異議の決定｜2021-700290 - 特許審決データベース

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審決分類	審判全部申し立て特36条6項1、2号及び3号請求の範囲の記載不備 C09K 審判全部申し立て 2項進歩性 C09K 審判全部申し立て特36条4項詳細な説明の記載不備 C09K 審判全部申し立て 1項3号刊行物記載 C09K
管理番号	1398209
総通号数	18
発行国	JP
公報種別	特許決定公報
発行日	2023-06-30
種別	異議の決定
異議申立日	2021-03-18
確定日	2023-03-28
異議申立件数	2
訂正明細書	true
事件の表示	特許第６７６１５５４号発明「研磨用組成物」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
結論	特許第６７６１５５４号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１－１６〕について訂正することを認める。特許第６７６１５５４号の請求項１ないし１６に係る特許を維持する。
理由	第１手続の経緯１本件請求項１～１６に係る特許についての出願は、令和２年２月２０日（優先権主張令和２年１月２２日（以下「本件優先日」という。）日本国）の出願であって、同年９月８日にその特許権の設定登録（請求項の数は１６）がされ、同年９月２３日に特許掲載公報が発行され、令和３年３月１８日に特許異議申立人北原陽子（以下「申立人Ａ」という。）、同年３月２２日に特許異議申立人藤井正剛（以下「申立人Ｂ」という。）により特許異議の申立がされたものである。２令和３年８月１８日付けで当審は取消理由を通知し（発送は、同年同月２４日）、同年９月２４日に特許権者から上申書が提出され、同年同月２９日付けで、当審は、指定期間を３０日延期する通知をし、同年１１月１８日に特許権者は訂正請求書及び意見書を提出し、同年１２月２３日に申立人Ｂから、また同年同月２４日に申立人Ａから意見書が提出され、令和４年３月９日付けで当審が訂正拒絶理由を通知し、同年４月１１日に特許権者から意見書が提出されたものである。３令和４年６月２２日付けで当審は取消理由（決定の予告）を通知し（発送は、同年同月２７日）、同年８月２４日に特許権者は訂正請求書（この訂正請求を以下「本件訂正請求」といい、訂正の内容を以下「本件訂正」という。）及び意見書を提出した。（これにより、令和３年１１月１８日にされた訂正請求は取り下げられたものとみなされる。）令和４年１０月６日に申立人Ｂから意見書が提出され、同年同月７日に申立人Ａから意見書が提出されたものである。第２本件訂正について１訂正の趣旨本件訂正の趣旨は、「特許第６７６１５５４号の特許請求の範囲を本件訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１～１６について訂正することを求める。」というものである。２本件訂正は、次の訂正事項からなるものである。当審が、訂正箇所に下線を付した。（１）訂正事項１特許請求の範囲の請求項１に、「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物（ただし、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く）。」と記載されているのを、「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ａ）～（Ｄ）の組成物を除く。（Ａ）酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。」と訂正する。（請求項１の記載を直接又は間接的に引用する請求項４～１６も同様に訂正する。）（２）訂正事項２特許請求の範囲の請求項２に、「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む、単結晶シリコン基板の研磨用組成物。」と記載されているのを、「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である、単結晶シリコン基板の研磨用組成物（ただし、下記（Ｄ）の組成物を除く。（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。」と訂正する。（請求項２の記載を直接又は間接的に引用する請求項４～１６も同様に訂正する。）（３）訂正事項３訂正前の請求項３に、「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が６０ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物。」と記載されているのを、「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ｂ）～（Ｃ）の組成物を除く。（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物）。」に訂正する。（請求項３の記載を直接又は間接的に引用する請求項４～１６も同様に訂正する。）（４）訂正事項４訂正前の請求項４に、「水溶性高分子のけん化度が８０～９９．９モル％である請求項１～３のいずれかに記載の研磨用組成物。」と記載されているのを、「水溶性高分子のけん化度が８０～８９．７モル％又は９８．３～９９．３モル％である請求項１～３のいずれかに記載の研磨用組成物。」に訂正する。（請求項４の記載を直接又は間接的に引用する請求項５～１６も同様に訂正する。）（５）訂正事項５訂正前の請求項５に、「さらに、砥粒を含む、請求項１～４のいずれかに記載の研磨用組成物。」と記載されているのを、「砥粒の平均一次粒子径が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満であり、下記（Ｅ）及び（Ｆ）の組成物を含まない、請求項１～４のいずれかに記載の研磨用組成物。（Ｅ）エチレンジアミンテトラ酢酸又はエチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウムを含む組成物（Ｆ）ポリエチレンオキサイドーポリプロピレンオキサイドーポリエチレンオキサイド型トリブロック共重合体を含む組成物」に訂正する。（請求項５の記載を直接又は間接的に引用する請求項６～１６も同様に訂正する。）３訂正要件についての判断（１）一群の請求項についてア請求項１及び請求項１の記載を直接又は間接的に引用する請求項４～１６は、訂正事項１によって訂正されるから、請求項１、４～１６は特許法第120条の5第4項本則に定められた一群の請求項といえる。イ請求項２及び請求項２の記載を直接又は間接的に引用する請求項４～１６は、訂正事項２によって訂正されるから、請求項２、４～１６は特許法第120条の5第4項本則に定められた一群の請求項といえる。ウ請求項３及び請求項３の記載を直接又は間接的に引用する請求項４～１６は、訂正事項３によって訂正されるから、請求項３、４～１６は特許法第120条の5第4項本則に定められた一群の請求項といえる。エ前記ア～ウより、請求項１～１６は、特許法第120条の5第4項に規定された経済産業省令第45条の4に規定された連関している関係を満たすから、請求項１～１６は、一群の請求項と認められる。（２）訂正事項１についてア訂正の目的（ア）砥粒に関する訂正について訂正前の請求項１に係る発明では、ａ砥粒を含むこと、ｂ砥粒が無機酸化物を含むこと、ｃ砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満であること、が規定されていない。これに対して、訂正後の請求項１に係る発明は、これらで特定するものであるから、これらの訂正事項は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。（イ）粘度に関する訂正について訂正前の請求項１に係る発明においては、水溶性高分子について、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下と特定されていたが、訂正後の請求項１に係る発明は、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下と特定されている。この訂正は、訂正前の粘度範囲から、２８．９ｍＰａ・ｓ超１００ｍＰａ・ｓ未満の範囲を除く訂正であるから、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。（ウ）「除く」クレームに関する訂正について訂正前の請求項１に係る発明においては、「酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く」と特定されていたところ、訂正後の請求項１に係る発明においては、「下記（Ａ）～（Ｄ）の組成物を除く。（Ａ）酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物」とされており、除く対象を（Ａ）のみから、（Ａ）～（Ｄ）と増加する訂正であるから、この訂正は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。イ実質上の拡張・変更の有無（ア）砥粒に関する訂正について前記ア（ア）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。（イ）粘度に関する訂正について前記ア（イ）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。（ウ）「除く」クレームに関する訂正について前記ア（ウ）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。ウ新規事項の追加の有無（ア）砥粒に関する訂正について研磨用組成物が無機酸化物を含む砥粒を含むこと、及び砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満であることは、本件特許明細書の段落【００６４】の「これらの砥粒の中でも、無機粒子が好ましく、無機酸化物（例えば、金属酸化物、半金属酸化物）がより好ましく」という記載及び同段落【００６７】の「ヘイズ低減などの観点から、砥粒の平均一次粒子径ＤＰ１は、好ましくは１００ｎｍ未満」という記載に基づいて導き出される事項であり、新規事項を導入するものでない。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（イ）粘度に関する訂正について粘度に関する訂正は、令和４年６月２２日付けの取消理由において指摘した証拠に記載された引用発明を除外するため、２８．９ｍＰａ・ｓ超１００ｍＰａ・ｓ未満の範囲を除く訂正であるから、新たな技術的事項を追加するものではない。また、２８．９ｍＰａ・ｓという数値及び１００ｍＰａ・ｓという数値は、本件特許明細書の【表１】の実施例６及び７及び段落【００３５】にそれぞれ記載されている。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（ウ）「除く」クレームに関する訂正についてこの訂正は、請求項１に係る発明から除く対象を（Ａ）のみから、（Ａ）～（Ｄ）と増加する訂正であるから、新たな技術事項を追加するものではない。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（２）訂正事項２についてア訂正の目的（ア）砥粒に関する訂正について訂正前の請求項２に係る発明では、ａ砥粒を含むこと、ｂ砥粒が無機酸化物を含むこと、ｃ砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満であること、が規定されていない。これに対して、訂正後の請求項２に係る発明は、これらで特定するものであるから、これらの訂正事項は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。（イ）粘度に関する訂正について訂正前の請求項２に係る発明においては、水溶性高分子について、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下と特定されていたが、訂正後の請求項２に係る発明は、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下と特定されている。この訂正は、訂正前の粘度範囲から、２８．９ｍＰａ・ｓ超３０００ｍＰａ・ｓ以下の範囲を除く訂正であるから、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。（ウ）「除く」クレームに関する訂正について訂正前の請求項２においては、除くクレームとなっていなかったが、訂正後の請求項２においては、「（ただし、下記（Ｄ）の組成物を除く。（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）」との特定を追加するものであり、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。イ実質上の拡張・変更の有無（ア）砥粒に関する訂正について前記ア（ア）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。（イ）粘度に関する訂正について前記ア（イ）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。（ウ）「除く」クレームに関する訂正について前記ア（ウ）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。ウ新規事項の追加の有無（ア）砥粒に関する訂正について研磨用組成物が無機酸化物を含む砥粒を含むこと、及び砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満であることは、本件特許明細書の段落【００６４】の「これらの砥粒の中でも、無機粒子が好ましく、無機酸化物（例えば、金属酸化物、半金属酸化物）がより好ましく」という記載及び同段落【００６７】の「ヘイズ低減などの観点から、砥粒の平均一次粒子径ＤＰ１は、好ましくは１００ｎｍ未満」という記載に基づいて導き出される事項であり、新規事項を導入するものでない。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（イ）粘度に関する訂正について粘度に関する訂正は、令和４年６月２２日付けの取消理由において指摘した証拠に記載された引用発明を除外するため、２８．９ｍＰａ・ｓ超３０００ｍＰａ・ｓ以下の範囲を除く訂正であるから、新たな技術的事項を追加するものではない。また、２８．９ｍＰａ・ｓという数値は、本件特許明細書の【表１】の実施例６及び７に記載されている。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（ウ）「除く」クレームに関する訂正についてこの訂正は、請求項２に係る発明から除く対象（Ｄ）を追加する訂正であるから、新たな技術事項を追加するものではない。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（３）訂正事項３についてア訂正の目的（ア）砥粒に関する訂正について訂正前の請求項３に係る発明では、ａ砥粒を含むこと、ｂ砥粒が無機酸化物を含むこと、ｃ砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満であること、が規定されていない。これに対して、訂正後の請求項３に係る発明は、これらで特定するものであるから、これらの訂正事項は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。（イ）粘度に関する訂正について訂正前の請求項３に係る発明においては、水溶性高分子について、２０℃における４％水溶液粘度が６０ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下と特定されていたが、訂正後の請求項３に係る発明は、２０℃における４％水溶液粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下と特定されている。この訂正は、訂正前の粘度範囲から、６０ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ未満の範囲を除く訂正であるから、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。（ウ）「除く」クレームに関する訂正について訂正前の請求項３においては、除くクレームとなっていなかったが、訂正後の請求項３においては、「（ただし、下記（Ｂ）～（Ｃ）の組成物を除く。（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物」との特定を追加するものであり、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。イ実質上の拡張・変更の有無（ア）砥粒に関する訂正について前記ア（ア）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。（イ）粘度に関する訂正について前記ア（イ）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。（ウ）「除く」クレームに関する訂正について前記ア（ウ）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。ウ新規事項の追加の有無（ア）砥粒に関する訂正について研磨用組成物が無機酸化物を含む砥粒を含むこと、及び砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満であることは、本件特許明細書の段落【００６４】の「これらの砥粒の中でも、無機粒子が好ましく、無機酸化物（例えば、金属酸化物、半金属酸化物）がより好ましく」という記載及び同段落【００６７】の「ヘイズ低減などの観点から、砥粒の平均一次粒子径ＤＰ１は、好ましくは１００ｎｍ未満」という記載に基づいて導き出される事項であり、新規事項を導入するものでない。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（イ）粘度に関する訂正について粘度に関する訂正は、令和４年６月２２日付けの取消理由において指摘した証拠に記載された引用発明を除外するため、６０ｍＰａ・ｓ以上１００ｍＰａ・ｓ未満の範囲を除く訂正であるから、新たな技術的事項を追加するものではない。また、１００ｍＰａ・ｓという数値は、本件特許明細書の段落【００３５】に記載されている。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（ウ）「除く」クレームに関する訂正についてこの訂正は、請求項３に係る発明から除く対象（Ｂ）（Ｃ）を追加する訂正であるから、新たな技術事項を追加するものではない。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（５）訂正事項４ア訂正の目的訂正事項４は、請求項４における水溶性高分子のけん化度の特定を訂正前の「８０～９９．