
訂正前の請求項１４を削除する。

（１５）訂正事項１５
訂正前の請求項１５の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）が、けん化度が８０〜９９．９モル％であり、２０℃における４％水溶液粘度が１〜３００ｍＰａ・ｓである請求項１、３〜９及び１１〜１２のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項１５の「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含み、炭素数３以上の側鎖基が、少なくともジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基を含み、ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、けん化度が８５〜９９．９モル％であり、２０℃における４％水溶液粘度が１〜２５０ｍＰａ・ｓであり、炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．５〜１０モル％であり、さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む、研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（１６）訂正事項１６
訂正前の請求項１６を削除する。

（１７）訂正事項１７
訂正前の請求項１７の「さらに、ｐＨ調整剤を含む、請求項１〜１６のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項１７の「さらに、ｐＨ調整剤を含む、請求項９、１１、１２、１５のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（１８）訂正事項１８
訂正前の請求項１８の「砥粒及びｐＨ調整剤を含む研磨用組成物であって、砥粒がシリカを含み、ｐＨ調整剤が塩基性化合物を含む、請求項１〜１７のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項１８の「ｐＨ調整剤が塩基性化合物を含む、請求項１７記載の研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（１９）訂正事項１９
訂正前の請求項１９を削除する。

（２０）訂正事項２０
訂正前の請求項２０の「さらに、界面活性剤を含む、請求項１〜１９のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項２０の「さらに、界面活性剤を含む、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（２１）訂正事項２１
訂正前の請求項２１の「さらに、界面活性剤を含む研磨組成物であって、界面活性剤が、オキシエチレン−オキプロピレン構造を有する共重合体及びポリオキシエチレンアルキルエーテルから選択された少なくとも１種を含む、請求項１〜２０のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項２１の「さらに、界面活性剤を含む研磨組成物であって、界面活性剤が、オキシエチレン−オキプロピレン構造を有する共重合体及びポリオキシエチレンアルキルエーテルから選択された少なくとも１種を含む、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（２２）訂正事項２２
訂正前の請求項２２の「さらに、界面活性剤を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子と界面活性剤の割合が、質量比で、１：０．０１〜１：２００である、請求項１〜２１のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項２２の「さらに、界面活性剤を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子と界面活性剤の割合が、質量比で、１：０．０１〜１：２００である、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０、２１のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（２３）訂正事項２３
訂正前の請求項２３の「さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、水溶性高分子の濃度が１ｐｐｍ以上である、請求項１〜２２のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項２３の「さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、水溶性高分子の濃度が１ｐｐｍ以上である、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０〜２２のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（２４）訂正事項２４
訂正前の請求項２４の「さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、固形分濃度が０．０１質量％以上である、請求項１〜２３のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載を、
訂正後の請求項２４の「さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、固形分濃度が０．０１質量％以上である、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０〜２３のいずれかに記載の研磨用組成物。」との記載に訂正する。

（２５）訂正事項２５
訂正前の請求項２５の「研磨対象物の表面を、請求項１〜２４のいずれかに記載の研磨用組成物で研磨する工程を含む、研磨物の製造方法。」との記載を、
訂正後の請求項２５の「研磨対象物の表面を、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０〜２４のいずれかに記載の研磨用組成物で研磨する工程を含む、研磨物の製造方法。」との記載に訂正する。

（２６）訂正事項２６
訂正前の請求項２６を削除する。

（１４）訂正事項２７
訂正前の請求項２７を削除する。

２．本件訂正による訂正の適否
（１）訂正事項１〜８、１０、１３〜１４、１６、１９及び２６〜２７について
訂正事項１〜８、１０、１３〜１４、１６、１９及び２６〜２７は、訂正前の請求項１〜８、１０、１３〜１４、１６、１９及び２６〜２７を削除する訂正である。
してみると、訂正事項１〜８、１０、１３〜１４、１６、１９及び２６〜２７は、いずれも願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内において「特許請求の範囲の減縮」を目的として訂正するものに該当する。
そして、訂正事項１〜８、１０、１３〜１４、１６、１９及び２６〜２７は「特許請求の範囲の減縮」のみを目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
したがって、訂正事項１〜８、１０、１３〜１４、１６、１９及び２６〜２７は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものに該当し、なおかつ、同法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項及び第６項の規定に適合するものである。

（２）訂正事項９について
訂正事項９は、本件特許明細書の段落００５０の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、炭素数３以上の側鎖基の割合は、…０．０５モル％以上、…１０モル％以下」との記載を根拠に、訂正後の請求項９に「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．０５〜１０モル％であり」という発明特定事項を追加して減縮し、
同段落００５３の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）のけん化度は、…好ましくは８０モル％以上」との記載、同段落００５４の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）のケン化度の上限は、…９９．９モル％以下」との記載、及び同段落００５５の「例えば、８０〜９９．９モル％」との記載を根拠に、訂正後の請求項９に「けん化度が８０〜９９．９モル％であり」という発明特定事項を追加して減縮し、
同段落００５９の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）の２０℃における４％水溶液粘度は、…３００ｍＰａ・ｓ以下」との記載、同段落００６０の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）の２０℃における４％水溶液粘度の下限値は、…１ｍＰａ・ｓ以上」との記載、及び同段落００６１の「例えば、１〜３００ｍＰａ・ｓ」との記載を根拠に、訂正後の請求項９に「２０℃における４％水溶液粘度が１〜３００ｍＰａ・ｓであり」という発明特定事項を追加して減縮し、
同段落０１０６〜０１０７の「組成物は、砥粒を含んでいてもよい。…砥粒の中でも、…シリカ（例えば、コロイダルシリカ、フュームドシリカ、沈降シリカ）が特に好ましい。」との記載を根拠に、訂正後の請求項９に「さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む」という発明特定事項を追加して減縮するものであるから、
願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内において「特許請求の範囲の減縮」を目的として訂正するものに該当する。
そして、訂正事項９は「特許請求の範囲の減縮」のみを目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
したがって、訂正事項９は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものに該当し、なおかつ、同法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項及び第６項の規定に適合するものである。

（３）訂正事項１１、１７及び２０〜２５について
訂正事項１１は、訂正前の請求項１１の「請求項１〜１０のいずれかに記載」という択一的な引用記載のうち、請求項１〜８及び１０を引用するものを削除するものであり、
訂正事項１７は、訂正前の請求項１７の「請求項１〜１６のいずれかに記載」という択一的な引用記載のうち、請求項１〜８、１０、１３〜１４及び１６を引用するものを削除するものであり、
訂正事項２０は、訂正前の請求項２０の「請求項１〜１９のいずれかに記載」という択一的な引用記載のうち、請求項１〜８、１０、１３〜１４、１６及び１９を引用するものを削除するものであり、
訂正事項２１は、訂正前の請求項２１の「請求項１〜２０のいずれかに記載」という択一的な引用記載のうち、請求項１〜８、１０、１３〜１４、１６及び１９を引用するものを削除するものであり、
訂正事項２２は、訂正前の請求項２２の「請求項１〜２１のいずれかに記載」という択一的な引用記載のうち、請求項１〜８、１０、１３〜１４、１６及び１９を引用するものを削除するものであり、
訂正事項２３は、訂正前の請求項２３の「請求項１〜２２のいずれかに記載」という択一的な引用記載のうち、請求項１〜８、１０、１３〜１４、１６及び１９を引用するものを削除するものであり、
訂正事項２４は、訂正前の請求項２４の「請求項１〜２３のいずれかに記載」という択一的な引用記載のうち、請求項１〜８、１０、１３〜１４、１６及び１９を引用するものを削除するものであり、
訂正事項２５は、訂正前の請求項２５の「請求項１〜２４のいずれかに記載」という択一的な引用記載のうち、請求項１〜８、１０、１３〜１４、１６及び１９を引用するものを削除するものであるから、
願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内において「特許請求の範囲の減縮」を目的として訂正するものに該当する。
そして、訂正事項１１、１７及び２０〜２５は「特許請求の範囲の減縮」のみを目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
したがって、訂正事項１１、１７及び２０〜２５は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものに該当し、なおかつ、同法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項及び第６項の規定に適合するものである。

（４）訂正事項１２について
訂正事項１２は、本件特許明細書の段落００５０の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、炭素数３以上の側鎖基の割合は、…０．２モル％以上、…１０モル％以下」との記載を根拠に、訂正前の請求項１２の「０．０５モル％以上である」との記載部分を、訂正後の請求項１２で「０．２〜１０モル％である」に限定して減縮するとともに、
訂正前の請求項１２の「請求項１、３〜９及び１１のいずれかに記載」という択一的な引用記載のうち、請求項１〜８及び１０〜１１を引用するものを削除するものであるから、
願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内において「特許請求の範囲の減縮」を目的として訂正するものに該当する。
そして、訂正事項１２は「特許請求の範囲の減縮」のみを目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
したがって、訂正事項１２は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものに該当し、なおかつ、同法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項及び第６項の規定に適合するものである。

（５）訂正事項１５について
訂正事項１５は、訂正前の請求項９を引用する請求項１５の記載を「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」を目的として独立形式での記載に改めるとともに、
本件特許明細書の段落００５３の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）のけん化度は、…８５モル％以上」との記載を根拠に、訂正前の請求項１５の「けん化度が８０〜９９．９モル％であり」との記載部分を、訂正後の請求項１５の「けん化度が８５〜９９．９モル％であり」に限定して減縮し、
同段落００５９の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）の２０℃における４％水溶液粘度は、…２５０ｍＰａ・ｓ以下」との記載を根拠に、訂正前の請求項１５の「２０℃における４％水溶液粘度が１〜３００ｍＰａ・ｓであり」との記載部分を、訂正後の請求項１５の「２０℃における４％水溶液粘度が１〜２５０ｍＰａ・ｓであり」に限定して減縮し、
同段落００５０の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、炭素数３以上の側鎖基の割合は、…特に好ましくは０．５モル％以上、…１０モル％以下」との記載を根拠に、訂正後の請求項１５に「側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．５〜１０モル％であ」るという発明特定事項を追加して減縮するものであるから、
願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内において「特許請求の範囲の減縮」を目的として訂正するものに該当する。
そして、訂正事項１５は「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」及び「特許請求の範囲の減縮」のみを目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
したがって、訂正事項１５は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」及び同４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」を目的とするものに該当し、なおかつ、同法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項及び第６項の規定に適合するものである。

（６）訂正事項１８について
訂正事項１８は、訂正前の請求項１８の「請求項１〜１７のいずれかに記載」という択一的な引用記載のうち、請求項１〜１６を引用するものを削除して、請求項１７を引用するもののみに限定するとともに、
訂正後の請求項９又は１５を引用する請求項１７の記載が、請求項９又は１５の「さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む」という事項と、請求項１７の「さらに、ｐＨ調整剤を含む」という事項を有するものに減縮されたことにともない、訂正前の請求項１８の「砥粒及びｐＨ調整剤を含む研磨用組成物であって、砥粒がシリカを含み、」との重複記載を削除するものであるから、
願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内において「特許請求の範囲の減縮」を目的として訂正するものに該当する。
そして、訂正事項１８は「特許請求の範囲の減縮」のみを目的とするものであって、カテゴリーや対象、目的を変更するものではないから、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
したがって、訂正事項１８は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものに該当し、なおかつ、同法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項及び第６項の規定に適合するものである。