９モル％」から、８９．７モル％超９８．３モル％未満及び９９．３モル％超９９．９モル％以下の場合を除くことにより、「８０～８９．７モル％又は９８．３～９９．３モル％」と訂正するものであるから、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。イ実質上の拡張・変更の有無前記アの理由から、訂正事項４は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。ウ新規事項の追加の有無訂正事項４は、訂正前の請求項４に係る発明から、水溶性高分子のうちけん化度が８９．７モル％超９８．３モル％未満及び９９．３モル％超９９．９モル％以下の場合を除くものであるから、新たな技術事項を追加するものではない。また、本件特許明細書の表１の実施例３、６、２には、けん化度（モル％）が８９．７、９８．３、９９．３であることが記載されている。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（６）訂正事項５ア訂正の目的（ア）砥粒に関する訂正について訂正前の請求項５に係る発明では、砥粒を含むことが規定されているものの、平均一次粒子径が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満であることは規定されていない。訂正後の請求項５はそれを特定するから、この訂正は、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。（イ）除くクレームに関する訂正について訂正前の請求項５に係る発明においては、除くクレームとなっていなかったが、訂正後の請求項５に係る発明は、「下記（Ｅ）及び（Ｆ）の組成物を含まない、請求項１～４のいずれかに記載の研磨用組成物。（Ｅ）エチレンジアミンテトラ酢酸又はエチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウムを含む組成物（Ｆ）ポリエチレンオキサイド－ポリプロピレンオキサイド－ポリエチレンオキサイド型トリブロック共重合体を含む組成物」と特定されているから、特許法第120条の5第2項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものといえる。イ実質上の拡張・変更の有無（ア）砥粒についての訂正について前記ア（ア）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。（イ）「除く」クレームに関する訂正について前記ア（イ）の理由から、この訂正事項は、特許請求範囲を減縮するものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものではなく、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第6項の規定に適合するものといえる。ウ新規事項の追加の有無（ア）砥粒に関する訂正について訂正事項５のうち「砥粒の平均一次粒子径が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満」であることは、本件特許明細書の段落【００６７】の「砥粒の平均一次粒子径ＤＰ１は、・・・研磨速度などの観点から、例えば、５ｎｍ以上」及び「砥粒の平均一次粒子径ＤＰ１は、好ましくは１００ｎｍ未満」という記載に基づいて導き出される構成であるから、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。（イ）除くクレームとする訂正についてこの訂正は、請求項５に係る発明から除く対象（Ｅ）（Ｆ）を追加する訂正であるから、新たな技術事項を追加するものではない。したがって、この訂正は、特許法第120条の5第9項で準用する同法第126条第5項の規定に適合するものである。４申立人の主張について（１）申立人Ａ及び申立人Ｂは、訂正事項１～３において、「除く」とされた特定事項が本件特許明細書に記載された事項ではないから、本件訂正が新規事項を追加するものと主張する。（２）しかしながら、知財高裁特別部平成１８年（行ケ）１０５６３号判決によれば、新規事項の追加であるか否かの判断は、「明細書又は図面に具体的に記載されていない事項を訂正事項とする訂正についても、平成６年改正前の特許法134条2項ただし書が適用されることに変わりはなく、このような訂正も、明細書又は図面の記載によって開示された技術的事項に対し、新たな技術的事項を導入しないものであると認められる限り、「明細書又は図面に記載した事項の範囲内において」する訂正であるというべきである。」とされているから、本件訂正についても新規事項を追加するものということはできず、申立人らの主張は採用できない。第３本件発明前記第２のとおり、本件訂正は認められるから、本件発明は次のとおりの発明（請求項の番号に従い「本件発明１」などといい、まとめて「本件発明」ということもある。）である。「【請求項１】水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ａ）～（Ｄ）の組成物を除く。（Ａ）酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。【請求項２】水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である、単結晶シリコン基板の研磨用組成物（ただし、下記（Ｄ）の組成物を除く。（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。【請求項３】水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ｂ）～（Ｃ）の組成物を除く。（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物）。【請求項４】水溶性高分子のけん化度が８０～８９．７モル％又は９８．３～９９．３モル％である請求項１～３のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項５】砥粒の平均一次粒子径が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満であり、下記（Ｅ）及び（Ｆ）の組成物を含まない、請求項１～４のいずれかに記載の研磨用組成物。（Ｅ）エチレンジアミンテトラ酢酸又はエチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウムを含む組成物（Ｆ）ポリエチレンオキサイド－ポリプロピレンオキサイド－ポリエチレンオキサイド型トリブロック共重合体を含む組成物【請求項６】砥粒がシリカを含む請求項５に記載の研磨用組成物。【請求項７】水溶性高分子の単量体全体に対して、酸基を有する単量体の割合が、０．１モル％未満である請求項１～６のいずれかに記載の組成物。【請求項８】さらに、ｐＨ調整剤を含む、請求項１～７のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項９】さらに、砥粒及びｐＨ調整剤を含む研磨用組成物であって、砥粒がシリカを含み、ｐＨ調整剤が塩基性化合物を含む、請求項１～８のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１０】さらに、界面活性剤を含む、請求項１～９のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１１】さらに、界面活性剤を含む研磨組成物であって、界面活性剤が、オキシエチレン－オキプロピレン構造を有する共重合体及びポリオキシエチレンアルキルエーテルから選択された少なくとも１種を含む、請求項１～１０のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１２】さらに、界面活性剤を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子と界面活性剤の割合が、質量比で、１：０．０１～１：２００である、請求項１～１１のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１３】さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、水溶性高分子の濃度が１ｐｐｍ以上である、請求項１～１２のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１４】さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、固形分濃度が０．０１質量％以上である、請求項１～１３のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１５】研磨対象物の表面を、請求項１～１４のいずれかに記載の研磨用組成物で研磨する工程を含む、研磨物の製造方法。【請求項１６】研磨用組成物を少なくとも水を含む溶媒で希釈する希釈工程を含み、研磨工程において、希釈工程で得られた希釈液で研磨する、請求項１５記載の研磨物の製造方法。」第４取消理由通知の理由について令和４年６月２２日付けの取消理由通知（決定の予告）は、サポート要件違背並びに新規性欠如及び進歩性欠如を理由とするものであり、その内容は次のとおりである。なお、第４における「本件発明１」～「本件発明１６」は、本件訂正前の請求項１～１６に係る発明である。１証拠の一覧（１）申立人Ａが提示した証拠は次のとおりである。なお、甲第１号証を甲Ａ１などという。甲Ａ１：国際公開第２０１７／１５０１５８号甲Ａ２：長野浩一外２名、株式会社高分子刊行会、ポバール、１３７～１４１頁（１９８４年）甲Ａ３：株式会社クラレ発行、クラレポバールグレード表と題したウェブアーカイブ（２００２年）甲Ａ４：特開２００５－８５８５８号公報甲Ａ５：国際公開２０１８／０９６９９１号（２）申立人Ｂが提示した証拠は次のとおりである。なお、甲第１号証を甲Ｂ１などという。甲Ｂ１：特開２０１０－９９７５７号公報甲Ｂ２：特開２０１４－３８９０６号公報甲Ｂ３：国際公開第２０１９／１２４４４２号甲Ｂ４：株式会社クラレ発行、クラレポバール、１～２３頁（２０１９年９月）甲Ｂ５：吉田靖著、ピッツコールＶ－７１５４の製品情報の頁、第一工業製薬社報Ｎｏ．５６６、１６頁（２０１３年）甲Ｂ６：特許第５８６２７３９号公報（２０１６年）甲Ｂ７：三菱ケミカル株式会社のゴーセノールの特殊銘柄「アニオン性ＰＶＯＨＴシリーズ」と題するウェブページ（２０２１年２月２２日印刷）甲Ｂ８：特開２００９－９４２３３号公報甲Ｂ９：国際公開第２０１４／１２６０５１号甲Ｂ１０：特開２０１３－１３８１５３号公報甲Ｂ１１：国際公開第２０１７／０６９２０２号甲Ｂ１２：国際公開第２０１９／１８７９６９号甲Ｂ１３：特開２０１３－１５３１４９号公報（３）特許権者が提示した証拠は次のとおりである。乙１：東京高等裁判所、平成１３年（行ケ）３３４号審決取消訴訟の判決文２取消理由１（サポート要件違背）（１）本件発明の課題についてア本件特許明細書の記載本件特許明細書には次の記載がある。（ア）「【０００５】本発明の目的は、新規な研磨用組成物を提供することにある。」（イ）「【０００６】本発明の他の目的は、研磨（特に、シリコンウエハなどの半導体基板の研磨）後の表面のＡＦＭ粗さ（ＡＦＭによって測定される粗さ）を低減しうる研磨用組成物を提供することにある。【０００７】本発明の他の目的は、前記研磨後の表面のヘイズが小さい研磨用組成物を提供することにある。」（ウ）「【課題を解決するための手段】【０００９】本発明者らは、半導体基板などの基板の研磨後の表面において、ＡＦＭ粗さに着目したところ、水溶性高分子を含む研磨用組成物を用いて半導体基板表面を研磨した場合、水溶性高分子の種類によっては、研磨後の表面のＡＦＭ粗さが大きくなる場合があることを見出した。【００１０】本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の水溶性高分子などを含む研磨用組成物を用いることなどによって、研磨後の半導体基板表面のＡＦＭ粗さを低減しうることなどを見出した。」（エ）「【発明の効果】【００１２】本発明によれば、新規な研磨用組成物を提供できる。このような組成物によれば、研磨（特に、シリコンウエハなどの半導体基板の研磨）後の表面において、ＡＦＭ粗さ（特に、長波長の粗さ）を低減し得るため、高品位の表面を有する研磨物を得ることができる。また、半導体デバイス作製の露光時にフォーカスを効率よく合わせうる。【００１３】また、このような組成物によれば、前記研磨後の表面のヘイズを小さくし得るため、高品位の表面を有する研磨物を得ることができる。【００１４】また、このような組成物によれば、半導体デバイスなどを効率よく形成し得る。」（オ）「【０１４９】表１が示すように、実施例では、研磨面のＡＦＭ粗さが低減された。また、実施例では、研磨面のヘイズが小さかった。【産業上の利用可能性】【０１５０】本発明の組成物は、研磨対象物のＡＦＭ粗さの低減などを実現し得るため、表面に保護膜を形成させた基材の加工を効率良く行うことができ、工業的に極めて有用である。」イ本件発明の課題本件特許明細書の前記ア（ア）～（オ）の記載から、本件発明の課題は、「研磨（特に、シリコンウエハなどの半導体基板の研磨）後の表面のＡＦＭ粗さの低減及びヘイズの低減が可能な研磨用組成物の提供」であると認められる。（２）検討ア本件特許明細書の段落【０１２７】～【０１４９】における実施例において、前記課題が解決できるものとして記載されているのは、砥粒として平均一次粒子径３５ｎｍのコロイダルシリカを用いたものに限られている。イ一方、本件特許１～３においては、砥粒を発明特定事項とするものでもなく、砥粒の材質及び平均粒径についても何ら特定するものでもない。ウ研磨用組成物において、砥粒が存在しない場合に、前記アに記載の実施例と同様に本件発明における課題が解決できるということはできない。エまた、砥粒が存在したとしても、研磨用組成物においてどのような砥粒を用いても、前記アに記載の実施例と同様に本件発明における課題が解決できるということはできない。オそうすると、本件発明１～３は、発明の詳細な説明に記載された発明であって、本件発明の課題が解決できると認識できる範囲を超えるものであるから、本件特許請求の範囲の請求項１～３の記載は、特許法第36条第6項第1号に規定する要件を満たさないものである。カまた、本件特許請求の範囲の請求項４～１６の記載についても同様に、特許法第36条第6項第1号に規定する要件を満たすものではない。３取消理由２（新規性・進歩性）（１）主引用例となる発明が記載された甲号証の記載事項ア甲Ａ１には次の記載がある。（ア）「［請求項１］シリコン基板を研磨する方法であって、研磨対象のシリコン基板に対し、第１研磨スラリーＳ１および第２研磨スラリーＳ２を、この順に、前記シリコン基板の研磨途中で切り替えて供給することを含み、前記第１研磨スラリーＳ１は、砥粒Ａ１および水溶性高分子Ｐ１を含有し、前記第１研磨スラリーＳ１の研磨能率は、前記第２研磨スラリーＳ２の研磨能率よりも高い、研磨方法。［請求項２］前記第１研磨スラリーＳ１は、前記水溶性高分子Ｐ１を０．００１重量％以上の濃度で含む、請求項１に記載の研磨方法。［請求項３］前記水溶性高分子Ｐ１は、ビニルアルコール系ポリマー鎖を含む、請求項１または２に記載の研磨方法。・・・」（イ）「［００２２］＜第１研磨スラリーＳ１＞第１研磨スラリーＳ１は、砥粒Ａ１および水溶性高分子Ｐ１を含み、典型的にはさらに水を含む。［００２３］（砥粒Ａ１）砥粒は、シリコン基板の表面を物理的に研磨する働きをする。・・・［００２５］シリカ粒子の具体例としては、コロイダルシリカ、フュームドシリカ、沈降シリカ等が挙げられる。シリカ粒子は、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。研磨対象物表面にスクラッチを生じにくく、かつ良好な研磨性能を発揮し得ることから、コロイダルシリカが特に好ましい。コロイダルシリカとしては、例えば、イオン交換法により水ガラス（珪酸Ｎａ）を原料として作製されたコロイダルシリカや、アルコキシド法コロイダルシリカを好ましく採用することができる。ここで、アルコキシド法コロイダルシリカとは、アルコキシシランの加水分解縮合反応により製造されたコロイダルシリカである。コロイダルシリカは、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。・・・［００２７］第１研磨スラリーＳ１に含まれる砥粒（典型的にはシリカ粒子）Ａ１のＢＥＴ径は特に限定されない。研磨効率等の観点から、上記ＢＥＴ径は、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、特に好ましくは２０ｎｍ以上、例えば２５ｎｍ以上である。より高い研磨効果を得る観点から、ＢＥＴ径が３０ｎｍを超える砥粒Ａ１を好ましく用いることができる。例えば、ＢＥＴ径が３２ｎｍ以上の砥粒Ａ１を好ましく用いることができる。また、スクラッチ防止等の観点から、砥粒Ａ１のＢＥＴ径は、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは８０ｎｍ以下、さらに好ましくは７０ｎｍ以下、例えば６０ｎｍ以下である。ここに開示される技術は、砥粒Ａ１のＢＥＴ径が、好ましくは６０ｎｍ未満、より好ましくは５５ｎｍ以下、さらに好ましくは４５ｎｍ以下、例えば４０ｎｍ以下である態様で実施することができる。このような砥粒Ａ１を含む第１研磨スラリーＳ１を用いて研磨（典型的には仕上げ研磨）を行うことにより、抵抗率の異なる複数種類のシリコン基板について、高品位な表面を効率よく得ることができる。なお、本明細書においてＢＥＴ径とは、ＢＥＴ法により測定される比表面積（ＢＥＴ値）から、ＢＥＴ径（ｎｍ）＝６０００／（真密度（ｇ／ｃｍ３）×ＢＥＴ値（ｍ２／ｇ））の式により算出される粒子径をいう。例えばシリカ粒子の場合、ＢＥＴ径（ｎｍ）＝２７２７／ＢＥＴ値（ｍ２／ｇ）によりＢＥＴ径を算出することができる。比表面積の測定は、例えば、マイクロメリテックス社製の表面積測定装、商品名「ＦｌｏｗＳｏｒｂＩＩ２３００」を用いて行うことができる。・・・［００３２］（水）第１研磨スラリーＳ１は、典型的には水を含む。・・・［００３３］（水溶性高分子Ｐ１）第１研磨スラリーＳ１は、水溶性高分子Ｐ１を含有する。上記水溶性高分子Ｐ１としては、分子中に、カチオン性基、アニオン性基およびノニオン性基から選ばれる少なくとも１種の官能基を有するポリマーを、１種を単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。より具体的には、例えば、分子中に水酸基、カルボキシ基、アシルオキシ基、スルホ基、第１級アミド構造、複素環構造、ビニル構造、ポリオキシアルキレン構造等を有するポリマーから選択される１種または２種以上のポリマーを水溶性高分子Ｐ１として使用し得る。凝集物の低減や洗浄性向上等の観点から、水溶性高分子Ｐ１としては、ノニオン性のポリマーを好ましく採用し得る。