（７）一群の請求項について
訂正事項１〜２７に係る訂正前の請求項１〜２７について、その請求項２５は直接又は間接的に請求項１〜２４を引用し、その請求項２５を直接又は間接的に引用する請求項２６〜２７は間接的に請求項１〜３及び９〜１０を引用するものであって、引用関係が一体として特許請求の範囲の全部を形成するように連関しているから、訂正前の請求項１〜２７に対応する訂正後の請求項１〜２７は、特許法第120条の5第4項に規定する一群の請求項である。

３．まとめ
以上総括するに、訂正事項１〜２７による第２訂正は、特許法第120条の5第2項ただし書き第１号及び第４号に掲げる事項を目的とするものであり、なおかつ、同条第９項において準用する同法第126条第5項から第６項までの規定に適合するので、訂正後の請求項〔１〜２７〕について訂正を認める。

第３ 本件発明
第２訂正により訂正された請求項１〜２７に係る発明（以下「本１発明」〜「本２７発明」ともいう。）は、その特許請求の範囲の請求項１〜２７に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】（削除）
【請求項２】（削除）
【請求項３】（削除）
【請求項４】（削除）
【請求項５】（削除）
【請求項６】（削除）
【請求項７】（削除）
【請求項８】（削除）
【請求項９】水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含み、炭素数３以上の側鎖基が、少なくともジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基を含み、ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．０５〜１０モル％であり、けん化度が８０〜９９．９モル％であり、２０℃における４％水溶液粘度が１〜３００ｍＰａ・ｓであり、さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む、研磨用組成物。
【請求項１０】（削除）
【請求項１１】単結晶シリコン基板の研磨用である請求項９記載の研磨用組成物。
【請求項１２】炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．２〜１０モル％である、請求項９記載の研磨用組成物。
【請求項１３】（削除）
【請求項１４】（削除）
【請求項１５】水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含み、炭素数３以上の側鎖基が、少なくともジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基を含み、ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、けん化度が８５〜９９．９モル％であり、２０℃における４％水溶液粘度が１〜２５０ｍＰａ・ｓであり、炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．５〜１０モル％であり、さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む、研磨用組成物。
【請求項１６】（削除）
【請求項１７】さらに、ｐＨ調整剤を含む、請求項９、１１、１２、１５のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項１８】ｐＨ調整剤が塩基性化合物を含む、請求項１７記載の研磨用組成物。
【請求項１９】（削除）
【請求項２０】さらに、界面活性剤を含む、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項２１】さらに、界面活性剤を含む研磨組成物であって、界面活性剤が、オキシエチレン−オキプロピレン構造を有する共重合体及びポリオキシエチレンアルキルエーテルから選択された少なくとも１種を含む、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項２２】さらに、界面活性剤を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子と界面活性剤の割合が、質量比で、１：０．０１〜１：２００である、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０、２１のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項２３】さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、水溶性高分子の濃度が１ｐｐｍ以上である、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０〜２２のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項２４】さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、固形分濃度が０．０１質量％以上である、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０〜２３のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項２５】研磨対象物の表面を、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０〜２４のいずれかに記載の研磨用組成物で研磨する工程を含む、研磨物の製造方法。
【請求項２６】（削除）
【請求項２７】（削除） 」

第４ 取消理由通知の概要
１．先に通知した取消理由
令和４年７月１４日付けの取消理由通知（決定の予告）で通知された取消理由は、次の理由１〜２及び６〜７の取消理由からなるものである。

〔理由１〕本件特許の請求項３、６、１０〜１５及び１７〜２７に係る発明は、本件出願日前に日本国内又は外国において頒布された以下の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であるから、特許法第29条第1項第3号に該当し特許を受けることができない。
甲第５号証：国際公開第２０１７／１５０１１８号
甲第１４号証：特開２０１２−２１６７２３号公報
甲第１６号証：特開２０１６−２１３２１６号公報
よって、本件特許の請求項３、６、１０〜１５及び１７〜２７に係る発明に係る特許は、同法第29条の規定に違反してされたものであり、同法第113条第2号の規定に該当し取り消されるべきものである。

〔理由２〕本件特許の請求項３、６〜７、９〜１５及び１７〜２７に係る発明は、本件出願日前に日本国内又は外国において頒布された以下の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、本件出願日前に当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。
甲第５号証：国際公開第２０１７／１５０１１８号
甲第１４号証：特開２０１２−２１６７２３号公報
甲第１５号証：「Ｎｉｃｈｉｇｏ Ｇ−ＰｏｌｙｍｅｒＴＭ ｓｅｒｉｅｓ」、日本合成、２０１７年８月３１日改訂
甲第１６号証：特開２０１６−２１３２１６号公報
参考例Ａ：特開２０１９−１９５０２０号公報
参考例Ｂ：国際公開第２０１４／０８４０９１号
参考例Ｃ：国際公開第２０１８／０４３５０４号
参考例Ｄ：特開２００９−９４２３３号公報
参考例Ｅ：特開２０１６−１７２７０８号公報
よって、本件特許の請求項３、６〜７、９〜１５及び１７〜２７に係る発明に係る特許は、同法第29条の規定に違反してされたものであり、同法第113条第2号の規定に該当し取り消されるべきものである。

〔理由６〕本件特許は、特許請求の範囲の記載が下記の点で不備のため、特許法第36条第6項第1号に適合するものではない。
３（３）請求項１０のケン化度の数値範囲について
３（４）請求項３の炭素数３以上の側鎖基について
３（５）請求項１０の相反する物性の樹脂（Ｂ）の併用について
３（６）請求項３、９、１２、１５及び１９の広範な数値範囲について
よって、本件特許の請求項１〜２７に係る発明に係る特許は、同法第36条第6項の規定を満たしていない特許出願に対してされたものであり、同法第113条第4号の規定に該当し取り消されるべきものである。

〔理由７〕本件特許は、特許請求の範囲の記載が下記の点で不備のため、特許法第36条第6項第2号に適合するものではない。
１（１）請求項２７の「条件（Ａ）」の明確性
１（２）請求項３、９、１２及び１５の「側鎖基の割合」の明確性
１（３）請求項２６の従属関係の整合性
１（４）請求項１０の類似の性質又は機能を有しない選択肢の明確性
よって、本件特許の請求項３、９及び１０並びにその従属項に係る発明に係る特許は、同法第36条第6項の規定を満たしていない特許出願に対してされたものであり、同法第113条第4号の規定に該当し取り消されるべきものである。

第５ 当審の判断
１．理由７（明確性要件）について
（１）請求項２７の「条件（Ａ）」の明確性
上記〔理由７〕で１（１）の記載不備として指摘した点は、具体的には『本件特許の請求項２７に記載された「（Ａ）２６ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数が、直径３００ｍｍあたり７００個以下」という発明特定事項は、その「研磨前の単結晶シリコン基板の表面状態」や「スラリーの流量」や「研磨布」等の研磨や洗浄の条件によって特許請求の範囲の属否が左右される性質のものであるから不明確である。』というものであるところ、第２訂正により、訂正前の請求項２７が削除されたので、当該１（１）の点に理由はない。

（２）請求項３、９、１２及び１５の「側鎖基の割合」の明確性
上記〔理由７〕で１（２）の記載不備として指摘した点は、具体的には『本件特許の請求項３、９、１２及び１５に記載された「側鎖基の割合」に関する発明特定事項は、その割合を「炭素数３以上の側鎖基」のみで計算するのか、あるいは「炭素数３未満の側鎖基」を含めて計算するのか、特許請求の範囲の記載において明確に定義されていないので不明確である。』というものであるところ、第２訂正により、訂正前の請求項３が削除され、訂正後の請求項９、１２及び１５の関連記載は「炭素数３以上の側鎖基の割合」に訂正され、当該「側鎖基の割合」を「炭素数３以上の側鎖基」のみで計算することが明確になったので、当該１（２）の点に理由はない。

（３）請求項２６の従属関係の整合性
上記〔理由７〕で１（３）の記載不備として指摘した点は、具体的には『本件特許の請求項２５を直接的に引用する請求項２６の「研磨工程において、希釈工程で得られた希釈液で研磨する、請求項２５記載の研磨物の製造方法」との記載は、請求項２６の「希釈液で研磨する」工程が、請求項２５の「研磨用組成物で研磨する工程」に含まれる一態様なのか、請求項２５の工程とは別の工程を含むことを意味するのか不明確である。』というものであるところ、第２訂正により、訂正前の請求項２６が削除されたので、当該１（３）の点に理由はない。

（４）請求項１０の類似の性質又は機能を有しない選択肢の明確性
上記〔理由７〕で１（４）の記載不備として指摘した点は、具体的には『本件特許の請求項１０に記載された「ケン化度９０モル％超…のビニルアルコール系樹脂（Ｂ１）」と「ケン化度９０モル％以下のビニルアルコール系樹脂（Ｂ２）」から「選択された少なくとも１種のビニルアルコール系樹脂（Ｂ）」という発明特定事項は、相互に真逆の性質であるため「発明特定事項が選択肢で表現されており、その選択肢同士が類似の性質又は機能を有しないため、発明が不明確となる場合」に該当し、特許を受けようとする発明が明確ではない。』というものであるところ、第２訂正により、訂正前の請求項１０が削除されたので、当該１（４）の点に理由はない。

２．理由１（新規性）について
上記〔理由１〕は、訂正前の請求項３、６、１０〜１５及び１７〜２７に係る発明についてのみ通知され、訂正前の請求項９及びその従属項に係る発明に対しては通知されていない。
そして、第２訂正による訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項に係る発明は、いずれも訂正前の請求項９に係る発明を基礎として、さらに減縮したものである。
したがって、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項に係る発明について、上記〔理由１〕の取消理由は該当しない。

３．理由２（進歩性）について
（１）訂正前の請求項９に係る発明に対する指摘について
第２訂正による訂正後の請求項９及び１５及びその従属項に係る発明は、いずれも訂正前の請求項９に係る発明を基礎として、減縮されているところ、取消理由通知（決定の予告）の第３８頁では『甲第５号証の段落００５２（摘記５ｂ）の「非ＶＡ単位の例としては…アルキルビニルエーテル単位…等が挙げられる。」との記載にある「アルキルビニルエーテル単位」は、炭素原子数が３のアルキル基を有するもののみを意味するものではなく、参考例Ｂの段落００２２（摘記Ｂ１）の「ポリビニルアルコール系樹脂は…他の単量体が共重合されていてもよい。…例えば、…ジアセトンアクリルアミド等のアミド類；…アルキルビニルエーテル類…等が挙げられる。」との記載にあるように、研磨組成物に用いられる「ポリビニルアルコール系樹脂」を構成する「単量体」として「ジアセトンアクリルアミド等のアミド類」などが「アルキルビニルエーテル類」と同程度に有用であることが知られているから、本９発明に進歩性はない。』との指摘がなされている。