水溶性高分子Ｐ１として使用し得るポリマーの非限定的な例には、ビニルアルコール系ポリマー（例えば、ポリビニルアルコール）、セルロース誘導体（例えば、ヒドロキシエチルセルロース）、デンプン誘導体、オキシアルキレン単位を含むポリマー、窒素原子を含有するポリマー等が含まれる。窒素原子を含有するポリマーの非限定的な例には、Ｎ－ビニルラクタムやＮ－ビニル鎖状アミド等のようなＮ－ビニル型のモノマー単位を含むポリマー；イミン誘導体；Ｎ－（メタ）アクリロイル型のモノマー単位を含むポリマー；等が含まれる。［００３４］ここに開示される技術の好ましい一態様において、水溶性高分子Ｐ１は、少なくともビニルアルコール系ポリマー鎖を含む。このような第１研磨スラリーＳ１を用いて第１段階の研磨を行うことにより、抵抗率の異なる複数種類のシリコン基板の表面粗さを効率よく低下させることができる。・・・［００６０］水溶性高分子ＰＡの重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されない。水溶性高分子ＰＡのＭｗは、通常、０．２×１０４以上であることが適当であり、好ましくは０．４×１０４以上、より好ましくは１×１０４以上、さらに好ましくは１．５×１０４以上である。水溶性高分子ＰＡのＭｗの増大につれて、研磨後の表面の平滑性が高まる傾向にある。水溶性高分子ＰＡのＭｗは、通常、２００×１０４以下であることが適当であり、好ましくは１５０×１０４以下、より好ましくは１００×１０４以下、さらに好ましくは５０×１０４以下である。水溶性高分子ＰＡのＭｗの減少につれて、第１研磨スラリーＳ１から第２研磨スラリーＳ２への切り替えがより円滑に進行しやすくなる傾向にある。水溶性高分子ＰＡのＭｗは、３０×１０４以下であってもよく、２０×１０４以下であってもよく、例えば１０×１０４以下であってもよい。・・・［０１０４］各研磨スラリーは、研磨対象物に供給される前には濃縮された形態、すなわち研磨スラリーの濃縮液の形態であってもよい。上記濃縮液は、研磨スラリーの原液としても把握され得る。このように濃縮された形態の研磨スラリーは、製造、流通、保存等の際における利便性やコスト低減等の観点から有利である。濃縮倍率は特に限定されず、例えば、体積換算で２倍～１００倍程度とすることができ、通常は５倍～５０倍程度（例えば１０倍～４０倍程度）が適当である。［０１０５］このような濃縮液は、所望のタイミングで希釈して研磨スラリー（ワーキングスラリー）を調製し、該研磨スラリーを研磨対象物に供給する態様で使用することができる。上記希釈は、例えば、上記濃縮液に水を加えて混合することにより行うことができる。」（ウ）「実施例［０１２１］以下、本発明に関するいくつかの実施例を説明するが、本発明をかかる実施例に示すものに限定することを意図したものではない。［０１２２］１．研磨液の調製・・・［０１２４］（スラリーＣ～Ｅ，Ｊ，Ｋ）イオン交換水中にコロイダルシリカ（ＢＥＴ径３５ｎｍ）、ＰＶＡ、ＰＶＰおよびＫＯＨを含む、表１に示す組成のスラリーＣ～Ｅ，Ｊ，Ｋをそれぞれ調製した。各スラリーの調製に使用したＰＶＡおよびＰＶＰのＭｗは、表１に示すとおりである。これらのスラリーの調製に用いたＰＶＡのけん化度は、いずれも９８モル％以上である。また、これらのスラリーの調製に用いたＰＶＰは、いずれもビニルピロリドンの単独重合体である。表１中のＣ１０ＰＥＯ５は、エチレンオキサイドの平均付加モル数が５のポリオキシエチレンデシルエーテルを表す。［０１２５］（スラリーＦ～Ｈ）イオン交換水中にコロイダルシリカ（ＢＥＴ径３５ｎｍ）、ＰＶＡ主鎖－ＰＶＰグラフト共重合体およびＫＯＨを含む、表１に示す組成のスラリーＦ～Ｈを調製した。各スラリーの調製に使用したＰＶＡ主鎖－ＰＶＰグラフト共重合体の主鎖および側鎖のＭｗは、表１に示すとおりである。これらのグラフト共重合体は、いずれも、主鎖を構成するＰＶＡのけん化度が９８モル％以上であり、側鎖を構成するＰＶＰがビニルピロリドンの単独重合体である。・・・［０１２８］［表１］」イ甲Ａ４には次の記載がある。（ア）「【請求項１】（Ａ）下記一般式（１）で示されるブロック型ポリエーテル、（Ｂ）二酸化ケイ素、（Ｃ）塩基性化合物、（Ｄ）ヒドロキシエチルセルロース及びポリビニルアルコールから選ばれる少なくとも一種並びに（Ｅ）水の各成分を含有する研磨用組成物。ＨＯ－（ＥＯ）a－（ＰＯ）b－（ＥＯ）c－Ｈ …（１）（式中、ＥＯはオキシエチレン基を示すとともにＰＯはオキシプロピレン基を示し、ａ、ｂ及びｃは１以上の整数を示す。）」（イ）「【００３４】成分（Ｃ）の塩基性化合物は、シリコンウエハ表面を腐食又はエッチングすることにより、シリコンウエハ表面をケミカル研磨する。塩基性化合物としては、水酸化カリウム（以下、「ＰＨＡ」という。以下において化合物名の後の括弧内はその略号を示す。）、水酸化ナトリウム（ＮＨＡ）、炭酸水素カリウム（ＰＣＡＨ）、炭酸カリウム（ＰＣＡ）、炭酸水素ナトリウム（ＮＣＡＨ）、炭酸ナトリウム（ＮＣＡ）等の無機アルカリ化合物、アンモニア（Ａ）、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）、炭酸水素アンモニウム（ＡＣＡＨ）、炭酸アンモニウム（ＡＣＡ）等のアンモニウム塩、メチルアミン（ＭＡ）、ジメチルアミン（ＤＭＡ）、トリメチルアミン（ＴＭＡ）、エチルアミン（ＥＡ）、ジエチルアミン（ＤＥＡ）、トリエチルアミン（ＴＥＡ）、エチレンジアミン（ＥＤＡ）、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、Ｎ－（β－アミノエチル）エタノールアミン（ＡＥＥＡ）、ヘキサメチレンジアミン（ＨＭＤＡ）、ジエチレントリアミン（ＤＥＴＡ）、トリエチレンテトラミン（ＴＥＴＡ）、無水ピペラジン（ＰＩＺ）、ピペラジン・六水和物、１－（２－アミノエチル）ピペラジン（ＡＥＰＩＺ）及びＮ－メチルピペラジン（ＭＰＩＺ）等のアミン等が挙げられる。これら塩基性化合物は、単独で含有してもよいし二種以上を組み合わせて含有してもよい。・・・【００３８】成分（Ｄ）のＨＥＣ及びＰＶＡから選ばれる少なくとも一種は、ヘイズレベルを改善する。これは、成分（Ｂ）によるシリコンウエハ表面のメカニカル研磨において成分（Ｄ）が緩衝剤として作用し、シリコンウエハ表面に形成される微細な凹凸が小さくなるためと推察される。さらに、成分（Ｄ）は、シリコンウエハ表面の濡れ性を向上させて研磨後のシリコンウエハ表面の乾燥を防止し、研磨後のシリコンウエハ表面に成分（Ｂ）等の異物（パーティクル）が付着するのを抑制することによりＬＰＤ（Light Point Defect）を改善する。ここで、ＬＰＤとはシリコンウエハの表面欠陥のことであり、研磨が施されたシリコンウエハ表面に付着した異物等に起因している。成分（Ｄ）は、ヘイズレベル改善作用が強いとともに、シリコンウエハ表面の濡れ性を向上させる作用が強くＬＰＤをより低減することができるとともにシリコンウエハ表面にシミが発生するのを防止することができるために、ＨＥＣが好ましい。【００３９】ＨＥＣの平均分子量は３００，０００～３，０００，０００が好ましく、６００，０００～２，０００，０００がより好ましく、９００，０００～１，５００，０００が最も好ましい。一方、ＰＶＡの平均分子量は１，０００～１，０００，０００が好ましく、５，０００～５００，０００がより好ましく、１０，０００～３００，０００が最も好ましい。また、研磨用組成物中のＨＥＣの含有量は０．０１～３質量％が好ましく、０．０５～２質量％がより好ましく、０．１～１質量％が最も好ましい。一方、研磨用組成物中のＰＶＡの含有量は０．００２～４質量％が好ましく、０．０１～２質量％がより好ましく、０．０５～１質量％が最も好ましい。【００４０】ＨＥＣ又はＰＶＡの平均分子量又は含有量が前記範囲未満では、ヘイズレベルの改善が困難になるとともに研磨後のシリコンウエハ表面の濡れ性を十分に向上させることができない。一方、ＨＥＣ又はＰＶＡの平均分子量又は含有量が前記範囲を超えると、研磨用組成物の粘度が過大となってゲル化し、取扱いが困難になる。・・・【００４３】研磨用組成物は、成分（Ｅ）の水に他の成分を混合し、例えば翼式撹拌機による撹拌や超音波分散等によって、各成分を分散又は溶解させることにより調製される。ここで、成分（Ｅ）の水に対する他の成分の混合順序は限定されない。また、本発明の研磨用組成物は、実際の研磨工程時に希釈して使用することもできる。前記各成分の含有量は、容易に貯蔵又は輸送等できるように予め比較的高濃度な研磨用組成物を調製する場合について記載したものであり、通常、使用時に成分（Ｅ）と同等の水で希釈して使用される。尚、希釈して使用する場合には、研磨用組成物１容量に対する水の配合量は１～５０倍量が好ましく、１～４０倍量がより好ましく、１～２５倍量が最も好ましい。水の配合量が１倍量未満では、研磨用組成物の濃縮の度合いが低いために貯蔵コストや輸送コストが嵩み、不経済となりやすい。一方、５０倍量を超えると、研磨用組成物の濃縮の度合いが高すぎるために、希釈前の研磨用組成物がゲル化するおそれがある。」（ウ）「【実施例】【００５０】（試験例１～１１及び比較例１～８）試験例１においては、まず成分（Ａ）、成分（Ｂ）としてのコロイダルシリカ、成分（Ｃ）としてのＡの２９質量％水溶液及び成分（Ｄ）としてのＨＥＣを成分（Ｅ）の水に混合して研磨用組成物を調製した。研磨用組成物中のコロイダルシリカの含有量は１０質量％であり、このコロイダルシリカの２０質量％水溶液中における鉄、ニッケル、銅、クロム、亜鉛及びカルシウムの含有量の合計は２０ｐｐｂ以下であった。さらに、コロイダルシリカの平均粒子径は、FlowSorbII2300（micromeritics社製の製品名）で測定されたＤSAで３５ｎｍであり、N4 Plus Submicron Particle Sizer（Beckman Coulter, Inc.の製品名）で測定されたＤN4で７０ｎｍであった。また、研磨用組成物中のＡの２９質量％水溶液の含有量は１質量％であった。加えて、ＨＥＣの粘度平均分子量は１，０００，０００であり、研磨用組成物中の含有量は０．３質量％であった。研磨用組成物における（Ｂ）及び（Ｅ）の各成分以外の組成を表1に示す。【００５１】試験例２～１１及び比較例１～８においては、各成分の種類又は含有量を表１に示すように変更した以外は、試験例１と同様にして研磨用組成物を調製した。尚、表１において、ＰＶＡは、数平均分子量が１０５，０００及びけん化度が９８％であり、研磨用組成物中の含有量は０．２質量％であった。ＰＥＯの粘度平均分子量は３００，０００であった。ＰＥＰは、ｄとｆとの合計が３０であり、ｅの値は５であった。尚、表２において、各成分の含有量は質量％で示す。【００５２】そして、試験例１～１１及び比較例１～８の各例の研磨用組成物に超純水を混合してその体積を２０倍にそれぞれ希釈した後、希釈された各例の研磨用組成物を用いてシリコンウエハ表面に下記の研磨条件で研磨を施した。尚、シリコンウエハとしてはケミカルエッチングが施された後にエッヂポリッシュが施された６インチシリコンウエハ（ｐ型、結晶方位＜１００＞、抵抗率０．０１Ω・ｃｍ未満）を使用し、予備研磨として予め研磨用組成物（ＧＬＡＮＺＯＸ－１１０２；株式会社フジミインコーポレーテッド製）を用いて１２μｍ研磨除去した。・・・【００５７】【表２】表２に示すように、試験例１～１１においては、ヘイズレベルの値が低いとともにＣＯＰの数が少なく、シリコンウエハに対する研磨速度は高い値となった。このため、各試験例の研磨用組成物は、シリコンウエハに対する研磨速度を向上させるとともにＣＯＰ及びヘイズレベルを改善することができた。さらに、各試験例の研磨用組成物はパーティクルについて優れた評価となり、ＬＰＤを改善することができた。」ウ甲Ａ５には次の記載がある。（ア）「［請求項１］砥粒、塩基性化合物および表面保護剤を含む研磨用組成物であって、前記表面保護剤は、セルロース誘導体とビニルアルコール系分散剤とを含み、前記表面保護剤の分散性パラメータαが１００未満である、研磨用組成物。［請求項２］前記セルロース誘導体の重量平均分子量は５×１０４以上５０×１０４未満である、請求項１に記載の研磨用組成物。［請求項３］前記ビニルアルコール系分散剤の重量平均分子量は、前記セルロース誘導体の重量平均分子量の９０％以下である、請求項１または２に記載の研磨用組成物。［請求項４］前記ビニルアルコール系分散剤の含有量は、前記セルロース誘導体１００ｇに対して０．１ｇ以上８０ｇ以下である、請求項１から３のいずれか一項に記載の研磨用組成物。［請求項５］前記セルロース誘導体と前記ビニルアルコール系分散剤との合計含有量は、前記砥粒１００ｇに対して１．５ｇ以上２０ｇ以下である、請求項１から４のいずれか一項に記載の研磨用組成物。・・・［請求項８］前記砥粒はシリカ粒子である、請求項１から７のいずれか一項に記載の研磨用組成物。［請求項９］シリコンウェーハの研磨に用いられる、請求項１から８のいずれか一項に記載の研磨用組成物。」（イ）「［００３５］（ビニルアルコール系分散剤）ここに開示される表面保護剤は、ビニルアルコール系分散剤を含む。以下、ビニルアルコール系分散剤を「分散剤ＶＡ」と表記することがある。セルロース誘導体と分散剤ＶＡとを組み合わせて用いることにより、研磨用組成物中におけるセルロース誘導体の分散性を改善し、該セルロース誘導体の使用に起因する欠陥（例えば、ＬＰＤ－Ｎ）を効果的に低減することができる。［００３６］分散剤ＶＡとしては、その繰返し単位としてビニルアルコール単位を含む水溶性有機物（典型的には水溶性高分子）が用いられる。ここで、ビニルアルコール単位（以下「ＶＡ単位」ともいう。）とは、次の化学式：－ＣＨ２－ＣＨ（ＯＨ）－；により表される構造部分である。ＶＡ単位は、例えば、酢酸ビニル等のようなビニルエステル系モノマーがビニル重合した構造の繰返し単位を加水分解（けん化ともいう。）することにより生成し得る。」（ウ）「［００５１］分散剤ＶＡの重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に限定されず、例えば２０００以上であってよく、５０００より大であってもよい。分散性向上効果を適切に発揮しやすくする観点から、分散剤ＶＡのＭｗは、７０００以上であってもよく、１×１０４以上であってもよく、１．２×１０４以上であってもよい。一態様において、Ｍｗが２×１０４以上、例えば３×１０４以上、または５×１０４以上、または７×１０４以上の分散剤ＶＡを好ましく採用し得る。また、分散剤ＶＡのＭｗは、通常、１００×１０４以下が適当であり、例えば５０×１０４以下であってよく、３０×１０４以下であってもよく、２０×１０４以下であってもよい。より高い分散性向上効果を得る観点から、一態様において、Ｍｗが１７×１０４以下、例えば１５×１０４以下の分散剤ＶＡを好ましく採用し得る。・・・［００８８］（濃縮液）ここに開示される研磨用組成物は、研磨対象物に供給される前には濃縮された形態であってもよい。上記濃縮された形態とは、研磨液の濃縮液の形態であり、研磨液の原液としても把握され得る。このように濃縮された形態の研磨用組成物は、製造、流通、保存等の際における利便性やコスト低減等の観点から有利である。濃縮倍率は特に限定されず、例えば、体積換算で２倍～１００倍程度とすることができ、通常は５倍～５０倍程度が適当であり、例えば１０倍～４０倍程度であり得る。」（エ）「［００９８］＜研磨用組成物の調製＞（実施例１）イオン交換水中に、ＢＥＴ径が２５ｎｍのコロイダルシリカを０．１７５％、Ｍｗが９０００のＰＥＯ－ＰＰＯ－ＰＥＯブロック共重合体を０．００１２５％、アンモニアを０．００５％の濃度でそれぞれ含み、さらにＭｗが２５×１０４のヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）を０．００８５％、Ｍｗが１３０００のポリビニルアルコール（ＰＶＡ、けん化度９５％以上）を０．０００３％の濃度でそれぞれ含む研磨用組成物を調製した。［００９９］（実施例２）実施例１において、Ｍｗが１３０００のＰＶＡに代えて、Ｍｗが１０６０００のＰＶＡを使用した。その他の点は実施例１と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。［０１００］（実施例３）実施例１において、ＰＶＡに代えて、けん化度９５％以上のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を主鎖とし、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）を側鎖とする、Ｍｗが１７５０００のグラフト共重合体（以下「ＰＶＡ－ｇ－ＰＶＰ」と表記する。）を使用した。その他の点は実施例１と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。［０１０１］（実施例４）実施例１において、ＰＶＡの濃度を０．０００２％に変更した。また、Ｍｗが６００のポリエチレングリコール（ＰＥＧ）を０．０００１％の濃度でさらに含有させた。その他の点は実施例１と同様にして、本例に係る研磨用組成物を調製した。［０１０２］（実施例５）イオン交換水中に、ＢＥＴ径が２５ｎｍのコロイダルシリカを０．０８８％、Ｍｗが４００のポリオキシエチレンデシルエーテルを０．０００６％、アンモニアを０．００６％の濃度でそれぞれ含み、さらにＭｗが２５×１０４のＨＥＣを０．００７５％、Ｍｗが１０６０００のポリビニルアルコール（ＰＶＡ、けん化度９５％以上）を０．００４％の濃度でそれぞれ含む研磨用組成物を調製した。」エ甲Ｂ１には次の記載がある。（ア）「【００５０】なお、上記において説明した各成分の含有量は、使用時における含有量であるが、本実施形態の研磨液組成物は、その安定性が損なわれない範囲で濃縮された状態で保存および供給されてもよい。この場合、製造および輸送コストをさらに低くできる点で好ましい。濃縮液は、必要に応じて前述の水系媒体で適宜希釈して使用すればよい。・・・【００６７】＜ポリ（Ｎ-アシルアルキレンイミン）の合成＞硫酸ジエチルと２－オキサゾリン系化合物とを脱水した酢酸エチルに溶解し、窒素雰囲気下で加熱還流し、表１の実施例１～１９に示した重合体を合成した。【００６８】（１）研磨液組成物の調整研磨材（コロイダルシリカ）、重合体、２８％アンモニア水（キシダ化学(株)試薬特級）、およびイオン交換水を攪拌混合して得た研磨液組成物の濃縮液（ｐＨ１０．０～１１．０）を、イオン交換水で２０倍希釈して、ｐＨ１０．０～１１．０の研磨液組成物を得た。上記研磨液組成物中のシリカ粒子の含有量および重合体の含有量は表１に示すとおりとした。また、各濃縮液中のアンモニアの含有量は０．４重量％とした。濃縮液の残部は、アンモニア水中の水とイオン交換水である。【００６９】（２）研磨方法得られた研磨液組成物を用いて、下記の研磨条件で下記研磨対象を２０分間研磨した。＜研磨対象＞２インチシリコン片面鏡面ウエハ（二段研磨終了後のもの、厚さ０．７ｍｍ）を４ｃｍ×４ｃｍに切断して使用＜研磨条件＞研磨機：片面研磨機ＭＡ-３００（武蔵野電子(株)製、プラテン直径３００ｍｍ）研磨パッド：SUPREME RN H（ＮｉｔｔａＨａａｓ製）回転盤回転数：９０ｒ／ｍｉｎ（線速度４５ｍ／ｍｉｎ）プラテン回転数：１６ｒ／ｍｉｎ研磨液組成物供給量：１５ｍｌ／ｍｉｎ（回転盤中心に供給）研磨荷重：１００ｇ／ｃｍ2 研磨時間：１５ｍｉｎ【００７０】上記研磨条件で研磨されたウエハを、ウエハジェット洗浄機ＷＪＳ－１５０Ｂ（エムテック（株）製）を用いて洗浄した後、乾燥させた。