（２）甲第５号証及び参考例Ｂの記載事項
ア 甲第５号証（国際公開第２０１７／１５０１１８号）には、次の記載がある。
摘記５ａ：請求項１及び４〜６
「［請求項１］砥粒と、水溶性高分子と、アニオン性界面活性剤と、塩基性化合物と、水と、を含み、
前記アニオン性界面活性剤がオキシアルキレン単位を有し、
前記アニオン性界面活性剤の前記オキシアルキレン単位の平均付加モル数が３を超えて２５以下である、研磨用組成物。…
［請求項４］前記水溶性高分子が、窒素原子を含有するポリマー、セルロース誘導体およびビニルアルコールに由来する構成単位を含むポリマーからなる群から選択される少なくとも一種を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
［請求項５］研磨対象物が単結晶シリコン基板である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の研磨用組成物。
［請求項６］請求項１〜５のいずれか１項に記載の研磨用組成物を用いて研磨対象物を研磨することを含む、研磨方法。」

摘記５ｂ：段落００５２〜００５７
「［００５２］ビニルアルコールに由来する構成単位を含むポリマーとは、一分子中にビニルアルコール単位（−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−により表される構造部分；以下「ＶＡ単位」ともいう。）および非ビニルアルコール単位（ビニルアルコール以外のモノマーに由来する構成単位、以下「非ＶＡ単位」ともいう。）を含む共重合体である。すなわち、一分子のポリマーのうち一部分はＶＡ単位により構成され、他の一部分は非ＶＡ単位により構成されてなる共重合体である。非ＶＡ単位の例としては、特に制限されず、ビニルピロリドンに由来する構成単位、エチレンに由来する構成単位、アルキルビニルエーテル単位、ポリビニルアルコールとアルデヒドとをアセタール化して得られた構成単位等が挙げられる。
［００５３］これらの中でも、非ＶＡ単位としては、炭素原子数１以上１０以下のアルキル基を有するビニルエーテル単位（アルキルビニルエーテル単位）、炭素原子数１以上７以下のモノカルボン酸に由来するビニルエステル単位（モノカルボン酸ビニルエステル単位）、および、ポリビニルアルコールと炭素原子数１以上７以下のアルキル基を有するアルデヒドとをアセタール化して得られた構成単位からなる群から選択されると好ましい。
［００５４］炭素原子数１以下１０以上のアルキル基を有するビニルエーテル単位の例としては、プロピルビニルエーテル単位、ブチルビニルエーテル単位、２−エチルヘキシルビニルエーテル単位等が挙げられる。炭素原子数１以上７以下のモノカルボン酸に由来するビニルエステル単位の例としては、プロパン酸ビニル単位、ブタン酸ビニル単位、ペンタン酸ビニル単位、ヘキサン酸ビニル単位等が挙げられる。
［００５５］ビニルアルコールに由来する構成単位を含むポリマーは、一種類の非ＶＡ単位のみを含んでもよく、二種類以上の非ＶＡ単位を含んでもよい。なお、ＶＡ単位と非ＶＡ単位との含有比率（モル比）は特に制限されず、例えば、ＶＡ単位：非ＶＡ単位（モル比）は、９９：１〜１：９９であると好ましく、９５：５〜５０：５０であるとより好ましく、９５：５〜８０：２０であると特に好ましい。
［００５６］ビニルアルコールに由来する構成単位を含むポリマーの例として、例えば、ビニルアルコール単位およびビニルピロリドン単位を有する共重合体、ビニルアルコール単位およびエチレン単位を有する共重合体、ビニルアルコール単位およびメチルビニルエーテル単位を有する共重合体、ビニルアルコール単位およびｎ−プロピルビニルエーテル単位を有する共重合体、ビニルアルコール単位およびｉ−プロピルビニルエーテル単位を有する共重合体、ビニルアルコール単位およびｎ−ブチルビニルエーテル単位を有する共重合体、ビニルアルコール単位およびｉ−ブチルビニルエーテル単位を有する共重合体、ビニルアルコール単位およびｔ−ブチルビニルエーテル単位を有する共重合体、ビニルアルコール単位および２−エチルヘキシルビニルエーテル単位を有する共重合体、ポリビニルアルコール単位の一部をｎ−ブチルアルデヒドでアセタール化したポリマー等が挙げられる。
［００５７］上記ポリビニルアルコールおよびビニルアルコールに由来する構成単位を含むポリマー（ＶＡ単位および非ＶＡ単位を含む共重合体）は、その側鎖に親水性の官能基を有する変性ポリビニルアルコールであってもよい。かような官能基としては、例えば、オキシアルキレン基、カルボキシ基、スルホ基、アミノ基、水酸基、アミド基、イミド基、ニトリル基、エーテル基、エステル基、およびこれらの塩が挙げられる。」

摘記５ｃ：段落０１４０〜０１４１、０１４４〜０１４５及び０１６１
「［０１４０］ ＜実施例５および比較例６〜７＞…
［０１４１］…・水溶性高分子（ポリビニルアルコール・ポリビニルピロリドン ランダム共重合体（ＰＶＡ−ＰＶＰ；ＰＶＡ：ＰＶＰ（モル比）＝９０：１０）、重量平均分子量：１．５万）…
［０１４４］ ＜実施例７および比較例９＞
表４に示される組成となるように添加した材料の種類および添加量を変更したこと以外は、上記実施例１と同様にして、実施例７および比較例９の研磨用組成物をそれぞれ調製した。使用した材料は、以下の通りである。
［０１４５］
・砥粒（コロイダルシリカ、平均一次粒子径：２４ｎｍ、平均二次粒子径：４６ｎｍ）
・水溶性高分子（ビニルアルコール単位とｎ−プロピルビニルエーテル単位とを８５：１５（モル比）で有するランダム共重合体（疎水変性ＰＶＡ）、重量平均分子量：１．６万）
・塩基性化合物（アンモニア水（２９質量％））
・界面活性剤
各研磨用組成物の特徴を表４にまとめる。…
［０１６１］［表４］

」

イ 参考例Ｂ（国際公開第２０１４／０８４０９１号）には、次の記載がある。
摘記Ｂ１：段落００１４〜００１７及び００２２
「［００１４］以下に、本発明にかかる研磨組成物について説明する。
本実施形態の研磨組成物は、以下のＡ〜Ｃ成分を含むものである。
Ａ：下記一般式（１）で表される単量体とビニルエステル系単量体との共重合体であって、側鎖に１，２−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂Ｂ：有機酸
Ｃ：ｐＨ２．０以上の溶液中で表面のゼータ電位がマイナスであり且つ等電点を持たないように表面が化学修飾された砥粒
【００１５】【化２】

（但し、式中、Ｒ１〜Ｒ６はそれぞれ独立して水素原子または有機基を示し、Ｘは単結合または連結基を示し、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ独立して水素原子またはＲ９−ＣＯ−（式中、Ｒ９はアルキル基を示す。）を示す。）
［００１６］（Ａ）ポリビニルアルコール系樹脂
本実施形態の研磨組成物は、前記一般式（１）で表される単量体とビニルエステル系単量体との共重合体であって、側鎖に１，２−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂を含む。
前記側鎖に１，２−ジオール構造を有するポリビニルアルコール系樹脂は、被研磨物に対する親水性を有するため、被研磨物表面に残留砥粒や研磨カス等が付着しにくくなる。同時に、前記Ｃ成分の砥粒と併存している場合にも、砥粒が凝集することを抑制する。
［００１７］本実施形態のポリビニルアルコール系樹脂の原料であるビニルエステル系単量体としては、例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、バレリン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル、バーサチック酸ビニル等が挙げられる。
中でも、酢酸ビニルが、安価で入手しやすいため好ましい。…
［００２２］尚、本実施形態のポリビニルアルコール系樹脂は、前記一般式（１）で表される単量体および前記ビニルエステル系単量体以外の、他の単量体が共重合されていてもよい。
これらの他の単量体としては、例えば、エチレンやプロピレン等のαーオレフィン；３−ブテン−１−オール、４−ペンテン−１−オール等のヒドロキシ基含有α−オレフィン類およびそのアシル化物などの誘導体；イタコン酸、マレイン酸、アクリル酸等の不飽和酸類あるいはその塩あるいはモノ又はジアルキルエステル；アクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニトリル類；アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド等のアミド類；エチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、メタアリルスルホン酸等のオレフィンスルホン酸あるいはその塩などの化合物；アルキルビニルエーテル類、ジメチルアリルビニルケトン、Ｎ−ビニルピロリドン、塩化ビニル、ビニルエチレンカーボネート、２，２−ジアルキル−４−ビニル−１，３−ジオキソラン、グリセリンモノアリルエーテル、３，４−ジアセトキシ−１−ブテン等のビニル化合物；酢酸イソプロペニル、１−メトキシビニルアセテート等の置換酢酸ビニル類；塩化ビニリデン；１，４−ジアセトキシ−２−ブテン；ビニレンカーボネート等が挙げられる。」

（３）甲第５号証に記載された発明
摘記５ｃの記載からみて、甲第５号証には、実施例７の具体例として、
『砥粒（コロイダルシリカ、平均一次粒子径：２４ｎｍ、平均二次粒子径：４６ｎｍ）０．１６９ｗｔ％、
水溶性高分子〔ビニルアルコール単位とｎ−プロピルビニルエーテル単位とを８５：１５（モル比）で有するランダム共重合体（疎水変性ＰＶＡ）、重量平均分子量：１．６万〕０．００２５質量％、
塩基性化合物（アンモニア）０．００５質量％、及び
界面活性剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸アンモニウム）０．０００２質量％を含む、
研磨用組成物。』についての発明（以下「甲５発明」という。）が記載されているといえる。

（４）対比
本９発明と甲５発明とを対比する。
甲５発明の「水溶性高分子〔ビニルアルコール単位とｎ−プロピルビニルエーテル単位とを８５：１５（モル比）で有するランダム共重合体（疎水変性ＰＶＡ）、重量平均分子量：１．６万〕」は、
その「水溶性高分子」が、本９発明の「水溶性高分子」に相当し、
その「ｎ−プロピルビニルエーテル単位」に由来する側鎖基が、本９発明の「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」と異なる「炭素数３以上の側鎖基」に相当し、
その「ビニルアルコール単位」を有する「ランダム共重合体（疎水変性ＰＶＡ）」が、本９発明の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）」に相当し、
その「ビニルアルコール単位とｎ−プロピルビニルエーテル単位とを８５：１５（モル比）で有する」が、
けん化により生じる「ビニルアルコール単位」が８５モル％であるから、本９発明の「けん化度が８０〜９９．９モル％であり」に相当し、
炭素数３以上の側鎖基である「ｎ−プロピルビニルエーテル単位」が１５モル％であるから、本９発明の「炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．０５〜１０モル％であり」に相当しない。
甲５発明の「砥粒（コロイダルシリカ、平均一次粒子径：２４ｎｍ、平均二次粒子径：４６ｎｍ）」は、本９発明の「さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む」に相当する。
甲５発明の「研磨用組成物」は、本９発明の「研磨用組成物」に相当する。

してみると、本９発明と甲５発明は『水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含み、ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、けん化度が８０〜９９．９モル％であり、さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む、研磨用組成物。』という点において一致し、次の（α）〜（γ）の３つの点において相違する。

（α）炭素数３以上の側鎖基として、本９発明は「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」を少なくとも含むのに対して、甲５発明は「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」を含むものではない点

（β）ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、重合成分（モノマー）換算での炭素数３以上の側鎖基の割合が、本９発明は「０．０５〜１０モル％」であるのに対して、甲５発明は、換算すると「１５モル％」である点

（γ）ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、２０℃における４％水溶液粘度が、本９発明は「１〜３００ｍＰａ・ｓ」であるのに対して、甲５発明は、当該粘度の値が不明な点

（５）判断
上記（α）の相違点について検討する。
甲第５号証には、本９発明の「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」について示唆を含めて記載がない。
そして、参考例Ｂの段落００２２（摘記Ｂ１）に「本実施形態のポリビニルアルコール系樹脂は、前記一般式（１）で表される単量体および前記ビニルエステル系単量体以外の、他の単量体が共重合されていてもよい。これらの他の単量体としては、例えば、エチレンやプロピレン等のαーオレフィン；３−ブテン−１−オール、４−ペンテン−１−オール等のヒドロキシ基含有α−オレフィン類およびそのアシル化物などの誘導体；イタコン酸、マレイン酸、アクリル酸等の不飽和酸類あるいはその塩あるいはモノ又はジアルキルエステル；アクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニトリル類；アクリルアミド、メタクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド等のアミド類；エチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、メタアリルスルホン酸等のオレフィンスルホン酸あるいはその塩などの化合物；アルキルビニルエーテル類、ジメチルアリルビニルケトン、Ｎ−ビニルピロリドン、塩化ビニル、ビニルエチレンカーボネート、２，２−ジアルキル−４−ビニル−１，３−ジオキソラン、グリセリンモノアリルエーテル、３，４−ジアセトキシ−１−ブテン等のビニル化合物；酢酸イソプロペニル、１−メトキシビニルアセテート等の置換酢酸ビニル類；塩化ビニリデン；１，４−ジアセトキシ−２−ブテン；ビニレンカーボネート等が挙げられる。」との記載があるものの、当該「ジアセトンアクリルアミド」を共重合体の単量体（モノマー）として実際に使用した記載がなく、参考例Ｂに記載の発明において、任意成分として列挙される「他の単量体」の中から、特に「ジアセトンアクリルアミド」に着目して、これを甲５発明に組み合わせる動機付けがあるとはいえない。
そして、本９発明は、炭素数３以上の側鎖基として「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」を少なくとも含むことにより、本件特許明細書の段落０２０９の表１に記載されるとおりの効果〔変性に使用したモノマーとして、ジアセトンアクリルアミド（ＤＡＡＭ）を用いた実施例１のものにおいて、その評価結果が、ＬＬＳ欠陥数“Ｃ”、ヘイズ“Ｃ”、ＡＦＭ粗さ“Ａ”となり、ＤＡＡＭを用いない場合のもの（実施例８〜１１及び２０〜２２、比較例１〜３、及び参考例１〜３のもの）の評価結果に比して、予測できない効果〕を奏するに至ったものである。
以上総括するに、本９発明と甲５発明は、上記（α）の実質的な相違点を有するものであり、この相違点は、甲第５号証及び参考例Ｂに記載の技術事項をどのように組み合わせても導き出し得るものではないから、上記（β）及び（γ）の相違点について検討するまでもなく、上記（α）の相違点に係る構成を相当することが当業者にとって容易であるとはいえない。また、本９発明は、上記（α）の相違点に係る構成を具備することにより、格別の効果を奏するものである。
したがって、本９発明は、甲５発明、並びに甲第５号証及び参考例Ｂに記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではないので、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。

（６）本１１〜１２発明について
本１１〜１２発明は、本９発明を直接的に引用し、さらに限定したものであるから、本９発明の進歩性が、甲第５号証及び参考例Ｂによって否定できない以上、その進歩性を否定することはできない。
したがって、本１１〜１２発明は、甲５発明、並びに甲第５号証及び参考例Ｂに記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえず、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。

（７）本１５発明について
本１５発明は、本９発明と同様に、第２訂正により、訂正前の請求項９に係る発明を基礎として、さらに減縮したものであって、けん化度の範囲を本９発明の「８０〜９９．９モル％」より狭い「８５〜９９．９モル％」とし、２０℃における４％水溶液粘度の範囲を本９発明の「１〜３００ｍＰａ・ｓ」より狭い「１〜２５０ｍＰａ・ｓ」とし、炭素数３以上の側鎖基の割合を本９発明の「０．０５〜１０モル％」より狭い「０．５〜１０モル％」とした以外は、同じ内容のものである。
したがって、上記（５）に示した理由と同様の理由により、本１５発明は、甲５発明、並びに甲第５号証及び参考例Ｂに記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえず、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。

（８）本１７〜１８及び本２０〜２５発明について
本１７〜１８及び本２０〜２５発明は、本９又は本１５発明を直接又は間接的に引用し、さらに限定したものであるから、本９及び本１５発明の進歩性が、甲第５号証及び参考例Ｂによって否定できない以上、その進歩性を否定することはできない。
したがって、本１７〜１８及び本２０〜２５発明は、甲５発明、並びに甲第５号証及び参考例Ｂに記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえず、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。

（９）理由２（進歩性）についてのまとめ
以上のとおり、第２訂正による訂正後の本９、本１１〜１２、本１５、本１７〜１８及び本２０〜２５発明の進歩性を否定することはできない。よって、上記〔理由２〕の点に理由はない。

４．理由６（サポート要件）について
（１）請求項１０のケン化度の数値範囲について
上記〔理由７〕で３（３）の記載不備として指摘した点は、具体的には『本件特許の請求項１０に記載された「ケン化度９０モル％超」及び「ケン化度９７モル％以上」並びに「ケン化度９０モル％以下」及び「ケン化度８０モル％以上」という広範な「ケン化度」の数値範囲について、当該数値範囲が発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるとは認められず、また、その記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるとも認められない。』というものであるところ、第２訂正により、訂正前の請求項１０が削除されたので、当該３（３）の点に理由はない。

（２）請求項３の炭素数３以上の側鎖基について
上記〔理由７〕で３（４）の記載不備として指摘した点は、具体的には『本件特許の請求項３の「水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含む研磨用組成物であって、側鎖基が、Ｃ７−３０脂肪酸−ビニルエステル由来の基、Ｃ１１−３０アルキルビニルエーテル由来の基、ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基、及びアセトアセチル基から選択される少なくとも１種を含み」との記載にある「側鎖基」の全てが、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるとは認められず、また、その記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるとも認められない。』というものであるところ、第２訂正により、訂正前の請求項３が削除されたので、当該３（４）の点に理由はない。

（３）請求項１０の相反する物性の樹脂（Ｂ）の併用について
上記〔理由７〕で３（５）の記載不備として指摘した点は、具体的には『本件特許の請求項１０の記載は、相互に相反する物性（ケン化度及び粘度）の樹脂を併用した場合に、上記課題を解決できることを裏付ける「試験結果」についての記載が存在せず、そのような試験結果がなくとも上記課題を解決できると当業者が認識できる「作用機序」の合理的な説明がなく、そのような「試験結果」や「作用機序」についての記載が発明の詳細な説明になくとも、課題を解決できるといえる本願出願時の「技術常識」の存在も見当たらないので、本件特許の請求項１０及びその従属項に記載された範囲のもの全てが、サポート要件を満たし得る程度に、発明の詳細な説明に記載されているとは認められない。』というものであるところ、第２訂正により、訂正前の請求項１０が削除されたので、当該３（５）の点に理由はない。

（４）請求項３、９、１２、１５及び１９の広範な数値範囲について
ア 〔理由７〕の３（６）で指摘した記載不備
上記〔理由７〕で３（６）の記載不備として指摘した点は、具体的には『本件特許の請求項３、９、１２及び１５の側鎖基の割合の記載、同請求項３の２０℃における４％水溶液粘度の数値範囲の記載、同請求項１５のけん化度及び２０℃における４％水溶液粘度の数値範囲の記載、並びに同請求項１９の水溶性高分子と界面活性剤の割合の数値範囲の記載について、これら広範な数値範囲のもの全てにまで、特許を受けようとする発明を拡張ないし一般化できるとはいえないので、本件特許の請求項３、９、１２、１５及び１９並びにその従属項に記載された範囲のもの全てが、サポート要件を満たし得る程度に、発明の詳細な説明に記載されているとは認められない。』というものである。

イ 本件特許明細書の記載
本件特許明細書の発明の詳細な説明には、次の記載がある。

摘示あ：発明が解決しようとする課題に関して
「【０００６】本発明の目的は、新規な研磨用組成物を提供することにある。
【０００７】また、本発明の他の目的は、研磨（特に、シリコンウエハなどの半導体基板の研磨）後の表面において微小欠陥の数を低減しうる研磨用組成物を提供することにある。
【０００８】また、本発明の他の目的は、前記研磨後の表面のヘイズが小さい研磨用組成物を提供することにある。
【０００９】また、本発明の他の目的は、前記研磨後の表面のＡＦＭ粗さ（ＡＦＭによって測定される粗さ）が小さい研磨用組成物を提供することにある。
【００１０】本発明のさらに他の目的は、このような研磨用組成物を用いた研磨物の製造方法を提供することにある。」

摘示い：合成例１〜７（ジアセトンアクリルアミドを用いた水溶性高分子）
「【０１８８】（水溶性高分子）
（合成例１）
撹拌機、温度計、滴下ロート及び還流冷却器を取り付けたフラスコ中に、酢酸ビニル２０００部、メタノール６０４部、ジアセトンアクリルアミド（ＤＡＡＭ）８．２部を仕込み、系内の窒素置換を行った後、内温が６０℃になるまで昇温した。昇温後、２，２−アゾビスイソブチロニトリル１．２部をメタノール１００部に溶解した溶液を添加し重合を開始した。フラスコ内に窒素流通を続けながら、ジアセトンアクリルアミド１２７．８部をメタノール８０部に溶解した溶液を、重合開始直後から一定速度で滴下した。重合終了時に重合停止剤としてｍ−ジニトロベンゼンを添加し重合を停止した。重合終了時の収率は７３．８％であった。
得られた反応混合物にメタノール蒸気を加えながら、残存する酢酸ビニルを留去し、ジアセトンアクリルアミド−酢酸ビニル共重合体の５０％メタノール溶液を得た。この溶液５００部にメタノール７０部、イオン交換水２部及び水酸化ナトリウムの４％メタノール溶液１５部を加えてよく混合し、４５℃で鹸化反応を行った。得られたゲル状物を粉砕し、メタノールでよく洗浄した後に乾燥し、ＰＶＡ系樹脂（ＤＡ−ＰＶＡ１）を得た。得られたＤＡ−ＰＶＡ１の４％水溶液粘度は２０．５ｍＰａ・ｓ、鹸化度は９８．６モル％であった。また、ＤＡ−ＰＶＡ１中のジアセトン単位含有量は４．６モル％であった。
【０１８９】（合成例２〜７）
重合時の仕込み配合比やケン化条件を表１又は表２記載の変性度やケン化度のＰＶＡ系樹脂が得られるように変更した以外は合成例１と同様にして、表１又は表２記載のＤＡ−ＰＶＡ２〜ＤＡ−ＰＶＡ７を得た。」