具体的には、イオン交換水を用いたスピンリンス（回転速度１５００ｒｐｍ、３０秒間）、イオン交換水を用いたスクラブリンス（回転速度１００ｒｐｍ、６０秒間）、イオン交換水を用いたスピンリンス（回転速度１５００ｒｐｍ、３０秒間）をこの順で行った後、スピン乾燥（回転速度３０００ｒｐｍ、３０秒間）を行った。【００７１】（３）評価方法＜研磨速度の評価＞実施例１～１９及び比較例１～４の研磨液組成物を用いたときの研磨速度は、以下の方法で評価した。まず、研磨前後の各シリコンウエハの重さを計り（Ｓａｒｔｏｒｉｕｓ社製「ＢＰ－２１０Ｓ」）を用いて測定し、得られた重量差をシリコンウエハの密度、面積および研磨時間で除して、単位時間当たりの片面研磨速度を求めた。なお、表１には、比較例１の研磨液組成物を用いた場合の片面研磨速度を「１.００」として、他の研磨液組成物を用いた場合の研磨速度を相対値で示した。【００７２】＜通液量の評価＞１．通液量の測定条件（１）吸引圧力設定手段：水循環式アスピレーター（「ＣＩＲＣＵＬＡＴＩＮＧＡＳＰＩＲＡＴＯＲＷＪ－１５」、柴田科学器械工業社製）を用い、アスピレーターと吸引濾過器との間（吸引濾過器から２０ｃｍ離れた位置）に圧力計を接続して、濾過中の圧力を－１００ｋＰａに調整した。（２）吸引濾過器：減圧濾過用フィルターホルダー（型番：ＫＧＳ－４７、アドバンテック東洋株式会社製）付の１Ｌ吸引瓶（３）フィルター：メンブランフィルター（「Ｈ０５０Ａ０４７Ａ」、アドバンテック東洋株式会社製）材質：親水性ＰＴＦＥ、孔径：０．５μｍ、厚さ：３５μｍ、ろ過面積：１７．３ｃｍ2（直径＝４７ｍｍ）（４）通液時間：１分（３００ｇの研磨液組成物を２秒間で上記フィルター上のファンネルに投入し終わった時点から１分）（５）通液量：通液１分後の吸引瓶中の研磨液組成物の重量（ｇ）をフィルターのろ過面積で除して求めた。」（イ）「【００７３】【表１】」オ甲Ｂ３には次の記載がある。（ア）「［請求項１］レーザーマークが付されたウェハーのレーザーマーク周辺部の隆起を解消するための研磨用組成物であって、該研磨用組成物は水溶性化合物とキレート剤と金属酸化物粒子とを含み、且つ７～１２のｐＨを有し、該水溶性化合物は疎水性部分と親水性部分とを有し、該親水性部分は、その末端もしくは側鎖にヒドロキシル基と、ヒドロキシアルキル基、アシルオキシ基、カルボン酸基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、又はスルホン酸塩基とを有し、該水溶性化合物は研磨用組成物中で５～７００ｐｐｍの含有量となる上記研磨用組成物。［請求項２］前記金属酸化物粒子が、５～１００ｎｍの平均一次粒子径を有するシリカ粒子、ジルコニア粒子、又はセリア粒子である請求項１に記載の研磨用組成物。［請求項３］前記水溶性化合物の疎水性部分は、グルコース構造、アルキレン基、アルキレンオキシド基、又はその繰り返し単位を有するものである請求項１に記載の研磨用組成物。［請求項４］前記水溶性化合物が、下記式（１）、式（２）、又は式（３）：［化１］（式中、ｎ１は１～５の整数、ｎ２は１００～１００００の整数、ｎ３は１～３０の整数、Ｒ１は－ＯＣＯＣＨ３基、－ＣＯＯＨ基、－ＣＯＯＭ基、－ＳＯ３Ｈ基、又は－ＳＯ３Ｍ基を示し、ＭはＮａ、Ｋ、又はＮＨ４を示し、式（３－１）の単位構造の数ｎ４と、式（３－２）の単位構造の数ｎ５との合計ｎ４＋ｎ５は１００～１００００の整数を示す。）の単位構造を有する化合物である請求項１ないし請求項３の何れか１項に記載の研磨用組成物。」（イ）「［００１９］本発明に用いられるシリカ粒子は、窒素吸着法から求められる平均一次粒子径が５～１００ｎｍのコロイダルシリカであることが好ましい。平均一次粒子径が５ｎｍより小さいと研磨速度が低くなる可能性があり、またシリカ粒子の凝集が起こりやすいために研磨液組成物の安定性が低くなる。平均一次粒子径が１００ｎｍより大きいとウェハー表面にスクラッチが発生しやすく、また研磨面の平坦性は悪くなる可能性がある。」（ウ）「［００３３］式（３）の単位構造を有する水溶性化合物、即ち式（３－１）及び式（３－２）の繰り返し単位（単位構造）を有する水溶性化合物はポリマーであって、変性ポリビニルアルコールである。式（３－２）において、Ｒ１はアセトキシ基、カルボン酸基（カルボキシル基）、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基である。カルボン酸、及びスルホン酸は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の水溶液で中和する事によりＮａ＋、Ｋ＋、ＮＨ４＋等の対イオンを導入する事ができる。アセトキシ基の導入はポリビニルアルコールに酢酸を反応させ、ヒドロキシル基の水素原子をアセチル基で置き換える事でアルキレン骨格にアセトキシ基を導入する事ができる。カルボン酸基やスルホン酸基は、アクリル酸、メタクリル酸、ビニルスルホン酸と、ビニルアルコールとを共重合させることで導入する事ができる。アクリル酸、メタクリル酸、ビニルスルホン酸と、ビニルアルコールとはブロック共重合でも、ランダム共重合でも可能である。また、アクリル酸、メタクリル酸、ビニルスルホン酸と、酢酸ビニルとを共重合させ、その後アセチル基の一部又は全部を加水分解させることで、カルボン酸基やスルホン酸基を導入した式（３）の単位構造を有する水溶性化合物を得る事ができる。ヒドロキシル基を有するアルキレン単位（式（３－１））と、Ｒ１のアセトキシ基、カルボン酸基（カルボキシル基）、カルボン酸塩基、スルホン酸基、又はスルホン酸塩基を有するアルキレン単位（式（３－２））とは、それらがブロック体でも、ランダム体でも存在するが、一般的にランダム共重合体を好ましく用いることができる。式（３）の変性ポリビニルアルコール中で式（３－１）の単位構造の数ｎ４と、式（３－２）の単位構造の数ｎ５との合計ｎ４＋ｎ５は１００～１００００の整数を示す事ができる。［００３４］ポリアルキレン骨格の側鎖のヒドロキシル基は、Ｒ１のアセトキシ基、カルボン酸基（カルボキシル基）、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基による変換により親水性を付与することができ、その一部又は全部を変換することが可能であるが、全体の５０モル％以上を変換する事が好ましい。［００３５］これらの水溶性化合物（ポリマー）はアセトキシ基導入ポリビニルアルコール（日本酢ビポバール（株）製、商品名ＪＰ－０３、平均分子量１万５千）、スルホン酸塩基導入ポリビニルアルコール（日本合成化学工業（株）、商品名Ｌ－３２６６、平均分子量２万）、カルボン酸塩基導入ポリビニルアルコール（日本合成化学工業（株）、商品名Ｔ－３３０、平均分子量１４万）が挙げられる。特にスルホン酸塩基導入ポリビニルアルコールとカルボン酸塩基導入ポリビニルアルコールが好ましい。」（エ）「実施例［００４３］市販のシリコンウェハーを以下の方法で研磨した。１）キレート剤と金属酸化物粒子とを含む組成物の調製窒素吸着法から求められる平均一次粒子径４０ｎｍのコロイダルシリカ（シリカゾルに基づくシリカ粒子）０．３３質量％と、塩基性化合物（アルカリ成分）として、水酸化アンモニウム２５ｐｐｍ、キレート剤として、エチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウム（試薬）１１０ｐｐｍ、各種添加剤を下記表１に示す割合で添加し、残部は水となるようなキレート剤と金属酸化物粒子とを含む組成物（Ａ）を製造した。組成物（Ａ）と同様に各成分の添加を行い、各組成物を作成した。上記組成物（Ａ）中において、平均一次粒子径４０ｎｍのコロイダルシリカ（シリカゾルに基づくシリカ粒子）の含有量（質量％）、塩基性物質の種類と含有量（ｐｐｍ）、キレート剤の種類と含有量（ｐｐｍ）を以下表１に示す割合に変更して同様に組成物（Ｂ）～（Ｊ）を作成した。表中、エチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウムはＥＤＴＡ、水酸化アンモニウムはＮＨ４ＯＨ、水酸化カリウムはＫＯＨ、水酸化エチルトリメチルアンモニウムはＥＴＭＡＨで示す。［００４４］［表１］［００４５］２）研磨条件研磨機：浜井産業社製両面研磨機１３ＢＦ荷重：１５０ｇ／ｃｍ2 上定盤回転数：７ｒｐｍ下定盤回転数：２０ｒｐｍ研磨パッド：発泡ポリウレタン製研磨パッド研磨希釈液の供給量：６．０Ｌ／分研磨時間：５分シリコンウェハー：直径２００ｍｍ、伝導型Ｐ型、結晶方位が＜１００＞、抗率が１００Ω・ｃｍ未満３）洗浄条件水洗浄を行った後、４０℃に加温したＳＣ１洗浄液（２９％アンモニア水：３０％過酸化水素水：水の重量比＝１：１：２８の洗浄液）で洗浄し、ウェハー表面の不純物を除去した。４）レーザーマーク高さの測定方法（株）ニコンインステック社製光干渉顕微鏡システムＢＷ－Ｍ７０００を用い、一定幅（５００μｍ）をスキャンして得られる粗さ曲線に対し、ウェハー表面の最も高い部分と最も低い部分の高さの差分を測定した。［００４６］＜実施例１＞上記組成物の調製で調製した組成物（Ａ）に、水溶性化合物としてヒドロキシエチルセルロース（平均分子量６０万、ダイセルファインケム（株）社製、商品名ＳＥ－４００）を添加量が研磨用組成物中に１００ｐｐｍとなるように加え、実施例１の研磨用組成物を製造した。該研摩用組成物を用いてシリコンウェハーを５分間研磨した。引き続きシリコンウェハーを洗浄し、レーザーマーク高さの測定を行った。研磨前のレーザーマーク周辺部の高さが１５１ｎｍであったものが、研磨後にレーザーマーク高さは０ｎｍとなり、良好な結果を得た。研磨速度は０．０６μｍ／分であった。［００４７］＜実施例２～２０、比較例１～５＞下記表２に示す様に、実施例１と同様に各組成物に水溶性化合物の添加を行い各実施例２～２０及び各比較例１～５の研磨用組成物を作成した。各実施例において使用した上記組成物の種類と、研磨用組成物中での水溶性化合物の種類と濃度（ｐｐｍ）を下表２に示した。実施例１～実施例２０、比較例１～５の研磨用組成物のｐＨは、使用した組成物（Ａ）～（Ｊ）のｐＨと同じであった。下表２では、ヒドロキシエチルセルロース（平均分子量６０万、ダイセルファインケム（株）社製、商品名ＳＥ－４００）を水溶性化合物（ａ）、ヒドロキシエチルセルロース（平均分子量１２０万、住友精化（株）製、商品名ＣＦ－Ｘ）を水溶性化合物（ｂ）、グリセリン（阪本薬品工業（株）社製、商品名精製グリセリン）を水溶性化合物（ｃ）、ポリグリセリン（平均分子量７５０、阪本薬品工業（株）社製、商品名ポリグリセリン♯７５０）を水溶性化合物（ｄ）、スルホン酸基変性ポリビニルアルコール（平均分子量２万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｌ－３２６６）を水溶性化合物（ｅ）、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）を水溶性化合物（ｆ）、変性ポリグリセリン（阪本薬品工業（株）社製、ポリオキシエチレンポリグリセリルエーテル、商品名ＳＣ－Ｅ１５００、ポリグリセリンのヒドロキシル基の水素原子を、ヒドロキシエチル基に変換した。）を水溶性化合物（ｇ）、変性ポリグリセリン（阪本薬品工業（株）社製、カプリル酸エステル、商品名ＭＣＡ７５０、ポリグリセリンのヒドロキシル基とカプリル酸とを反応させた。）を水溶性化合物（ｈ）、変性ポリグリセリン（阪本薬品工業（株）社製、ポリオキシプロピレンポリグリセリルエーテル、商品名ＳＣ－Ｅ１６００、ポリグリセリンのヒドロキシル基の水素原子を、１－メチルヒドロキシエチル基に変換した。）を水溶性化合物（ｉ）、ポリビニルアルコール（平均分子量３５００、試薬）を水溶性化合物（ｊ）とした。［００４８］［表２］［００４９］各実施例において、研磨試験の条件と研磨試験結果を下表３に示す。［表３］［００５０］研磨速度の値はシリコンウェハーの研磨速度を求めたものであるが、シリコンウェハー上での研磨速度の大小はレーザーマーク周辺部の隆起の解消（研磨）に必ずしも関連するものではない。レーザーマーク周辺部の隆起部分が水溶性化合物の親水性部分とのコンタクトにより、効率的に研磨成分と接触でき、その隆起部分が研磨されたものと考えられる。これはシリコンウェハー用の公知の研磨用組成物からは、レーザーマーク周辺部の隆起を解消する研磨用組成物を予期できないことを示すものである。」（２）４％水溶液粘度についての技術常識が示された甲号証の記載事項ア甲Ａ２には次の記載がある。（ア）１３７頁１～１３行（空行は除く）「１．市販ポバールの種類・・・当社の場合を例にとると，表１のように，基幹銘柄のみで十数銘柄，細かく分類すると１００銘柄以上になっている。ポバールの基本的な性質は重合度と鹸化度によって支配される。図１に世界中のポバールの主要メーカーであるDu Pont，Hoechst，Airco，Shawinigan，Wacker，Rhone，Poulenc，Borden，Revertex，日本合成，各社の市販ポバールを当社のものと比較して，鹸化度と重合度(4%水溶液粘度）に関して整理したものを示した。」（イ）１３７頁１４～１３９頁１行「市場に出廻っているポバールの種類は非常に多いが，図１のように鹸化度，重合度別に分類してみると，十数種類にグループ分けされる。先ず鹸化度についてみると，鹸化度98％以上の完全鹸化ポパールと称せられるグループと，鹸化度８７～８９％の一般に部分鹸化ポパールと呼ばれるグループに大別され，部分鹸化ボパールには鹸化度８０％程度のサプグループがある。一方，重合度について４％水溶液粘度（20℃）をベースにしてみると，5 cps程度の低重合度グループと20～30cpsの中重合度グループと，高重合度グループとしては40～50cpsのものが主体をなし，一部に60cps程度のサブグループがある。中重合度と低重合度グループの中間に10～20cspのサブグループが一部ある。重合度で示すと，５００，１７００，２０００程度の主グループと，１０００，２４００のサブグループに分類される。以上のように大別すると市販ポバールの銘柄は３種類の鹸化度と４～５種類の重合度のものに集約される。」（ウ）１３８頁表１「」（エ）１３９頁図１「」イ甲Ａ３には次の記載がある。（ア）一般銘柄のタブ「」（イ）２頁左欄「＜クラレポバール＞の品質規格と用途銘柄の始めの数字はけん化度の分類を表し、次の二つの数字に１００を掛けたものが重合度の目安を表します。（例）ＰＶＡ－１１７初めの数字１…けん化度（約９８．０％～９９．０mol％）１７×１００＝１７００…重合度ＰＶＡ－２０５初めの数字２…けん化度（約８７．０～８９．０mol％）０５×１００＝５００…重合度」ウ甲Ｂ４の記載事項（ア）１２頁「ＩＩ．「クラレポバール」一般銘柄の品質規格と用途」（イ）１４頁「」（ウ）１８頁「ＩＩＩ－１．「クラレポバール」変性銘柄の品質規格と用途ポバールは共重合などにより、さまざまな改良・改質がされています。次に「クラレポバール」変性銘柄の紹介をします。」（エ）２３頁「ＩＶ－３．旧銘柄名との対比一覧表」エ甲Ｂ６の記載事項（ア）「【００６４】－立体造形用粉末材料１の調製－－－コート液１の調製－－表１に示すように、前記有機材料（表１において「Ｎｏ．１」）として水溶性樹脂である無変性の部分けん化ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製、ＰＶＡ－２０５Ｃ、平均重合度５００、けん化度８８．０ｍｏｌ％）６質量部に、水１１４質量部を混合し、ウォーターバス中で８０℃に加熱しながら、スリーワンモーター（新東科学株式会社製、ＢＬ６００）を用いて１時間攪拌し、前記ポリビニルアルコールを前記水に溶解させ、５質量％のポリビニルアルコール水溶液１２０質量部を調製した。こうして得られた調製液をコート液１とした。なお、前記ポリビニルアルコールの４質量％（ｗ／ｗ％）水溶液の２０℃における粘度を粘度計（ブルックフィールド社製回転粘度計、ＤＶ－ＥＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲＨＡＤＶＥ１１５型）を用いて測定したところ、表１に示すとおり、５．０ｍＰａ・ｓ～６．０ｍＰａ・ｓであった。」（イ）「【００８７】（実施例１１）実施例１０において、水溶性樹脂をカルボキシル基変性ポリビニルアルコール（ゴーセネックスＴ－３３０、日本合成化学工業株式会社製）に変更した以外は、実施例１０と同様にして、立体造形物１１を製造し、実施例１と同様の評価を行った。結果を表２に示した。」（ウ）「【０１０１】【表１】（当審注：一部のみを示した）」オ甲Ｂ７には次の記載がある。（ア）ウェブページ冒頭「特殊銘柄アニオン性ＰＶＯＨＴシリーズゴーセネックスＴＭＴシリーズ分子内にカルボキシル基を有するアニオン性の特殊変性ＰＶＯＨです。」（イ）ゴーセネックスＴＭＴの品質と規格の項「ゴーセネックスＴＭＴの品質と規格」（３）甲Ａ１を主引用例とする検討ア甲Ａ１発明の認定（ア）前記（１）ア（ウ）に摘記した甲Ａ１の段落［０１２８］の［表１］中のスラリーＫの欄に注目すると、水溶性高分子として、Ｍｗが１０．５６×１０４のＰＶＡを０．００２５０ｗｔ％、Ｍｗが４．５×１０４のＰＶＰを０．００１２５ｗｔ％含有し、さらに、砥粒を０．２２５ｗｔ％、塩基化合物としてＫＯＨを０．０１１ｗｔ％、界面活性剤としてＣ１０ＰＥＯ５を０．００００７５ｗｔ％含有するスラリーＫが読み取れる。（イ）前記（１）ア（ウ）に摘記した甲Ａ１の段落［０１２４］には、前記スラリーＫのＰＶＡのけん化度は９８モル％以上であり、砥粒がコロイダルシリカ（ＢＥＴ径３５ｎｍ）であり、Ｃ１０ＰＥＯ５は、ポリオキシエチレンデシルエーテルであると記載されている。（ウ）また、前記（１）ア（イ）に摘記した甲Ａ１の段落［００２３］からスラリーＫは、シリコン基板を研磨するためのスラリーであることが読み取れる。（エ）以上から、甲Ａ１には次の発明（以下「甲Ａ１発明」という。）が記載されていると認定できる。「水溶性高分子として、Ｍｗが１０．５６×１０４、けん化度が９８％モル以上のＰＶＡ（ポリビニルアルコール）を０．００２５０ｗｔ％、ＰＶＰ（ポリビニルピロリドン）を０．００１２５ｗｔ％含有し、さらに、砥粒としてコロイダルシリカ（ＢＥＴ径３５ｎｍ）を０．２２５ｗｔ％を含有し、塩基化合物としてＫＯＨを０．０１１ｗｔ％含有し、界面活性剤としてポリオキシエチレンデシルエーテルを０．００００７５ｗｔ％含有するシリコン基板の研磨用スラリー。」イ本件発明１との対比・判断（ア）対比甲Ａ１発明の「ポリビニルアルコール」は、本件発明１の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。また、甲Ａ１発明に係る「研磨用スラリー」について、甲Ａ１発明には「酸化セリウム」が含まれないから、本件発明１の「研磨用組成物（ただし、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く）」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明１と甲Ａ１発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物（ただし、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く）」である点。（ウ）相違点Ａ１－１本件発明１と甲Ａ１発明との相違点（以下「相違点Ａ１－１」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明１においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ１発明においては、「Ｍｗが１０．