摘示う：欠陥数、ヘイズ、及びＡＦＭ粗さの評価基準
「【０２０４】＜微小欠陥検査＞
（２６ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数）
洗浄後のシリコンウエハの表面を、ＫＬＡテンコール社製のウエハ欠陥検査装置、商品名「ＳＰ３」を用いて、直径３００ｍｍあたりの２６ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数を検査した。その結果を、以下の４段階で評価した。なお、ＬＬＳ欠陥数は、直径３００ｍｍのシリコンウエハ表面の外周３ｍｍを除外して測定した。
Ａ：検出数１００個以下
Ｂ：検出数１００個超３００個以下
Ｃ：検出数３００個超７００個以下
Ｄ：検出数７００個超
【０２０５】（１９ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数）
洗浄後のシリコンウエハの表面を、ＫＬＡテンコール社製のウエハ欠陥検査装置、商品名「ＳＰ５」を用いて、直径３００ｍｍあたりの１９ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数を検査した。その結果を、以下の４段階で評価した。なお、ＬＬＳ欠陥数は、直径３００ｍｍのシリコンウエハ表面の外周３ｍｍを除外して測定した。
Ａ：検出数２５０個以下
Ｂ：検出数２５０個超５５０個以下
Ｃ：検出数５５０個超８５０個以下
Ｄ：検出数８５０個超
【０２０６】＜ヘイズ測定＞
洗浄後のシリコンウエハ表面をＫＬＡテンコール社製のウエハ検査装置、商品名「ＳＰ３」を用いて、ＤＷＯモードでヘイズ（ｐｐｍ）を測定した。その測定結果を以下の４段階で評価した。
Ａ：０．１０ｐｐｍ未満
Ｂ：０．１０ｐｐｍ以上０．２０ｐｐｍ未満
Ｃ：０．２０ｐｐｍ以上０．３０ｐｐｍ未満
Ｄ：０．３０ｐｐｍ以上
【０２０７】＜ＡＦＭ粗さ測定＞
洗浄後のシリコンウエハ表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価した。座標（０ｍｍ，０ｍｍ）、（７５ｍｍ，０ｍｍ）、（１４５ｍｍ，０ｍｍ）の３点の観察を行い、視野は３０×３０μｍ２とした。粗さパラメータはＸ方向とＹ方向で傾き補正を行った後、
二乗平均平方根高さ（Ｓｑ）を算出し３点の平均を評価指針とした。その結果を以下の３段階で表１に示した。
Ａ：０．０２８ｎｍ未満
Ｂ：０．０２８ｎｍ以上０．０３０ｎｍ未満
Ｃ：０．０３０ｎｍ以上」

摘示え：実施例１〜７
「【０１９２】（実施例１）
砥粒として平均一次粒子径３５ｎｍのコロイダルシリカを１％の濃度で含む水溶液に、塩基性化合物としてのアンモニア（ＮＨ３）を２９％の濃度で含むアンモニア水を加えてｐＨ１０．０に調整したコロイダルシリカ分散液を用意した。このコロイダルシリカ分散液に、前記ＤＡ−ＰＶＡ１を液全量において１００ｐｐｍとなるよう添加し、組成物（研磨液）を得た。なお、組成物中のシリカの含有量は、１％であった。
【０１９３】（実施例２〜７）
表１に記載の水溶性高分子を使用し、また、ＥＯＰＯと記載した例については、コロイダルシリカ分散液に、ＥＯ−ＰＯ構造を有する共重合体（和光純薬工業製、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール（１６０Ｅ．Ｏ．）（３０Ｐ．Ｏ．））を液全量において１０ｐｐｍとなるように添加した以外は実施例１と同様にして、組成物を得た。…
【０２０８】実施例１〜１１、実施例２０〜２２、比較例１〜３及び参考例１〜３について、評価結果を表１に示す。
【０２０９】【表１】

【０２１０】表１が示すように、実施例１〜１１及び２０〜２２では、２６ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数が低減された。
また、実施例１〜１１及び２０〜２２では、ヘイズが小さかった。
また、実施例１〜１１及び２０〜２２では、ＡＦＭ粗さが小さかった。」

摘示お：実施例１２〜１９
「【０２１１】（実施例１２〜１９）
表２に記載の水溶性高分子を使用し、また、ＥＯＰＯと記載した例については、コロイダルシリカ分散液に、ＥＯ−ＰＯ構造を有する共重合体（和光純薬工業製、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール（１６０Ｅ．Ｏ．）（３０Ｐ．Ｏ．））を液全量において１０ｐｐｍとなるように添加した以外は実施例１と同様にして、組成物を得た。評価結果を表２に示す。…
【０２１３】【表２】

」

ウ 本９、１２及び１５発明の解決しようとする課題
第２訂正により、訂正前の請求項３及び１９が削除されているところ、本件特許の請求項９、１２及び１５並びにその従属項に係る発明の解決しようとする課題は、本件特許明細書の段落０００６〜００１０の記載を含む発明の詳細な説明の全ての記載からみて『研磨（特に、シリコンウエハなどの半導体基板の研磨）後の表面において微小欠陥の数を低減し、前記研磨後の表面のヘイズが小さく、前記研磨後の表面のＡＦＭ粗さ（ＡＭＦによって測定される粗さ）が小さい新規な研磨用組成物、及びこのような新規な研磨用組成物を用いた研磨物の製造方法の提供』にあるものと認められる。

エ 判断
（ア）サポート要件の判断手法
第２訂正による訂正後の特許請求の範囲の記載は、上記第３に示したとおりであり、本件特許明細書の発明の詳細な説明には、上記イに示したとおりの記載があるところ、以下において、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを対比し、特許請求の範囲に記載された発明が、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否か、また、その記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否かを検討して判断する。

（イ）請求項３、９、１２及び１５の側鎖基の割合について
ａ 第２訂正により、請求項３は削除されたところ、訂正後の請求項９の記載は『水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含み、炭素数３以上の側鎖基が、少なくともジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基を含み、ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．０５〜１０モル％であり、けん化度が８０〜９９．９モル％であり、２０℃における４％水溶液粘度が１〜３００ｍＰａ・ｓであり、さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む、研磨用組成物。』というものである。また、同請求項１２及び１５における「側鎖基の割合」は、それぞれ「０．２〜１０モル％」及び「０．５〜１０モル％」である。

ｂ これに対して、本件特許明細書の発明の詳細な説明には、その段落０１９２（摘示い）の記載、及び段落０２０９（摘示え）の表１の記載にあるように、実施例１として、炭素数３以上の側鎖基としてジアセトンアクリルアミド（ＤＡＡＭ）のみを、モノマー換算で４．６モル％含み、けん化度が９８．６モルであり、２０℃における４％水溶液粘度が２０．５ｍＰａ・ｓであるビニルアルコール系樹脂を水溶性高分子として含み、砥粒として平均一次粒子径３５ｎｍのコロイダルシリカを１％の濃度で含む研磨用組成物の具体例が記載され、その段落０２０４〜０２０７（摘示う）に記載の基準での評価結果が、ＬＬＳ欠陥数“Ｃ”、ヘイズ“Ｃ”、ＡＦＭ粗さ“Ａ”となることが記載されている。

ｃ してみると、本件特許の発明の詳細な説明には、訂正後の請求項９、１２及び１５に係る発明の発明特定事項の全てを満たす実施例１のものが記載され、当該実施例１のものが、研磨後の表面において微小欠陥の数を低減し（段落０２０４に記載の２６ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数の評価基準において「Ｄ：検出数７００個超」よりも低減された「Ｃ：検出数３００個超７００個以下」の評価）、研磨後の表面のヘイズが小さく（段落０２０６に記載のヘイズの評価基準において「Ｄ：０．３０ｐｐｍ以上」よりも小さい「Ｃ：０．２０ｐｐｍ以上０．３０ｐｐｍ未満」の評価）、研磨後の表面のＡＭＦによって測定される粗さが小さい（段落０２０７の評価基準において「ｃ：０．０３０ｎｍ以上」よりも小さい「Ａ：０．０２８ｎｍ未満」の評価）、新規な研磨用組成物の提供という、本９、本１２及び本１５発明の課題を解決できることが裏付けられているといえる。

ｄ そして、本９発明の「炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．０５〜１０モル％」という数値範囲、本１２発明の「０．２〜１０モル％」という数値範囲、及び本１５発明の「０．５〜１０モル％」という数値範囲の全範囲において、本９、本１２及び本１５発明の課題を解決できると認識できるか否かについて検討するに、本件特許明細書の段落０２１３（摘示お）の表２には、ＤＡＡＭの変性度が、０．８モル％の実施例１２と、６．７モル％の実施例１４の試験結果が示されているので、これら発明の数値範囲の全範囲において、上記課題を解決できると当業者は類推できるといえるものであり、このような類推をすることに合理性がないとすべき技術常識の存在や技術的な根拠は見当たらない。

ｅ したがって、当該３（６）の側鎖基の割合の記載に関する点に理由はない。

（ウ）請求項３及び１５の２０℃における４％水溶液粘度について
ａ 第２訂正により、請求項３は削除されたところ、訂正後の請求項９には『２０℃における４％水溶液粘度が１〜３００ｍＰａ・ｓであり』という数値範囲の発明特定事項が追加され、訂正後の請求項１５における「２０℃における４％水溶液粘度」の数値範囲は「１〜２５０ｍＰａ・ｓ」に減縮されている。

ｂ そして、上記（イ）ｃに示したように、本件特許の発明の詳細な説明には、訂正後の請求項９及び１５に係る発明の発明特定事項の全てを満たす実施例１のものが記載され、当該実施例１のものが、本９及び本１５発明の課題を解決できることが裏付けられているといえる。

ｃ また、本９発明の「２０℃における４％水溶液粘度が１〜３００ｍＰａ・ｓ」という数値範囲、及び本１５発明の「１〜２５０ｍＰａ・ｓ」という数値範囲の全範囲において、本９及び本１５発明の課題を解決できると認識できるか否かについて検討するに、本件特許明細書の段落０２０９（摘示エ）の表１には、４％水溶液粘度が、６．８ｍＰａ・ｓの実施例４と、１４９．１ｍＰａ・ｓの実施例６の試験結果が示されているので、これら発明の数値範囲の全範囲において、上記課題を解決できると当業者は類推できるといえるものであり、このような類推をすることに合理性がないとすべき技術常識の存在や技術的な根拠は見当たらない。

ｄ したがって、当該３（６）の２０℃における４％水溶液粘度の記載に関する点に理由はない。

（エ）請求項１９の水溶性高分子と界面活性剤の割合の数値範囲について
ａ 当該（６）の「請求項１９」との記載は「請求項２２」の誤記であることが明らかなところ、第２訂正による訂正後の請求項２２の記載は『さらに、界面活性剤を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子と界面活性剤の割合が、質量比で、１：０．０１〜１：２００である、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０、２１のいずれかに記載の研磨用組成物』というものである。