５６×１０４、けん化度が９８モル％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。（エ）相違点についての検討ａ甲Ａ１発明のポリビニルアルコールの分子量は、１０５６００ダルトンであって、ポリビニルアルコールの繰り返し単位（－ＣＨ２ＣＨＯＨ－）のダルトン数４４を考慮すると、甲Ａ１発明のポリビニルアルコールの重合度は、２４００となる。ｂここで、前記（２）ア（イ）に摘記した甲Ａ２の記載を参照する。「重合度について４％水溶液粘度（20℃）をベースにしてみると，5cps程度の低重合度グループと20～30cpsの中重合度グループと，高重合度グループとしては40～50cpsのものが主体をなし，一部に60cps程度のサブグループがある。」及び「重合度で示すと，５００，１７００，２０００程度の主グループと，１０００，２４００のサブグループに分類される。」という２つの記載を対比すると、重合度が２４００の場合には、２０℃における４％水溶液粘度が６０cps（センチポイズ）となることが理解できる。ｃそうすると、甲Ａ１発明のポリビニルアルコールの２０℃における４％粘度は、６０cps＝６０ｍＰａ・ｓ程度と推認できる。ｄよって、本件発明１における「１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」という特定は、当業者が容易になし得ることである。（オ）したがって、本件発明１は、甲Ａ１発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。ウ本件発明２との対比・判断（ア）対比甲Ａ１発明の「ポリビニルアルコール」は、本件発明２の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。また、甲Ａ１発明に係る「研磨用スラリー」は、本件発明２の「研磨用組成物」に相当する。そして、甲Ａ１発明の「シリコン基板」は、単結晶のシリコンインゴットをスライスして得られるものであることは技術常識であるから、甲Ａ１発明の「シリコン基板の研磨用スラリー」は、本件発明２の「単結晶シリコン基板の研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明２と甲Ａ１発明の一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む単結晶シリコン基板の研磨用組成物」である点。（ウ）相違点Ａ１－２本件発明２と甲Ａ１発明との相違点（以下「相違点Ａ１－２」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明２においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ１発明においては、「Ｍｗが１０．５６×１０４、けん化度が９８モル％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ａ１－２は、相違点Ａ１－１と同じであるから、前記イ（エ）の検討と同様に、本件発明２は、甲Ａ１発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の記載により特許を受けることができない発明である。エ本件発明３との対比・判断（ア）対比甲Ａ１発明の「ポリビニルアルコール」は、本件発明３の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。また、甲Ａ１発明に係る「研磨用スラリー」は、本件発明３の「研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明３と甲Ａ１発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物」である点。（ウ）相違点Ａ１－３本件発明３と甲Ａ１発明との相違点（以下「相違点Ａ１－３」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明３においては「２０℃における４％水溶液粘度が６０ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ１発明においては、「Ｍｗが１０．５６×１０４、けん化度が９８モル％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。（エ）相違点についての検討ａ甲Ａ１発明のポリビニルアルコールの分子量は、１０５６００ダルトンであって、ポリビニルアルコールの繰り返し単位（－ＣＨ２ＣＨＯＨ－）のダルトン数４４を考慮すると、甲Ａ１発明のポリビニルアルコールの重合度は、２４００となる。ｂここで、前記（２）ア（イ）に摘記した甲Ａ２の記載を参照する。「重合度について４％水溶液粘度（20℃）をベースにしてみると，5cps程度の低重合度グループと20～30cpsの中重合度グループと，高重合度グループとしては40～50cpsのものが主体をなし，一部に60cps程度のサブグループがある。」及び「重合度で示すと，５００，１７００，２０００程度の主グループと，１０００，２４００のサブグループに分類される。」という２つの記載を対比すると、重合度が２４００の場合には、２０℃における４％水溶液粘度が６０cps（センチポイズ）となることが理解できる。ｃそうすると、甲Ａ１発明のポリビニルアルコールの２０℃における４％水溶液粘度は、６０cps＝６０ｍＰａ・ｓ程度と推認できる。ｄここで、前記（２）ア（ウ）に摘記した甲Ａ２の表１によると、けん化度９８モル％以上かつ粘度６０cpsを充足するポバールの銘柄は、ＰＶＡ１２４であって、甲Ａ１発明におけるポリビニルアルコールとして、ＰＶＡ１２４を採用することは当業者が容易になし得ることである。ｅその場合の粘度は、甲Ａ２によると５５．０～６７．０ｃｐｓであり、甲Ａ３によると５４．０～６６．０ｍＰａ・ｓであり、甲Ｂ４の２３頁によるとＰＶＡ１２４は、新銘柄が「６０－９８」とされ、同１２頁の表によると５４．０～６６．０ｍＰａ・ｓとされており、いずれの情報によっても６０ｍＰａ・ｓ以上である蓋然性が高いものである。ｆそうすると、本件発明３における「６０ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」という特定は、当業者が容易になし得ることである。（オ）したがって、本件発明３は、甲Ａ１発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。オ本件発明４～１４との対比・判断本件発明４～１４において特定された事項は、いずれも甲Ａ１発明も有しており新たな相違点は生じないから、本件発明１～３と同様に本件発明４～１４は、甲Ａ１発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。カ本件発明１５～１６との対比・判断本件発明１５、１６に係る研磨物の製造方法は、甲Ａ１発明にかかる研磨用スラリーを、前記（１）ア（イ）に摘記した甲Ａ１の段落［０１０４］［０１０５］の示唆にしたがって、研磨に用いることにより当業者が容易に想到できることである。（４）甲Ａ４を主引用例とする検討ア甲Ａ４発明の認定（ア）前記（１）イ（ウ）に摘記した甲Ａ４の段落【００５０】、【００５１】及び【００５７】の【表２】中の試験例８に注目すると、「成分（Ａ）としてブロック形ポリエーテルを０．０５質量％、成分（Ｂ）としてコロイダルシリカを１０質量％、成分（Ｃ）として塩基性成分としてのアンモニア（アンモニア２９質量％水溶液）を１．０質量％、成分（Ｄ）としてＨＥＣ及びＰＶＡの混合物を用い、その混合物中のＰＶＡの数平均分子量が１０５，０００及びけん化度９８％であり、研磨用組成物中のＰＶＡの含有量が０．２質量％であり、（Ｅ）成分として水を１００質量％となるまで含有する研磨用組成物」が記載されていると認められる。（イ）そして、同甲Ａ４の段落【００５２】から、この研磨用組成物は、シリコンウエハを研磨する用途に用いるものであることが読み取れる。（ウ）甲Ａ４発明そうすると、甲Ａ４から次の発明（以下「甲Ａ４発明」という。）が読み取れる。「成分（Ａ）としてブロック形ポリエーテルを０．０５質量％、成分（Ｂ）としてコロイダルシリカ（ＤN4＝７０ｎｍ）を１０質量％、成分（Ｃ）として塩基性化合物としてのアンモニア（アンモニア２９質量％水溶液）を１．０質量％、成分（Ｄ）としてＨＥＣ及びＰＶＡの混合物を用い、その混合物中のＰＶＡの数平均分子量が１０５，０００及びけん化度９８％であり、研磨用組成物中のＰＶＡの含有量が０．２質量％であり、（Ｅ）成分として水を１００質量％となるまで含有するシリコンウエハ研磨用組成物」イ本件発明１との対比・判断（ア）対比甲Ａ４発明の「ＰＶＡ」は、本件発明１の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。また、甲Ａ４発明に係る「研磨用組成物」について、甲Ａ４発明には「酸化セリウム」が含まれないから、本件発明１の「研磨用組成物（ただし、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く）」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明１と甲Ａ４発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物（ただし、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く）」である点。（ウ）相違点Ａ４－１本件発明１と甲Ａ４発明との相違点（以下「相違点Ａ４－１」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明１においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ４発明においては、「数平均分子量が１０５，０００、けん化度が９８％のポリビニルアルコール」と特定されている点。（エ）相違点についての検討ａ甲Ａ４発明のＰＶＡの分子量は、１０５０００ダルトンであって、ポリビニルアルコールの繰り返し単位（－ＣＨ２ＣＨＯＨ－）のダルトン数４４を考慮すると、甲Ａ４発明のポリビニルアルコールの重合度は、２３８６となる。ｂ甲Ａ４発明における重合度２３８６は、甲Ａ１発明における重合度２４００ときわめて近いから、前記（３）イ（エ）における検討と同様に、甲Ａ４発明におけるＰＶＡの２０℃における４％水溶液粘度は６０ｍＰａ・ｓ程度と認められる。ｃそうすると、本件発明１における「１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」という特定は、当業者が容易になし得ることである。（オ）したがって、本件発明１は、甲Ａ４発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。ウ本件発明２との対比・判断（ア）対比甲Ａ４発明の「ＰＶＡ」は、本件発明２の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。そして、甲Ａ４発明の「シリコンウエハ」は、単結晶のシリコンインゴットをスライスして得られるものであることは技術常識であるから、甲Ａ４発明の「シリコンウエハ研磨用組成物」は、本件発明２の「単結晶シリコン基板の研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明２と甲Ａ４発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む単結晶シリコン基板の研磨用組成物」である点。（ウ）相違点Ａ４－２本件発明２と甲Ａ４発明との相違点（以下「相違点Ａ４－２」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明２においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ４発明においては、「数平均分子量が１０５，０００、けん化度が９８％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ａ４－２は、相違点Ａ４－１と同じであるから、前記イ（エ）の検討と同様に、本件発明２は、甲Ａ４発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の記載により特許を受けることができない発明である。エ本件発明３との対比・判断（ア）対比甲Ａ４発明の「ＰＶＡ」は、本件発明３の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。また、甲Ａ４発明に係る「シリコンウエハ研磨用組成物」は、本件発明３の「研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明３と甲Ａ４発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物」である点。（ウ）相違点Ａ４－３本件発明３と甲Ａ４発明との相違点（以下「相違点Ａ４－３」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明３においては「２０℃における４％水溶液粘度が６０ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ４発明においては、「数平均分子量が１０５，０００、けん化度が９８％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。（エ）相違点についての検討ａ甲Ａ４発明のＰＶＡの分子量は、１０５０００ダルトンであって、ポリビニルアルコールの繰り返し単位（－ＣＨ２ＣＨＯＨ－）のダルトン数４４を考慮すると、甲Ａ４発明のポリビニルアルコールの重合度は、２３８６となる。ｂ前記（３）ア（エ）ａにおいて検討したように、甲Ａ１発明における重合度は２４００であるが、甲Ａ４発明における重合度とは微差であるから、前記（３）ア（エ）～（オ）における検討と同様に、本件発明３は甲Ａ４発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。オ本件発明４～１４との対比・判断本件発明４～１４において特定された事項は、いずれも甲Ａ４発明も有しており、新たな相違点は生じないから、本件発明１～３と同様に本件発明４～１４は、甲Ａ４発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。カ本件発明１５～１６との対比・判断本件発明１５、１６に係る研磨物の製造方法は、甲Ａ４発明に係る研磨用組成物を、前記（１）イ（イ）に摘記した甲Ａ４の段落【００４３】の「実際の研磨工程時に希釈して使用することもできる。前記各成分の含有量は、容易に貯蔵又は輸送等できるように予め比較的高濃度な研磨用組成物を調製する場合について記載したものであり、通常、使用時に成分（Ｅ）と同等の水で希釈して使用される。」という示唆にしたがって、研磨に用いることにより当業者が容易に想到できることである。（５）甲Ａ５を主引用例とする検討ア甲Ａ５発明の認定（ア）前記（１）ウ（エ）に摘記した甲Ａ５の段落［０１０２］に記載された実施例５に注目すると、「コロイダルシリカ（ＢＥＴ径２５ｎｍ）を０．０８８質量％、Ｍｗが４００のポリオキシエチレンデシルエーテルを０．０００６質量％、アンモニアを０．００６質量％、Ｍｗが２５×１０４のＨＥＣを０．００７５質量％、Ｍｗが１０６０００のポリビニルアルコール（ＰＶＡ、けん化度９５％以上）を０．００４質量％含有する研磨用組成物」が記載されていることが読み取れ、残部がイオン交換水であることも読み取れる。（イ）前記（１）ウ（ア）に摘記した甲Ａ５の請求項９の記載から、研磨用組成物は、シリコンウエハを研磨する用途であることが読み取れる。（ウ）そうすると、甲Ａ５から次の発明（以下「甲Ａ５発明」という。）が読み取れる。「コロイダルシリカ（ＢＥＴ径２５ｎｍ）を０．０８８質量％、Ｍｗが４００のポリオキシエチレンデシルエーテルを０．０００６質量％、アンモニアを０．００６質量％、Ｍｗが２５×１０４のＨＥＣを０．００７５質量％、Ｍｗが１０６０００のポリビニルアルコール（ＰＶＡ、けん化度９５％以上）を０．００４質量％含有し、残部がイオン交換水からなるシリコンウエハ研磨用組成物」イ本件発明１との対比・判断（ア）対比甲Ａ５発明の「ポリビニルアルコール」は、本件発明１の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。また、甲Ａ５発明に係る「研磨用組成物」について、甲Ａ５発明には「酸化セリウム」が含まれないから、本件発明１の「研磨用組成物（ただし、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く）」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明１と甲Ａ５発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物（ただし、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く）」である点。（ウ）相違点Ａ５－１本件発明１と甲Ａ５発明との相違点（以下「相違点Ａ５－１」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明１においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ５発明においては、「Ｍｗが１０６０００、けん化度が９５％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。（エ）相違点についての検討ａ甲Ａ５発明のポリビニルアルコールのＭｗは、１０６０００ダルトンであって、ポリビニルアルコールの繰り返し単位（－ＣＨ２ＣＨＯＨ－）のダルトン数４４を考慮すると、甲Ａ５発明のポリビニルアルコールの重合度は、２４０９となる。ｂ甲Ａ５発明における重合度２４０９は、甲Ａ１発明における重合度２４００ときわめて近いから、前記（３）イ（エ）における検討と同様に、甲Ａ５発明におけるＰＶＡの２０℃における４％水溶液粘度は６０ｍＰａ・ｓ程度と認められる。ｃそうすると、本件発明１における「１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」という特定は、当業者が容易になし得ることである。（オ）したがって、本件発明１は、甲Ａ５発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。ウ本件発明２との対比・判断（ア）対比甲Ａ５発明の「ポリビニルアルコール」は、本件発明２の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。