ｂ これに対して、本件特許明細書の発明の詳細な説明には、その段落０１９３（摘示い）の記載、及び段落０２０９（摘示え）の表１の記載にあるように、実施例４、５及び７として、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレングリコール（ＥＯＰＯ）を、液全量において１０ｐｐｍ（水溶性高分子と界面活性剤の質量比の割合で１：０．１）となるように添加した研磨用組成物の具体例が記載され、その段落０２０４〜０２０７（摘示う）に記載の基準での評価結果が、ＬＬＳ欠陥数“Ａ”、ヘイズ“Ａ”、ＡＦＭ粗さ“Ａ”となることが記載されている。

ｃ そして、界面活性剤を全く含まない実施例１のものが、上記（イ）ｂに示したように、ＬＬＳ欠陥数、ヘイズ、ＡＦＭ粗さの点で優れた評価結果にあることから、本２２発明の解決しようとする課題は、界面活性剤の使用量によらず、専ら「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」を水溶性高分子に含ませることで解決できるものと認識できるので、本２２発明の「水溶性高分子と界面活性剤の割合が、質量比で、１：０．０１〜１：２００」という数値範囲の全範囲において、上記課題を解決できると当業者は類推できるといえるものであり、このような類推をすることに合理性がないとすべき技術常識の存在や技術的な根拠は見当たらない。

ｄ したがって、当該３（６）の水溶性高分子と界面活性剤の割合の記載に関する点に理由はない。

オ ３（６）で指摘したサポート要件の記載不備のまとめ
以上総括するに、第２訂正により、訂正後の請求項３は削除されたところ、訂正後の請求項９、１２、１５及び２２に記載の記載は、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるといえるから、当該３（６）の点に理由はない。

５．令和４年７月１４日付の取消理由通知（決定の予告）において採用しなかった特許異議申立理由について
（１）申立理由１（新規性）について
特許異議申立人が主張する申立理由１（新規性）は、本件特許発明１〜６、８、１０〜２７は、甲１〜５、１１、１４、１６に記載された発明であるから、特許法第29条第1項第3号に該当し、特許を受けることができないというものである（特許異議申立書の第１１１頁）。
そして、第２訂正による訂正後の請求項９及び１５及びその従属項に係る発明は、いずれも訂正前の請求項９に係る発明を基礎として、さらに減縮したものである。
してみると、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項に係る発明について、申立理由１（新規性）の申立は存在しない。

（２）申立理由２（進歩性）について
ア 申立理由２の概要（本９発明関連）
特許異議申立人が主張する申立理由２（進歩性）は、本件特許発明１〜２７は、甲１〜５、１１、１４、１６に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第29条第2項の規定により、特許を受けることができないというものであって（特許異議申立書の第１１２頁）、証拠として、次の甲第１〜１６号証を提示している（なお、甲第１０号証及び甲第１３号証については、その公知日が不明である。）。

甲第１号証：特開２０１５−８４３７９号公報
甲第２号証：特開２０１１−１７１６８９号公報
甲第３号証：国際公開第２０１５／０５３２０７号
甲第４号証：特開２０１５−７６４９４号公報
甲第５号証：国際公開第２０１７／１５０１１８号
甲第６号証：特開２０１５−１５９２５９号公報
甲第７号証：特開２０１９−１０２６５８号公報
甲第８号証：特開２０１９−１６９６９４号公報
甲第９号証：「クラレポバール」、株式会社クラレ、２０１９年９月改訂、４頁、１２〜１５頁、１８〜１９頁、２３頁
甲第１０号証：“顆粒品（Ｊシリーズ）”、日本酢ビ・ポバール株式会社、出力日：２０２１年１０月２８日
＜URL:https://j-vp.co.jp/product/pva/pdf/pva01_1.pdf＞
甲第１１号証：特開２０１４−２１６４６４号公報
甲第１２号証：特開２０１９−１１２７２７号公報
甲第１３号証：“ゴーセノール 一般銘柄”、三菱ケミカル株式会社、出力日：２０２１年１１月２５日
＜URL:https://www.gohsenol.com/doc/gnrl/gnrl_01.shtml＞
甲第１４号証：特開２０１２−２１６７２３号公報
甲第１５号証：「Ｎｉｃｈｉｇｏ Ｇ−ＰｏｌｙｍｅｒＴＭ ｓｅｒｉｅｓ」、日本合成、２０１７年８月３１日改訂
甲第１６号証：特開２０１６−２１３２１６号公報

そして、第２訂正による訂正後の請求項９及び１５及びその従属項に係る発明は、いずれも訂正前の請求項９に係る発明を基礎として、さらに減縮したものであるところ、訂正前の請求項９に係る発明に対して、特許異議申立人が主張する具体的な理由は『（Ａ−６）本件特許発明７及び９ 甲１〜１６には、ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基を側鎖基として含むビニルアルコール系樹脂の記載はない。しかし、本件明細書の実施例において、ジアセトンアクリルアミドとビニルアルコールとの特定モル比の共重合体又は、ジアセトンアクリルアミドとキサデシルビニルエーテル〔当審注：ヘキサデシルビニルエーテルの誤記と思われる。〕とビニルアルコールとの特定モル比の共重合体を用いたものは、そうでないものと比較して、２６ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数が優れた結果となっておらず…周知のビニルアルコール系樹脂に対して何ら優れた効果を奏するものではなく、先行技術に対する貢献は認められない。本件特許発明７及び９について、進歩性を認めるにたりる効果の存在は認められない。従って、本件特許発明７及び９は、進歩性を欠如する。』というものである（特許異議申立書の第９６頁）。

しかしながら、甲第１〜１６号証の何れを主引用例として、訂正前の請求項９を基礎とする発明（本９及び本１５発明）の進歩性を否定すべきとしているのか、特許異議申立書において明らかにされておらず、上記第１に示したように、令和４年１１月２４日付けの訂正請求があった旨の通知に対して、特許異議申立人は、指定した期間内に応答をしていないところ、訂正前の請求項３に係る発明に対して、甲第３号証及び甲第５号証を主引用例とした理由が申し立てられていることから、以下、甲第３号証及び甲第５号証を主引用例とした場合の進歩性の有無について、それぞれ検討する。

イ 甲第３号証及び甲第５号証の記載事項
（ア）甲第５号証には、上記３．（２）アに示したとおりの記載がある。

（イ）甲第３号証には、次の記載がある。
摘記３ａ：請求項１
「［請求項１］分子中に、式（１）で表される構造単位７０〜９９ｍｏｌ％及び式（２）で表される構造単位１〜３０ｍｏｌ％を有する水溶性高分子を含む半導体用濡れ剤。
［−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）−］ （１）
［−ＣＨ２ＣＨ（Ｘ）−］ （２）
〔式（２）中、Ｘは炭素数１〜１０のアルキル基を有するアルキルエーテル基、炭素数６〜１０のアリール基、式（３）若しくは式（４）で表される有機基、炭素数１〜１０のアルキル基を有するウレタンアルキル基、炭素数３以上のアルキレン基を有するアルキレンオキシド基、水素又は炭素数１〜３のアルキル基を表す。〕
−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ１ （３）
〔式（３）中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基を有するアルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基、ｍは０〜３の整数を表す。〕
−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ２ （４）
〔式（４）中、Ｒ２は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基を有するアルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基、ｎは０〜３の整数を表す。〕」

摘記３ｂ：段落００４９、００５３〜００５４、００６２、００６４〜００６５及び００６７
「［００４９］製造例１
≪酢酸ビニルとアルキルビニルエーテル共重合体の合成≫
攪拌翼、還流冷却管、温度計、各種導入管を備えた３Ｌの４つ口フラスコを用意し、初期モノマーとして酢酸ビニル（日本酢ビ・ポバール社製、以下「ＶＡｃ」という）３７５部及びｎ−プロピルビニルエーテル（日本カーバイド社製、以下「ＮＰＶＥ」という）２５０部、重合溶剤としてメタノールを２５０部を仕込み、攪拌混合した。さらに窒素導入管から１０ｍｌ／ｍｉｎの流量にて窒素を吹き込みつつ、４０ｍｉｎかけて混合液を６０℃に昇温した。
昇温を確認後、２，２−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル（和光純薬工業製、商品名「Ｖ−６５」）２．０部をメタノール５０部に溶解した初期開始剤の溶液を一括で加え、重合を開始した。
重合の開始と共に、滴下モノマーとしてＶＡｃ４５０部をモノマー導入管から６時間かけて滴下しながら重合した。一方で、２−メルカプトエタノール（以下、「ＭＴＧ」という）４．０部をメタノール１５０部に溶解した連鎖移動剤溶液、及びＶ−６５の８．０部をメタノール１２０部に溶解した滴下開始剤の溶液も、重合開始共にそれぞれの導入管から６時間かけて滴下した。
６時間重合させた後、フラスコを室温まで冷却し、４−メトキシフェノールを０．３部加えて重合を停止し、共重合体１Ａを得た。この共重合体１Ａの数平均分子量はＭｎ＝１０，０００であり、重合収率は８５％であった。共重合体１Ａに含まれる残モノマーは、真空ポンプをフラスコに繋いで、減圧下、５０℃で加熱することでメタノールと共に除去した。
≪水溶性高分子の合成（共重合体の鹸化）≫
フラスコから共重合体１Ａを抜出さずに、引き続き鹸化反応を行った。窒素導入管から１０ｍｌ／ｍｉｎの流量にて窒素を吹き込みつつ、３０ｍｉｎかけて混合液を６０℃に昇温した。昇温を確認後、水酸化ナトリウム３．９部をメタノール７５部に溶かしたアルカリ溶液を一括で加えて鹸化反応を開始した。４時間後、温度を下げて反応を停止した。溶剤をロータリーエバポレーターにてカット後、６０℃で一晩真空乾燥して、黄褐色固体の水溶性高分子１Ｂを得た。
水溶性高分子１Ｂについて１Ｈ−ＮＭＲで組成を測定したところ、ポリビニルアルコール／ＮＰＶＥ＝７７／２３ｍｏｌ％の共重合体であり、鹸化率は９８．０ｍｏｌ％であった。…
［００５３］製造例５…ｎ−ブチルビニルエーテル…
［００５４］製造例６…２−エチルヘキシルビニルエーテル…
［００６２］実施例１
水溶性高分子１Ｂの濃度が１５質量％となるように水を加え、半導体用濡れ剤を調整した。得られた半導体用濡れ剤について、耐エッチング性、濡れ性、ウェーハ外観及び耐アルカリ性の評価を行った。得られた結果について表１に示した。
また、アンモニア水を加えてｐＨを１０．０に調整したコロイダルシリカ分散液（１次粒子系３０〜５０ｎｍ、シリカ固形分１０％）１０．０ｇ、上記半導体用濡れ剤を０．１ｇ添加して、研磨剤用組成物を得た。得られた研磨剤用組成物についてシリカ分散性を評価し、表１に結果を示した。…
［００６４］［表１］

［００６５］表１に示された水溶性高分子の詳細は以下の通り。
ＰＶＡ１０５：完全鹸化ポリビニルアルコール（クラレ社製、商品名「クラレポバールＰＶＡ１０５」、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、重合度５００）
ＰＶＡ５０５：低鹸化ポリビニルアルコール（クラレ社製、商品名「クラレポバールＰＶＡ５０５」、鹸化度７３．５ｍｏｌ％、重合度５００）
ＨＥＣ：ヒドロキシエチルセルロース（和光純薬工業社製、重量平均分子量９０，０００）
ＰＶＰ Ｋ３０：ポリビニルピロリドン（東京化成工業社製）…
［００６７］本発明の半導体用濡れ剤は、研磨後のウェーハ表面への吸着性に優れるため、該半導体用濡れ剤を含む研磨用組成物を用いることにより、研磨後のウェーハ表面の平滑性を高め、かつ、ＣＯＰを抑制することが可能となる。さらに、シリカの分散性も良好であることから、シリコンウェーハの仕上げ研磨用組成物として特に有用である。」