そして、甲Ａ５発明の「シリコンウエハ」は、単結晶のシリコンインゴットをスライスして得られるものであることは技術常識であるから、甲Ａ５発明の「シリコンウエハ研磨用組成物」は、本件発明２の「単結晶シリコン基板の研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明２と甲Ａ５発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む単結晶シリコン基板の研磨用組成物」である点。（ウ）相違点Ａ５－２本件発明２と甲Ａ５発明との相違点（以下「相違点Ａ５－２」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明２においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ５発明においては、「Ｍｗが１０６０００、けん化度が９５％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ａ５－２は、相違点Ａ５－１と同じであるから、前記イ（エ）における検討と同様であり、相違点Ａ５－２に係る本件発明２の構成は当業者が容易に想到しうることである。（オ）したがって、本件発明２は、甲Ａ５発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。エ本件発明３との対比・判断（ア）対比甲Ａ５発明の「ポリビニルアルコール」は、本件発明３の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。そして、甲Ａ５発明の「シリコンウエハ研磨用組成物」は、本件発明３の「研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明３と甲Ａ５発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物」である点。（ウ）相違点Ａ５－３本件発明３と甲Ａ５発明との相違点（以下「相違点Ａ５－３」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明３においては「２０℃における４％水溶液粘度が６０ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ５発明においては、「Ｍｗが１０６０００、けん化度が９５％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。（エ）相違点についての検討ａ甲Ａ５発明のポリビニルアルコールのＭｗは、１０６０００ダルトンであって、ポリビニルアルコールの繰り返し単位（－ＣＨ２ＣＨＯＨ－）のダルトン数４４を考慮すると、甲Ａ５発明のポリビニルアルコールの重合度は、２４０９となる。ｂ前記（３）ア（エ）ａにおいて検討したように、甲Ａ１発明における重合度は２４００であるが、甲Ａ５発明における重合度とは微差であるから、前記（３）ア（エ）～（オ）における検討と同様に、本件発明３は甲Ａ５発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。オ本件発明４～１４との対比・判断本件発明４～１４において特定された事項は、いずれも甲Ａ５発明も有しており、新たな相違点は生じないから、本件発明１～３と同様に本件発明４～１４は、甲Ａ５発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。カ本件発明１５、１６との対比・判断本件発明１５、１６に係る研磨物の製造方法は、甲Ａ５発明に係る研磨用組成物を、前記（１）ウ（ウ）に摘記した甲Ａ５の段落［００８８］の「ここに開示される研磨用組成物は、研磨対象物に供給される前には濃縮された形態であってもよい。上記濃縮された形態とは、研磨液の濃縮液の形態であり、研磨液の原液としても把握され得る。このように濃縮された形態の研磨用組成物は、製造、流通、保存等の際における利便性やコスト低減等の観点から有利である。」という示唆にしたがって、研磨に用いることにより当業者が容易に想到できることである。（６）甲Ｂ１を主引用例とする検討ア甲Ｂ１発明の認定（ア）対比前記（１）エ（イ）に摘記した甲Ｂ１の段落【００７３】の【表１】に記載された比較例２に注目し、前記（１）エ（ア）に摘記した甲Ｂ１の段落【００６８】の調製方法を参照すると、当該比較例２は、「コロイダルシリカ２（脚注から平均一次粒子径３８ｎｍ）を１．０重量％、分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコール（脚注からＰＶＡ－１２４、クラレ製）を０．００５重量％、２８％アンモニア水を０．４重量％を含有し、残部が水である研磨用組成物」であると読み取れる。（イ）前記（１）エ（イ）に摘記した甲Ｂ１の段落【００６９】の記載から、前記（ア）の研磨用組成物は、シリコンウエハを研磨するためのものと認められる。（ウ）そうすると、甲Ｂ１から次の発明（以下「甲Ｂ１発明」という。）が読み取れる。「コロイダルシリカ２（平均一次粒子径３８ｎｍ）を１．０重量％、分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコールＰＶＡ－１２４を０．００５重量％、２８％アンモニア水を０．４重量％を含有し、残部が水であるシリコンウエハ研磨用組成物」イ本件発明１との対比・判断（ア）対比甲Ｂ１発明における「分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコールＰＶＡ－１２４」は、本件発明１の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。また、甲Ｂ１発明の「シリコンウエハ研磨用組成物」は、本件発明１の「研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明１と甲Ｂ１発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物（ただし、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く）」である点。（ウ）相違点Ｂ１－１本件発明１と甲Ｂ１発明との相違点（以下「相違点Ｂ１－１」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明１においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ｂ１発明においては、「分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコールＰＶＡ－１２４」と特定されている点。（エ）相違点についての検討ａＰＶＡ－１２４の２０℃における４％水溶液粘度については、前記（２）ア（ウ）に摘記した甲Ａ２の表１によると、５５．０～６７．０ｃｐｓ（＝ｍＰａ・ｓ）である。ｂＰＶＡ－１２４の２０℃における４％水溶液粘度については、前記（２）イ（ア）に摘記した甲Ａ３のグレード表によれば、５４．０～６６．０ｍＰａ・ｓであると認められる。ｃＰＶＡ－１２４は、前記（２）ウ（エ）に摘記した甲Ｂ４の表によると、その新銘柄は、「６０－９８」であると認められ、同（ア）に摘記した甲Ｂ４の表によると、４％２０℃粘度が、５４．０～６６．０ｍＰａ・ｓとされている。（オ）いずれにせよ、その粘度は、本件発明１の「１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」の範囲内であるから、相違点Ｂ１－１は実質的な相違点ではなく、本件発明１は甲Ｂ１発明であるから、特許法第29条第1項第3号に規定する発明に該当し、特許を受けることができない。また、本件発明１は甲Ｂ１発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。ウ本件発明２との対比・判断（ア）対比甲Ｂ１発明の「分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコールＰＶＡ－１２４」は、本件発明２の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。そして、甲Ｂ１発明の「シリコンウエハ」は、単結晶のシリコンインゴットをスライスして得られるものであることは技術常識であるから、甲Ｂ１発明の「シリコンウエハ研磨用組成物」は、本件発明２の「単結晶シリコン基板の研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明２と甲Ｂ１発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む単結晶シリコン基板の研磨用組成物」である点。（ウ）相違点Ｂ１－２本件発明２と甲Ｂ１発明との相違点（以下「相違点Ｂ１－２」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明２においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ｂ１発明においては、「分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコールＰＶＡ－１２４」と特定されている点。（エ）上記イ（エ）における検討と同様に、相違点Ｂ１－２は実質的な相違点ではない。したがって、本件発明２は、甲Ｂ１発明であるから、特許法第29条第1項第3号に規定される発明に該当し、特許を受けることができない。また、本件発明２は甲Ｂ１発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。エ本件発明３との対比・判断（ア）対比甲Ｂ１発明の「分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコールＰＶＡ－１２４」は、本件発明３の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。また、甲Ｂ１発明の「シリコンウエハ研磨用組成物」は、本件発明３の「研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明３と甲Ｂ１発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物」である点。（ウ）相違点Ｂ１－３本件発明３と甲Ｂ１発明との相違点（以下「相違点Ｂ１－３」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明３においては「２０℃における４％水溶液粘度が６０ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ｂ１発明においては、「分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコールＰＶＡ－１２４」と特定されている点。（エ）相違点についての検討ＰＶＡ－１２４の２０℃における４％水溶液粘度については、前記（２）ア（ウ）に摘記した甲Ａ２の表１によると、５５．０～６７．０ｃｐｓ（＝ｍＰａ・ｓ）、前記（２）イ（ア）に摘記した甲Ａ３のグレード表及び前記（２）ウ（ア）に摘記した甲Ｂ４の品質規格によれば、５４．０～６６．０ｍＰａ・ｓであると認められる。（オ）そして、それらの中央値は、甲Ａ２では、６１ｍＰａ・ｓであり、甲Ａ３及び甲Ｂ４では、６０ｍＰａ・ｓであって、いずれも本件発明３の下限値である６０ｍＰａ・ｓ又はそれを超えているから、甲Ｂ１発明を複数回追試すれば、必然的に本件発明３の特定事項を満たすことになる。（カ）したがって、相違点Ｂ１－３は実質的な相違点ではなく、本件発明３は甲Ｂ１発明であるから、特許法第29条第1項第3号に規定する発明に該当し、特許を受けることができない。また、本件発明３は甲Ｂ１発明及び周知の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。オ本件発明４～１４との対比・判断本件発明４～１４において特定された事項は、いずれも甲Ｂ１発明も有しているか、本願出願時周知の技術であるから、本件発明１～３と同様に本件発明４～１４は、甲Ｂ１発明であるか、甲Ｂ１発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第1項第3号の発明に該当するか、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。カ本件発明１５、１６との対比・判断本件発明１５、１６に係る研磨物の製造方法は、甲Ｂ１発明に係る研磨用組成物を、前記（１）エ（ア）に摘記した甲Ｂ１の段落【００５０】の「なお、上記において説明した各成分の含有量は、使用時における含有量であるが、本実施形態の研磨液組成物は、その安定性が損なわれない範囲で濃縮された状態で保存および供給されてもよい。この場合、製造および輸送コストをさらに低くできる点で好ましい。濃縮液は、必要に応じて前述の水系媒体で適宜希釈して使用すればよい。」という示唆にしたがって、研磨に用いることにより当業者が容易に想到できることである。（７）甲Ｂ３を主引用例とする検討ア甲Ｂ３発明の認定（ア）前記（１）オ（エ）に摘記した甲Ｂ３の段落［００４８］の［表２］から、実施例９として、組成物（Ａ）及び水溶性化合物として（ｆ）を１００ｐｐｍ用いる例が読み取れる。（イ）ここで、組成物（Ａ）は、前記（１）オ（エ）に摘記した甲Ｂ３の段落［００４３］の記載から「コロイダルシリカ（平均一次粒子径４０ｎｍ）０．３３質量％と水酸化アンモニウム２５ｐｐｍとエチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウム１１０ｐｐｍと残部が水である組成物であると認められる。（ウ）一方、水溶性化合物（ｆ）は、同段落［００４７］に「下表２では、・・・カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）を水溶性化合物（ｆ）」と記載されており、当該実施例９に用いられる組成物が、組成物（Ａ）に水溶性化合物（ｆ）を添加したものであることが読み取れる。（エ）前記（１）オ（エ）に摘記した段落［００４３］の「シリコンウエハーを・・研磨した」との記載から、前記組成物がシリコンウエハ研磨用組成物であることがわかる。（オ）そうすると、甲Ｂ３から次の発明（以下「甲Ｂ３発明」という。）が把握できることになる。「コロイダルシリカ（平均一次粒子径４０ｎｍ）０．３３質量％と水酸化アンモニウム２５ｐｐｍとエチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウム１１０ｐｐｍとカルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）１００ｐｐｍを含有し、残部が水であるシリコンウエハ研磨用組成物」イ本件発明１との対比・判断（ア）対比甲Ｂ３発明の「カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）」は、本件発明１の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。また、甲Ｂ３発明に係る「研磨用組成物」について、甲Ｂ３発明には「酸化セリウム」が含まれないから、本件発明１の「研磨用組成物（ただし、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く）」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明１と甲Ｂ３発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む研磨用組成物（ただし、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物を除く）」である点。（ウ）相違点Ｂ３－１本件発明１と甲Ｂ３発明との相違点（以下「相違点Ｂ３－１」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明１においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ｂ３発明においては、「カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）」と特定されている点。（エ）相違点についての検討ａ甲Ｂ３発明における「カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）」は、前記（２）エ（イ）に摘記した甲Ｂ６の段落【００８７】に記載された「（実施例１１）・・・水溶性樹脂をカルボキシル基変性ポリビニルアルコール（ゴーセネックスＴ－３３０、日本合成化学工業株式会社製）に変更・・・」の水溶性樹脂と同じであると認められ、前記（２）エ（ウ）に摘記した甲Ｂ６の段落【０１０１】の【表１】の実施例１１の行における粘度は、２７．０～３３．０ｍＰａ・ｓとされている。ｂ甲Ｂ３発明における「カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）」は、前記（２）オ（イ）における表にＴ－３３０と表記されたゴーセネックスＴ－３３０と同じであると認められ、その２０℃４％水溶液粘度は、２７．０～３３．０ｍＰａ・ｓとされている。（オ）前記のように甲Ｂ３発明のカルボキシル基変性ポリビニルアルコールの２０℃４％水溶液粘度は、本件発明１の「１５～３０００ｍＰａ・ｓ」の範囲内であるから、相違点Ｂ３－１は実質的な相違点ではなく、本件発明１は甲Ｂ３発明であるから、特許法第29条第1項第3号に規定する発明に該当し、特許を受けることができない。また、本件発明１は甲Ｂ３発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。ウ本件発明２との対比・判断（ア）対比甲Ｂ３発明の「カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）」は、本件発明２の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当する。そして、甲Ｂ３発明の「シリコンウエハ」は、単結晶のシリコンインゴットをスライスして得られるものであることは技術常識であるから、甲Ｂ３発明の「シリコンウエハ研磨用組成物」は、本件発明２の「単結晶シリコン基板の研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点そうすると、本件発明２と甲Ｂ３発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子を含む研磨用組成物であって、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含む単結晶シリコン基板の研磨用組成物」である点。（ウ）相違点Ｂ３－２本件発明２と甲Ｂ３発明との相違点（以下「相違点Ｂ３－２」という。）は、次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明２においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ｂ３発明においては、「カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ｂ３－２は、前記イ（ウ）における相違点Ｂ３－１と同じであるから、前記イ（エ）における検討と同様に実質的な相違点ではない。