ウ 甲第３号証及び甲第５号証に記載された発明
（ア）甲３発明
摘記３ｂの「製造例１…初期モノマーとして酢酸ビニル（日本酢ビ・ポバール社製、以下「ＶＡｃ」という）３７５部及びｎ−プロピルビニルエーテル（日本カーバイド社製、以下「ＮＰＶＥ」という）２５０部、重合溶剤としてメタノールを２５０部を仕込み、…重合の開始と共に、滴下モノマーとしてＶＡｃ４５０部をモノマー導入管から６時間かけて滴下しながら重合した。…重合を停止し、共重合体１Ａを得た。…フラスコから共重合体１Ａを抜出さずに、引き続き鹸化反応を行った。…黄褐色固体の水溶性高分子１Ｂを得た。…ポリビニルアルコール／ＮＰＶＥ＝７７／２３ｍｏｌ％の共重合体であり、鹸化率は９８．０ｍｏｌ％であった。…実施例１ 水溶性高分子１Ｂの濃度が１５質量％となるように水を加え、半導体用濡れ剤を調整した。…また、アンモニア水を加えてｐＨを１０．０に調整したコロイダルシリカ分散液（１次粒子系３０〜５０ｎｍ、シリカ固形分１０％）１０．０ｇ、上記半導体用濡れ剤を０．１ｇ添加して、研磨剤用組成物を得た。」との記載からみて、甲第３号証には、実施例１の具体例として、
『酢酸ビニル（ＶＡｃ）及びｎ−プロピルビニルエーテル（ＮＰＶＥ）を重合し、鹸化反応を行って得られた、ポリビニルアルコール／ＮＰＶＥ＝７７／２３ｍｏｌ％の共重合体からなる水溶性高分子１Ｂ（鹸化率は９８．０ｍｏｌ％）の濃度が１５質量％の半導体用濡れ剤０．１ｇを、コロイダルシリカ分散液（１次粒子系３０〜５０ｎｍ、シリカ固形分１０％）１０．０ｇに添加してなる、研磨剤用組成物。』についての発明（以下「甲３発明」という。）が記載されているといえる。

（イ）甲５発明
甲第５号証には、３．（３）に示したとおりの「甲５発明」が記載されているといえる。

エ 甲第３号証を主引用例とした場合の検討
（ア）対比
本９発明と甲３発明とを対比する。
甲３発明の「酢酸ビニル（ＶＡｃ）及びｎ−プロピルビニルエーテル（ＮＰＶＥ）を重合し、鹸化反応を行って得られた、ポリビニルアルコール／ＮＰＶＥ＝７７／２３ｍｏｌ％の共重合体からなる水溶性高分子１Ｂ（鹸化率は９８．０ｍｏｌ％）」は、
その「水溶性高分子１Ｂ」が、本９発明の「水溶性高分子」に相当し、
その「ｎ−プロピルビニルエーテル（ＮＰＶＥ）」に由来する側鎖基が、本９発明の「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」と異なる「炭素数３以上の側鎖基」に相当し、
その「ポリビニルアルコール／ＮＰＶＥ」の「共重合体」が、本９発明の「ビニルアルコール系樹脂（Ａ）」に相当し、
その「ポリビニルアルコール／ＮＰＶＥ＝７７／２３ｍｏｌ％」のモノマー割合は、
けん化により生じる「ビニルアルコール」の単位が７７モル％であるから、本９発明の「けん化度が８０〜９９．９モル％であり」に相当せず、
炭素数３以上の側鎖基である「ｎ−プロピルビニルエーテル（ＮＰＶＥ）」の単位が２３モル％であるから、本９発明の「炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．０５〜１０モル％であり」に相当しない。
甲３発明の「コロイダルシリカ分散液（１次粒子系３０〜５０ｎｍ、シリカ固形分１０％）１０．０ｇに添加してなる」は、本９発明の「さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む」に相当する。
甲３発明の「研磨剤用組成物」は、本９発明の「研磨用組成物」に相当する。

してみると、本９発明と甲３発明は『水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含み、さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む、研磨用組成物。』という点において一致し、次の（δ）〜（η）の４つの点において相違する。

（δ）炭素数３以上の側鎖基として、本９発明は「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」を少なくとも含むのに対して、甲３発明は「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」を含むものではない点

（ε）ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、重合成分（モノマー）換算での炭素数３以上の側鎖基の割合が、本９発明は「０．０５〜１０モル％」であるのに対して、甲３発明は「２３モル％」である点

（ζ）ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、けん化度が、本９発明は「８０〜９９．９モル％」であるのに対して、甲３発明は「７７モル％」である点

（η）ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、２０℃における４％水溶液粘度が、本９発明は「１〜３００ｍＰａ・ｓ」であるのに対して、甲３発明は、当該粘度の値が不明な点

（イ）判断
上記（δ）の相違点について検討する。
甲第１〜１６号証には、本９発明の「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」について示唆を含めて記載がない。
そして、本９発明は、炭素数３以上の側鎖基として「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」を少なくとも含むことにより、本件特許明細書の段落０２０９の表１に記載されるとおりの効果を奏するに至ったものである。
この点に関して、特許異議申立人は、上記アに示したように『本件明細書の実施例において、ジアセトンアクリルアミドとビニルアルコールとの特定モル比の共重合体又は、ジアセトンアクリルアミドとキサデシルビニルエーテルとビニルアルコールとの特定モル比の共重合体を用いたものは、そうでないものと比較して、２６ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数が優れた結果となっておらず…周知のビニルアルコール系樹脂に対して何ら優れた効果を奏するものではなく、先行技術に対する貢献は認められない。』と主張する。
しかしながら、本件特許明細書の段落０２０９（摘示え）の表１において、ジアセトンアクリルアミド（ＤＡＡＭ）を用いていない実施例８〜１１及び２０〜２２と全く同一の組成を有する研磨剤組成物が、本件特許の優先日前において「先行技術」として知られていたといえる根拠がないので、２６ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数の評価が、本９発明の具体例に相当する実施例１のもので“Ｃ”であり、ＤＡＡＭを用いていない実施例２２で“Ａ”であることを根拠に、実施例１のものが「先行技術に対する貢献」を有していないと結論づけることに合理性があるとはいえず、上記特許異議申立人の主張は採用できない。
そして、当該「表１」の実施例１〜７のものは、いずれも、２６ｎｍ以上のＬＬＳ欠陥数の評価が、従来技術に相当する比較例１〜３及び参考例１〜３の“Ｄ”の評価よりも優れた“Ａ”〜“Ｃ”の評価にあるという点で、格別の効果を奏するものといえる。
以上総括するに、本９発明と甲３発明は、上記（δ）の実質的な相違点を有するものであり、この相違点は、甲第１〜１６号証に記載の技術事項をどのように組み合わせても導き出し得るものではないから、上記（ε）〜（η）の相違点について検討するまでもなく、上記（δ）の相違点に係る構成を相当することが当業者にとって容易であるとはいえない。また、本９発明は、上記（δ）の相違点に係る構成を具備することにより、格別の効果を奏するものである。
したがって、本９発明は、甲３発明及び甲第１〜１６号証に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではないので、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。

（ウ）本１１〜１２、本１５、本１７〜１８及び本２０〜２５発明について
上記３．（６）〜（８）に示したように、本１１〜１２、本１５、本１７〜１８及び本２０〜２５発明は、実質的に本９発明を直接又は間接的に引用し、さらに限定したものであるから、本９発明の進歩性が、甲第１〜１６号証によって否定できない以上、その進歩性を否定することはできない。
したがって、本１１〜１２、本１５、本１７〜１８及び本２０〜２５発明は、甲３発明及び甲第１〜１６号証に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえず、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。

オ 甲第５号証を主引用例とした場合の検討
本９発明と甲５発明とを対比すると、上記３．（４）に示したとおりの（α）〜（γ）の３つの点において相違する。
そして、甲第１〜１６号証には、本９発明の「ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基」について示唆を含めて記載がない。
してみると、上記エ（イ）において示した理由と同様の理由により、本９発明は、甲５発明及び甲第１〜１６号証に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものではないので、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。
また、上記３．（６）〜（８）において示したように、本１１〜１２、本１５、本１７〜１８及び本２０〜２５発明は、実質的に本９発明を直接又は間接的に引用し、さらに限定したものであるから、本９発明の進歩性が、甲第１〜１６号証によって否定できない以上、その進歩性を否定することはできず、上記エ（ウ）において示した理由と同様の理由により、本１１〜１２、本１５、本１７〜１８及び本２０〜２５発明は、甲５発明及び甲第１〜１６号証に記載された技術事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとはいえず、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができないものに該当しない。

（３）申立理由３（サポート要件）について
ア 申立理由３の概要
特許異議申立人が主張する申立理由３（サポート要件）は、本件特許発明１〜３、９〜１０は、当該発明の課題を解決できると認識できる範囲を超えるものであり、本件特許発明１〜３、９〜１０で規定する範囲にまで拡張ないし一般化できないため、サポート要件を充足せず、本件特許発明４〜８、１１〜２７についても、同様の記載不備（サポート要件違反）が存在し、特許法第36条第6項第1号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるというものであって（特許異議申立書の第１１０及び１１２頁）、具体的には、以下の（Ｂ−２）〜（Ｂ−７）の点を主張している。

イ （Ｂ−２）コロイダルシリカの粒子径や濃度など
特許異議申立人が主張する（Ｂ−２）の記載不備の内容は『本件明細書の実施例において、前記課題が解決できるものとして記載されているのは、平均一次粒子径３５ｎｍのコロイダルシリカを用いたものに限られている。…砥粒としてダイヤモンドを含む態様、粒子径が大きい砥粒を含む態様、さらには砥粒濃度が１質量％を超える態様を包含する本件特許発明１〜３、９〜１０の全範囲において、前記課題を解決できるとは到底認められない。』というものである。
しかしながら、第２訂正により、訂正前の請求項１〜３及び１０が削除されたところ、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項に係る発明の解決しようとする課題は、上記４．（４）ウに示したとおりの 『研磨（特に、シリコンウエハなどの半導体基板の研磨）後の表面において微小欠陥の数を低減し、前記研磨後の表面のヘイズが小さく、前記研磨後の表面のＡＦＭ粗さ（ＡＭＦによって測定される粗さ）が小さい新規な研磨用組成物、及びこのような新規な研磨用組成物を用いた研磨物の製造方法の提供』にあるものであって、その課題を解決するための手段として、ビニルアルコール系樹脂（Ａ）を構成する重合成分（モノマー）の種類や割合、けん化度、２０℃における４％水溶液粘度などを工夫することで、当該課題を解決するに至ったものと認識されるものである。
すなわち、本９及び本１５発明は、砥粒としての「シリカ」の「平均一次粒子径」に着目して、その粒子径の範囲を好適化することで、上記課題を解決するという技術思想に立脚したものではないから、当該（Ｂ−２）で主張される点は、本件特許の特許請求の範囲の記載が、課題を解決できると認識できる範囲にあるか否かと関係がない。
そして、上記４．（４）エ（イ）ｂ〜ｃに示したように、本件特許の発明の詳細な説明には、訂正後の請求項９及び１５に係る発明の発明特定事項の全てを満たす実施例１のものが記載され、当該実施例１の試験結果により、本９及び本１５発明の課題を解決できることが裏付けられているので、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項の記載が、サポート要件に違反するとはいえない。
したがって、当該（Ｂ−２）の点に、理由はない。

ウ （Ｂ−３）ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基の割合
特許異議申立人が主張する（Ｂ−３）の記載不備の内容は『本件明細書実施例において、前記課題が解決できるものとして記載されているも…は、ジアセトン（メタ）アクリルアミドが３．４〜４．６ｍｏｌ％共重合されたビニルアルコール系樹脂を含むものに限られ…本件特許発明１〜２、９においては、ジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基の割合を何ら特定していない。』というものである。
しかしながら、第２訂正により、訂正前の請求項１〜２が削除されたところ、訂正前の請求項９について、上記４．（２）及び（４）エ（イ）ｄに示した理由と同様の理由により、本９発明の「炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．０５〜１０モル％」という数値範囲の全範囲において、上記課題を解決できると当業者は認識できるといえるから、当該（Ｂ−３）で主張される点によっては、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項の記載が、サポート要件に違反するとはいえない。
したがって、当該（Ｂ−３）の点に、理由はない。

エ （Ｂ−４）本件特許発明２、１０で特定される「ケン化度」
特許異議申立人が主張する（Ｂ−４）の記載不備の内容は『本件明細書の実施例において、前記課題が解決できるものとして記載されているもののうち、本件特許発明２、１０で特定される「ケン化度…」を含むものは、けん化度８７．８モル％以上のものに限られている。』というものである。
しかしながら、第２訂正により、訂正前の請求項２及び１０が削除されたので、当該（Ｂ−４）で主張される点によっては、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項の記載が、サポート要件に違反するとはいえない。
したがって、当該（Ｂ−４）の点に、理由はない。

オ （Ｂ−５）ビニルアルコール系樹脂の濃度など
特許異議申立人が主張する（Ｂ−５）の記載不備の内容は『本件明細書の実施例において、前記課題が解決できるものとして記載されているのは、ビニルアルコール系樹脂の含有量が１００ｐｐｍであり、塩基性化合物としてアンモニアを用い、ｐＨ１０．０に調整したコロイダルシリカ分散液を用いたものに限られ…研磨用組成物において、ビニルアルコール系樹脂の濃度が１ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍである態様や、塩基性化合物を含まない態様、研磨用組成物が酸性である態様を包含する本件特許発明１〜３、９〜１０の全範囲において、前記課題を解決できるとは到底認められない。』というものである。
しかしながら、第２訂正により、訂正前の請求項１〜３及び１０が削除されたところ、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項に係る発明の解決しようとする課題は、上記４．（４）ウに示したとおりのものであって、上記４．（４）エ（イ）ｂ〜ｃに示したように、本件特許の発明の詳細な説明には、訂正後の請求項９及び１５に係る発明の発明特定事項の全てを満たす実施例１のものが記載され、当該実施例１の試験結果により、本９及び本１５発明の課題を解決できることが裏付けられているから、当該（Ｂ−５）で主張される点によっては、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項の記載が、サポート要件に違反するとはいえない。
したがって、当該（Ｂ−５）の点に、理由はない。

カ （Ｂ−６）単結晶シリコン基板以外の基板
特許異議申立人が主張する（Ｂ−６）の記載不備の内容は『本件明細書の実施例において、前記課題が解決できると認識できるもののは、単結晶シリコン基板の研磨に用いられた態様のみであり、単結晶シリコン基板以外の基板に対して、前記課題を解決できるとは認められない。』というものである。
しかしながら、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項に係る発明の解決しようとする課題は、上記４．（４）ウに示したとおりのものであって、その課題を解決するための手段に「基板」の種類は含まれていないから、当該（Ｂ−６）で主張される点は、本件特許の特許請求の範囲の記載が、課題を解決できると認識できる範囲にあるか否かと関係がない。
したがって、当該（Ｂ−６）の点に、理由はない。

キ （Ｂ−７）仕上げ研磨後のＬＬＳ欠陥数
特許異議申立人が主張する（Ｂ−７）の記載不備の内容は『本件特許発明１〜２は、…研磨前の単結晶シリコン基板の表面状態、及び、スラリー流量等の研磨に必須の条件が特定されていない。…仕上げ研磨後のＬＬＳ欠陥数は、その研磨前の単結晶シリコン基板の表面状態や、スラリー流量、研磨布等の研磨条件の影響を受けることは明らかであるから、そのような特定のない条件下すべてにおいて、本件特許発明１〜２が、前記課題を解決できるものと認識することはできない。』というものである。
しかしながら、第２訂正により、訂正前の請求項１〜２が削除されたので、当該（Ｂ−７）で主張される点によっては、訂正後の請求項１〜２及びその従属項の記載が、サポート要件に違反するとはいえない。
したがって、当該（Ｂ−７）の点に、理由はない。

（４）申立理由４（明確性要件）について
特許異議申立人が主張する申立理由４（明確性要件）は、本件特許発明１〜２は、その研磨前の単結晶シリコン基板の表面状態や、スラリー流量、研磨布等の研磨条件によって特許請求の範囲の属否が左右され、発明の範囲が第三者に不測の不利益を及ぼすほどに不明確と言わざるを得ないから、本件特許発明１〜２並びにその構成要件を含む本件特許発明４〜８及び１１〜２７は、特許法第36条第6項第2号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるというものである（特許異議申立書の第１１１〜１１２頁）。
そして、第２訂正による訂正後の請求項９及び１５及びその従属項に係る発明は、いずれも訂正前の請求項９に係る発明を基礎としたものである。
してみると、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項に係る発明について、申立理由４（明確性要件）の申立は存在しない。

（５）申立理由５（実施可能要件）について
特許異議申立人が主張する申立理由５（実施可能要件）は、本件特許発明１〜２は、その研磨前の単結晶シリコン基板の表面状態や、スラリー流量、研磨布等の研磨条件の影響を受けることが明らかであり、当業者は、本件特許発明１〜２を実施するにあたって過度の試行錯誤を要するから、本件特許発明１〜２並びにその構成要件を含む本件特許発明４〜８及び１１〜２７は、特許法第36条第4項第1号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるというものである（特許異議申立書の第１１１〜１１２頁）。
そして、第２訂正による訂正後の請求項９及び１５及びその従属項に係る発明は、いずれも訂正前の請求項９に係る発明を基礎としたものである。
してみると、訂正後の請求項９及び１５並びにその従属項に係る発明について、申立理由５（実施可能要件）の申立は存在しない。

第６ むすび
以上のとおり、取消理由通知に記載した取消理由、並びに特許異議申立人が申し立てた理由及び証拠によっては、本９、本１１〜１２、本１５、本１７〜１８及び本２０〜２５発明に係る特許を取り消すことができない。
また、他に本９、本１１〜１２、本１５、本１７〜１８及び本２０〜２５発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
さらに、訂正前の請求項１〜８、１０、１３〜１４、１６、１９及び２６〜２７は削除されているので、特許法第120条の8第1項で準用する同法第135条の規定により、請求項１〜８、１０、１３〜１４、１６、１９及び２６〜２７に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。
よって、結論のとおり決定する。
 
発明の名称 （５７）【特許請求の範囲】
【請求項１】
（削除）
【請求項２】
（削除）
【請求項３】
（削除）
【請求項４】
（削除）
【請求項５】
（削除）
【請求項６】
（削除）
【請求項７】
（削除）
【請求項８】
（削除）
【請求項９】
水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含み、炭素数３以上の側鎖基が、少なくともジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基を含み、ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．０５〜１０モル％であり、けん化度が８０〜９９．９モル％であり、２０℃における４％水溶液粘度が１〜３００ｍＰａ・ｓであり、さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む、研磨用組成物。
【請求項１０】
（削除）
【請求項１１】
単結晶シリコン基板の研磨用である請求項９記載の研磨用組成物。
【請求項１２】
炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．２〜１０モル％である、請求項９記載の研磨用組成物。
【請求項１３】
（削除）
【請求項１４】
（削除）
【請求項１５】
水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、炭素数３以上の側鎖基を有するビニルアルコール系樹脂（Ａ）を少なくとも含み、炭素数３以上の側鎖基が、少なくともジアセトン（メタ）アクリルアミド由来の基を含み、ビニルアルコール系樹脂（Ａ）において、けん化度が８５〜９９．９モル％であり、２０℃における４％水溶液粘度が１〜２５０ｍＰａ・ｓであり、炭素数３以上の側鎖基の割合が、重合成分（モノマー）換算で、０．５〜１０モル％であり、さらに砥粒を含み、砥粒がシリカを含む、研磨用組成物。
【請求項１６】
（削除）
【請求項１７】
さらに、ｐＨ調整剤を含む、請求項９、１１、１２、１５のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項１８】
ｐＨ調整剤が塩基性化合物を含む、請求項１７記載の研磨用組成物。
【請求項１９】
（削除）
【請求項２０】
さらに、界面活性剤を含む、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項２１】
さらに、界面活性剤を含む研磨組成物であって、界面活性剤が、オキシエチレン−オキプロピレン構造を有する共重合体及びポリオキシエチレンアルキルエーテルから選択された少なくとも１種を含む、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項２２】
さらに、界面活性剤を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子と界面活性剤の割合が、質量比で、１：０．０１〜１：２００である、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０、２１のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項２３】
さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、水溶性高分子の濃度が１ｐｐｍ以上である、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０〜２２のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項２４】
さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、固形分濃度が０．０１質量％以上である、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０〜２３のいずれかに記載の研磨用組成物。
【請求項２５】
研磨対象物の表面を、請求項９、１１、１２、１５、１７、１８、２０〜２４のいずれかに記載の研磨用組成物で研磨する工程を含む、研磨物の製造方法。
【請求項２６】
（削除）
【請求項２７】
（削除）
 
訂正の要旨 審決（決定）の【理由】欄参照。
異議決定日 2023-02-08 
出願番号 P2020-027612
審決分類 P 1 651・ 536- YAA (C09K)
P 1 651・ 121- YAA (C09K)
P 1 651・ 537- YAA (C09K)
P 1 651・ 851- YAA (C09K)
P 1 651・ 857- YAA (C09K)
P 1 651・ 113- YAA (C09K)
最終処分 07   維持
特許庁審判長 門前 浩一
特許庁審判官 亀ヶ谷 明久
木村 敏康
登録日 2021-05-14 
登録番号 6884898
権利者 日本酢ビ・ポバール株式会社
発明の名称 研磨用組成物  
代理人 勝又 政徳  
代理人 岩谷 龍  
代理人 勝又 政徳  
代理人 岩谷 龍  
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