（オ）したがって、相違点Ｂ３－２は実質的な相違点ではなく、本件発明２は甲Ｂ３発明であるから、特許法第29条第1項第3号に規定する発明に該当し、特許を受けることができない。また、本件発明２は甲Ｂ３発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。エ本件発明４～１４との対比・判断本件発明４～１４において特定された事項は、いずれも甲Ｂ３発明も有しているか、本願出願前に周知の技術であるから、本件発明１、２と同様に本件発明４～１４は、甲Ｂ３発明であるか、甲Ｂ３発明及び周知の技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第29条第1項第3号の発明に該当する発明であるか、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない発明である。オ本件発明１５、１６との対比・判断本件発明１５、１６に係る研磨物の製造方法は、甲Ｂ３発明に係る研磨用組成物を、前記（３）カ、（４）カ、（５）カ、（６）カにおいて検討した、甲Ａ１、甲Ａ４、甲Ａ５、甲Ｂ１に記載された周知の技術に用いることによって、当業者が容易に発明をすることができたものである。第５取消理由通知の理由に対する判断１サポート要件について本件訂正により、本件発明１～３およびそれらを引用する本件発明４～１６の全てにおける「研磨用組成物」に、平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である無機酸化物を含む砥粒が含まれることになったため、砥粒を含むことと、砥粒の材質及び平均粒径について規定されたから、取消理由において通知した前記第４、２のように指摘したサポート要件違背は解消したといえる。２新規性・進歩性について（１）甲Ａ１を主引用例とする検討ア甲Ａ１発明の認定前記第４、３（３）ア（エ）において認定したとおりである。イ本件発明１との対比・判断（ア）対比甲Ａ１発明の「ポリビニルアルコール」は、本件発明１の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当し、甲Ａ１発明の「砥粒としてコロイダルシリカ（ＢＥＴ径３５ｎｍ）を０．２２５ｗｔ％を含有」は、本件発明１の「砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満」を充足し、甲Ａ１発明の「研磨用スラリー」は、本件発明１の「研磨用組成物」に相当する。また、甲Ａ１発明は、ビニルピロリドンの単独重合体を含むものであるが、酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物、βグルコース単位を含むポリマー及びカルボン酸基を有するポリビニルアルコール系樹脂を含んでいない。（イ）一致点本件発明１と甲Ａ１発明は次の点で一致する。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ａ）、（Ｃ）、（Ｄ）の組成物を除く。（Ａ）酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明１と甲Ａ１発明は次の２つの相違点で相違する。ａ相違点Ａ１－１－１ビニルアルコール系樹脂について、本件発明１においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ１発明においては、「Ｍｗが１０．５６×１０４、けん化度が９８モル％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。ｂ相違点Ａ１－１－２本件発明１においては、「（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物」が除かれているのに対して、甲Ａ１発明においては、組成物にビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体が含まれている点。（エ）相違点についての判断ａ相違点Ａ１－１－１について検討する。前記第４、３（３）イ（エ）ａ～ｃで検討したように、甲Ａ１発明におけるポリビニルアルコールは、６０ｍＰａ・ｓ程度の２０℃における４％水溶液粘度を持つと解される。ｂそうすると、相違点Ａ１－１－１は実質的な相違点である。そして、甲Ａ１発明における６０ｍＰａ・ｓ程度の２０℃における４％水溶液粘度を持つポリビニルアルコールに代えて、「１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」の２０℃における４％水溶液粘度を持つポリビニルアルコールを採用することが当業者にとって容易と認めるに足りる証拠はない。ｃ前記第４、３（１）ア（イ）に摘記した甲Ａ１の段落［００６０］には、水溶性高分子の重量平均分子量の範囲が示されているが、結局０．２×１０４以上、２００×１０４以下とすることが適当と記載されているだけであり、その中から「１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」の２０℃における４％水溶液粘度を持つポリビニルアルコールを選択する動機付けとなる記載ではない。ｄそうすると、相違点Ａ１－１－２について検討するまでもなく、本件発明１は、甲Ａ１発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものということはできない。ウ本件発明２との対比・判断（ア）対比甲Ａ１発明の「ポリビニルアルコール」は、本件発明２の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当し、甲Ａ１発明の「砥粒としてコロイダルシリカ（ＢＥＴ径３５ｎｍ）を０．２２５ｗｔ％を含有」は、本件発明２の「砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満」を充足し、甲Ａ１発明に係る「研磨用スラリー」は、本件発明２の「研磨用組成物」に相当する。甲Ａ１発明の「シリコン基板」は、単結晶のシリコンインゴットをスライスして得られるものであることは技術常識であるから、甲Ａ１発明の「シリコン基板の研磨用スラリー」は、本件発明２の「単結晶シリコン基板の研磨用組成物」に相当する。また、甲Ａ１発明には、カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するポリビニルアルコールを含んでいない。（イ）一致点本件発明２と甲Ａ１発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である、単結晶シリコン基板の研磨用組成物（ただし、下記（Ｄ）の組成物を除く。（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明２と甲Ａ１発明との相違点（以下「相違点Ａ１－２－１」という。）は次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明２においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ１発明においては、「Ｍｗが１０．５６×１０４、けん化度が９８モル％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ａ１－２－１は、相違点Ａ１－１－１に包含されるものであって、相違点Ａ１－１－１のうち、「１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」という部分を持たないものである。そうすると、前記イ（エ）における相違点Ａ１－１－１の検討と同様に、相違点Ａ１－２－１は、当業者が容易に想到しうるものではない。エ本件発明３との対比・判断（ア）対比甲Ａ１発明の「ポリビニルアルコール」は、本件発明３の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当し、甲Ａ１発明の「砥粒としてコロイダルシリカ（ＢＥＴ径３５ｎｍ）を０．２２５ｗｔ％を含有」は、本件発明３の「砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満」を充足し、甲Ａ１発明の「研磨用スラリー」は、本件発明３の「研磨用組成物」に相当する。また、甲Ａ１発明は、ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含むものであるが、β－グルコース単位を含むポリマーを含んでいない。（イ）一致点本件発明３と甲Ａ１発明は次の点で一致する。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ｃ）の組成物を除く。（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明３と甲Ａ１発明は次の２つの相違点で相違する。ａ相違点Ａ１－３－１ビニルアルコール系樹脂について、本件発明３においては「２０℃における４％水溶液粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ１発明においては、「Ｍｗが１０．５６×１０４、けん化度が９８モル％以上のポリビニルアルコール」と特定されている点。ｂ相違点Ａ１－３－２本件発明３においては、「（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物」が除かれているのに対して、甲Ａ１発明においては、組成物にビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体が含まれている点。（エ）相違点についての判断相違点Ａ１－３－１は、相違点Ａ１－１－１に包含されるものであって、相違点Ａ１－１－１のうち、「１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下」という部分を持たないものである。そうすると、前記イ（エ）における相違点Ａ１－１－１の検討と同様に、相違点Ａ１－３－１は、当業者が容易に想到しうるものではない。オ本件発明４～１６について本件発明４～１６は、本件発明１～３のいずれかを包含し、さらに発明特定事項を追加したものであるから、本件発明１～３と同様に甲Ａ１発明に基づいて当業者が容易に発明できたものということはできない。（２）甲Ａ４を主引用例とする検討ア甲Ａ４発明の認定前記第４、３（４）ア（ウ）において認定したとおりである。イ本件発明１との対比・判断（ア）対比甲Ａ４発明の「ＰＶＡ」は、本件発明１の「水溶性高分子」及び「ビニルアルコール系樹脂」に相当し、甲Ａ４発明の「成分（Ｂ）としてコロイダルシリカ（ＤN4＝７０ｎｍ）を１０質量％」は、本件発明１の「砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である」を充足する。また、甲Ａ４発明に係る「研磨用組成物」は「ＨＥＣ」すなわち、β－グルコース単位を含むポリマーを含むが、「酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコール」、「ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体」、「カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂」を含んでいない。（イ）一致点そうすると、本件発明１と甲Ａ４発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）の組成物を除く。（Ａ）酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。」である点。（ウ）相違点本件発明１と甲Ａ４発明とは次の２点で相違する。ａ相違点Ａ４－１－１ビニルアルコール系樹脂について、本件発明１においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ４発明においては、「数平均分子量が１０５，０００、けん化度が９８％のポリビニルアルコール」と特定されている点。ｂ相違点Ａ４－１－２本件発明１においては、「（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物」が除かれているのに対し、甲Ａ４発明には、β－グルコース単位を含むポリマーが含まれている点。（エ）相違点についての検討ａ相違点Ａ４－１－１について検討する。前記第４、３（４）イ（エ）ａ～ｃで検討したように、甲Ａ４発明におけるポリビニルアルコールは、６０ｍＰａ・ｓ程度の２０℃における４％水溶液粘度を持つと解される。ｂそうすると、相違点Ａ４－１－１は実質的な相違点である。そして、甲Ａ４発明における６０ｍＰａ・ｓ程度の２０℃における４％水溶液粘度を持つポリビニルアルコールに代えて、「１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」の２０℃における４％水溶液粘度を持つポリビニルアルコールを採用することが当業者にとって容易と認めるに足りる証拠はない。ｃ前記第４、３（１）イ（イ）に摘記した甲Ａ４の段落【００３９】には、「ＰＶＡの平均分子量は１，０００～１，０００，０００が好ましく、５，０００～５００，０００がより好ましく、１０，０００～３００，０００が最も好ましい。」と記載されているが、その中から「１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」の２０℃における４％水溶液粘度を持つポリビニルアルコールを選択する動機付けとなる記載ではない。ｄそうすると、相違点Ａ４－１－２について検討するまでもなく、本件発明１は、甲Ａ４発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものということはできない。ウ本件発明２との対比・判断（ア）対比甲Ａ４発明の「成分（Ｂ）としてコロイダルシリカ（ＤN4＝７０ｎｍ）を１０質量％」、「成分（Ｄ）としてＨＥＣ及びＰＶＡの混合物を用い、その混合物中のＰＶＡの数平均分子量が１０５，０００及びけん化度９８％」は、本件発明２の「砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である」、「水溶性高分子が、・・・ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み」にそれぞれ相当する。また、甲Ａ４発明は、カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含むものではない。そして、甲Ａ４発明の「シリコンウエハ」は、単結晶のシリコンインゴットをスライスして得られるものであることは技術常識であるから、甲Ａ４発明の「シリコンウエハ研磨用組成物」は、本件発明２の「単結晶シリコン基板の研磨用組成物」に相当する。（イ）一致点本件発明２と甲Ａ４発明の一致点は次のとおりである。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である、単結晶シリコン基板の研磨用組成物（ただし、下記（Ｄ）の組成物を除く。（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。（ウ）相違点本件発明２と甲Ａ４発明は次の点で相違する。（相違点Ａ４－２－１）ビニルアルコール系樹脂について、本件発明２においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ４発明においては、「ＰＶＡの数平均分子量が１０５，０００」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ａ４－２－１は、相違点Ａ４－１－１に包含されるものであって、相違点Ａ４－１－１のうち、「１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」という部分を持たないものである。そうすると、前記イ（エ）における相違点Ａ４－１－１の検討と同様に、相違点Ａ４－２－１は、当業者が容易に想到しうるものではない。エ本件発明３との対比・判断（ア）対比甲Ａ４発明における砥粒及びＰＶＡについては、前記イ（ア）と同様の相当関係がある。また、甲Ａ４発明におけるＨＥＣは、ヒドロキシエチルセルロースであって、これはβ－グルコース単位を含むポリマーである。さらに、甲Ａ４発明は、「ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体」を含んでいない。（イ）一致点そうすると、本件発明３と甲Ａ４発明との一致点は次のとおりである。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ｂ）の組成物を除く。（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明３と甲Ａ４発明とは次の点で相違する。ａ相違点Ａ４－３－１ビニルアルコール系樹脂について、本件発明３においては、「２０℃における４％水溶液粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ４発明においては、「数平均分子量が１０５，０００及びけん化度９８％」と特定されている点。ｂ相違点Ａ４－３－２本件発明３においては、「（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物」を除くと特定されているのに対して、甲Ａ４発明には、（Ｃ）が含まれる点。（エ）相違点についての検討相違点Ａ４－３－１について検討する。相違点Ａ４－３－１は、前記イ（ウ）ａにおいて検討した相違点Ａ４－１－１の上位概念となっているから、前記イ（エ）においての検討と同様当業者が容易に想到することができたとはいえない。オ本件発明４～１６について本件発明４～１６は、本件発明１～３のいずれかを包含し、さらに発明特定事項を追加したものであるから、本件発明１～３と同様に甲Ａ４発明に基づいて当業者が容易に発明できたものということはできない。（３）甲Ａ５を主引用例とする検討ア甲Ａ５発明の認定前記第４、３（５）ア（ウ）において認定したとおりである。イ本件発明１との対比・判断（ア）対比甲Ａ５発明における「コロイダルシリカ（ＢＥＴ径２５ｎｍ）を０．０８８質量％」、「Ｍｗが１０６０００のポリビニルアルコール（ＰＶＡ、けん化度９５％以上）を０．００４質量％」は、本件発明１の「砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満」、「水溶性高分子が、・・・ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み」にそれぞれ相当する。（イ）一致点本件発明１と甲Ａ５発明の一致点は次のとおりである。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ａ）～（Ｄ）の組成物を除く。（Ａ）酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明１と甲Ａ５発明は次の点（以下「相違点Ａ５－１－１」という。）で相違する。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明１においては、「水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ５発明においては、「Ｍｗが１０６０００のポリビニルアルコール（ＰＶＡ、けん化度９５％以上）」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ａ５－１－１は、前記（２）イ（ウ）における相違点Ａ４－１－１と同様であるから、前記（２）イ（エ）における検討と同様に当業者が容易に想到し得るということができない。ウ本件発明２との対比・判断（ア）対比砥粒及びビニルアルコール系樹脂については、前記イ（ア）と同様である。また、甲Ａ５発明における「シリコンウエハ研磨用」は、本件発明２の「単結晶シリコン基板の研磨用」に相当する。さらに、甲Ａ５発明は、カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するポリビニルアルコールを含んでいない。（イ）一致点本件発明２と甲Ａ５発明の一致点は、次のとおりである。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である、単結晶シリコン基板の研磨用組成物（ただし、下記（Ｄ）の組成物を除く。（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するポリビニルアルコールを含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明２と甲Ａ５発明との相違点（以下「相違点Ａ５－２－１」という。）は次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明２においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ５発明においては「Ｍｗが１０６０００のポリビニルアルコール（ＰＶＡ、けん化度９５％以上）」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ａ５－２－１は、前記イ（ウ）の相違点Ａ５－１－１の上位概念であるから、前記イ（エ）における検討と同様に、当業者が容易に想到することができるといえない。エ本件発明３との対比・判断（ア）対比砥粒及びビニルアルコール系樹脂については、前記イ（ア）と同様である。また、甲Ａ５発明は、（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物を含まず、（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物も含まない。（イ）一致点本件発明３と甲Ａ５発明とは次の点で一致する。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ｂ）～（Ｃ）の組成物を除く。（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明３と甲Ａ５発明との相違点（以下「相違点Ａ５－３－１」という。）は次のとおりである。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明３においては、「２０℃における４％水溶液粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ａ５発明においては、「Ｍｗが１０６０００のポリビニルアルコール（ＰＶＡ、けん化度９５％以上）」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ａ５－３－１は、前記イ（ウ）における相違点Ａ５－１－１の上位概念である。そうすると、前記イ（エ）における検討と同様に当業者が容易に想到しうるということはできない。オ本件発明４～１６について本件発明４～１６は、本件発明１～３のいずれかを包含し、さらに発明特定事項を追加したものであるから、本件発明１～３と同様に甲Ａ５発明に基づいて当業者が容易に発明できたものということはできない。（４）甲Ｂ１を主引用例とする検討ア甲Ｂ１発明の認定前記第４、３（６）ア（ウ）において認定したとおりである。イ本件発明１との対比・判断（ア）対比甲Ｂ１発明における「コロイダルシリカ２（平均一次粒子径３８ｎｍ）」、「分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコール」は、本件発明１の「砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満」、「水溶性高分子が、・・・ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み」にそれぞれ相当する。また、甲Ｂ１発明には、本件発明１の（Ａ）～（Ｄ）成分は含まれていない。（イ）一致点本件発明１と甲Ｂ１発明は、次の点で一致する。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ａ）～（Ｄ）の組成物を除く。（Ａ）酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明１と甲Ｂ１発明は次の点（以下「相違点Ｂ１－１－１」という。）で相違する。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明１では、「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ｂ１発明においては「分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコールＰＶＡ－１２４」と特定されている点。（エ）相違点についての検討前記第４、３（６）イ（エ）において検討したように、甲Ｂ１発明におけるポリビニルアルコールは、ＰＶＡ－１２４と認められるから、その２０℃における４％水溶液の粘度は、５４～６７ｍＰａ・ｓ程度である。そうすると、相違点Ｂ１－１－１は、実質的な相違点である。そして、前記（１）イ（エ）において検討したのと同様に、相違点Ｂ１－１－１について、当業者が容易に想到しうるものとすることはできない。ウ本件発明２との対比・判断（ア）対比砥粒及びビニルアルコール系樹脂については、前記イ（ア）と同様である。また、甲Ｂ１発明における「シリコンウエハ研磨用組成物」は、本件発明２の「単結晶シリコン基板の研磨用組成物」に相当し、また、甲Ｂ１発明は、（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するポリビニルアルコールを含むものでない。（イ）一致点本件発明２と甲Ｂ１発明は次の点で一致する。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である、単結晶シリコン基板の研磨用組成物（ただし、下記（Ｄ）の組成物を除く。（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するポリビニルアルコールを含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明２は、甲Ｂ１発明と次の点（以下「相違点Ｂ１－２－１」という。）で相違する。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明２においては、「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ｂ１発明においては、「分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコールＰＶＡ－１２４」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ｂ１－２－１は、前記イ（ウ）において検討した相違点Ｂ１－１－１の上位概念となっている。そうすると、前記イ（エ）と同様の理由によって、当業者が容易に想到できたということはできない。エ本件発明３との対比・判断（ア）対比砥粒及び樹脂の対応関係は、前記イ（ア）と同様である。また、甲Ｂ１発明は、（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物を含まず、また、（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物を含まない。（イ）一致点本件発明３と甲Ｂ１発明は、次の点で一致する。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ｂ）～（Ｃ）の組成物を除く。（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明３は、甲Ｂ１発明と次の点（以下「相違点Ｂ１－３－１」という。）で相違する。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明３では「２０℃における４％水溶液粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ｂ１発明においては、「分子量１０万の完全鹸化ポリビニルアルコールＰＶＡ－１２４」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ｂ１－３－１は、前記イ（ウ）で認定した相違点Ｂ１－１－１の上位概念となっているから、前記イ（エ）の理由と同様に当業者が容易に想到することができたとはいえない。オ本件発明４～１６について本件発明４～１６は、本件発明１～３のいずれかを包含し、さらに発明特定事項を追加したものであるから、本件発明１～３と同様に甲Ｂ１発明に基づいて当業者が容易に発明できたものということはできない。（５）甲Ｂ３を主引用例とする検討ア甲Ｂ３発明の認定前記第４、３（７）ア（オ）において認定したとおりである。イ本件発明１との対比・判断（ア）対比甲Ｂ３発明における「コロイダルシリカ（平均一次粒子径４０ｎｍ）０．３３質量％」、「カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）１００ｐｐｍ」は、本件発明１における「砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満」、「水溶性高分子が、・・・ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み」にそれぞれ相当する。また、甲Ｂ３発明は、カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含んでいるが、本件発明１における（Ａ）～（Ｃ）に規定の成分は含んでいない。（イ）一致点本件発明１と甲Ｂ３発明は次の点で一致する。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ａ）～（Ｃ）の組成物を除く。（Ａ）酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物」（ウ）相違点本件発明１は、次の点で甲Ｂ３発明と相違する。ａ相違点Ｂ３－１－１ビニルアルコール系樹脂について、本件発明１においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ｂ３発明においては「カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）」と特定されている点。ｂ相違点Ｂ３－１－２本件発明１においては、「（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物」が除かれているのに対して、甲Ｂ３発明は「（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物」を含んでいる点。（エ）相違点についての検討ａ相違点Ｂ３－１－１について検討する。前記第４、３（７）イ（エ）において検討したように、甲Ｂ３発明における「日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０」の２０℃における４％水溶液粘度は、２７．０～３３．０ｍＰａ・ｓとされている。ｂこの粘度は、本件発明１における「１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」とは、２７．０～２８．９ｍＰａ・ｓの範囲で重複しているものの、甲Ｂ３発明における「２７．０～３３．０ｍＰａ・ｓ」の中から２７．０～２８．９ｍＰａ・ｓを選択する動機付けがあるということはできない。ｃしたがって、相違点Ｂ３－１－２について検討するまでもなく、本件発明１は甲Ｂ３発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものということができない。ウ本件発明２との対比・判断（ア）対比砥粒と樹脂の相当関係は、前記イ（ア）と同様。また、本件発明２は、「（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物」を除くのに対して、甲Ｂ３発明は、それを含む点で相違する。（イ）一致点本件発明２と甲Ｂ３発明は次の点で一致する。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である、単結晶シリコン基板の研磨用組成物」（ウ）相違点本件発明２と甲Ｂ３発明は次の点で相違する。ａ相違点Ｂ３－２－１ビニルアルコール系樹脂について、本件発明２においては「２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下」と規定されているのに対し、甲Ｂ３発明においては、「カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）」と規定されている点。ｂ相違点Ｂ３－２－２本件発明２においては、「下記（Ｄ）の組成物を除く。（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物」と規定されているのに対し、甲Ｂ３発明においては、カルボン酸基を有するポリビニルアルコールを含有している点。（エ）相違点についての検討相違点Ｂ３－２－１は、前記イ（ウ）で認定した相違点Ｂ３－１－１の上位概念となっている。そうすると、前記イ（エ）と同様の理由により、相違点Ｂ３－２－１は当業者が容易に想到しうるものということができない。エ本件発明３との対比・判断（ア）対比砥粒と樹脂の相当関係は、前記イ（ア）と同様。また、甲Ｂ３発明は、（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物、（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物、をいずれも含むものでない。（イ）一致点本件発明３と甲Ｂ３発明は、次の点で一致する。「水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、ビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ｂ）～（Ｃ）の組成物を除く。（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物）。」（ウ）相違点本件発明３は、次の点（以下「相違点Ｂ３－３－１」という。）で相違する。ビニルアルコール系樹脂について、本件発明３においては、「２０℃における４％水溶液粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下」と特定されているのに対して、甲Ｂ３発明においては、「カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（平均分子量１４万、日本合成化学工業（株）社製、商品名Ｔ－３３０）」と特定されている点。（エ）相違点についての検討相違点Ｂ３－３－１は、前記イ（ウ）で認定した相違点Ｂ３－１－１の上位概念となっている。そうすると、前記イ（エ）と同様の理由により、相違点Ｂ３－３－１は当業者が容易に想到しうるものということができない。オ本件発明４～１６について本件発明４～１６は、本件発明１～３のいずれかを包含し、さらに発明特定事項を追加したものであるから、本件発明１～３と同様に甲Ｂ３発明に基づいて当業者が容易に発明できたものということはできない。第６取消理由通知に採用しなかった申立理由などについて１新規性・進歩性について（１）甲Ｂ２を主引用例とする新規性欠如及び進歩性欠如申立人Ｂは、甲Ｂ２を提示して、本件発明は、甲Ｂ２により新規性・進歩性を欠くと主張する。しかしながら、甲Ｂ２におけるポリビニルアルコールは、溶解抑制剤と反応させられているから、分子量が推定できても、その２０℃における４％水溶液の粘度の推定ができないものであるから採用できない。２記載要件について（１）実施可能要件ア申立人Ｂの特許異議申立書における主張の概要本件特許明細書の実施例において得られたとされるポリビニルアルコールは、本件特許明細書の段落【０１３１】の記載によると、甲Ｂ１３の製造例１に記載の方法に準じて、各種条件を変更することで、本件特許明細書の段落【０１４８】の【表１】に記載された特定の粘度を有するＰＶＡ－１～ＰＶＡ－６を製造するとされているが、各種条件をどのように変更することで製造できるかが記載されていないため、本件発明を実施するためには、当業者であっても過度の試行錯誤を要するものであるから、本件特許明細書の記載は、特許法第36条第4項第1号に規定される要件を満たさないものである。イ当審の判断しかしながら、重合反応において、生成される高分子の分子量を調整するために、各種の周知の手段を用いることは常套手段であるから、本件明細書に詳細が記載されていなくても、当業者であれば前記周知の手段を適用することは適宜なし得ることであって、本件特許明細書に記載がなくとも当業者であれば、製造可能であるといえる。（２）サポート要件ア申立人Ｂは、特許異議申立書において、本件発明１～１６は、課題を解決できない範囲を含むから、その記載が、特許法第36条第6項第1号の規定を満たさないと主張する。しかしながら、申立人Ｂは、本件発明１が、具体的に課題が解決できないことを示していないから、その主張を採用することはできない。イ申立人Ｂは、令和４年１０月６日提出の意見書において、本件特許明細書における実施例を本件発明１～１６に拡張・一般化することができないと主張する。しかしながら、この主張も、課題が解決できないことを具体的に示していないから、採用できない。（３）明確性要件申立人Ｂは、本件発明１の「カチオン性ポリビニルアルコール」の外延が不明確であり、その記載が、特許法第36条第6項第2号の規定を満たさないと主張する。しかしながら、カチオン性という用語は、正のイオンとなり得るという意味で明確である。したがって、カチオン性ポリビニルアルコールという語句も明確であり、申立人Ｂの主張は採用できない。第７むすび以上のとおりであるから、本件発明１～１６に係る特許を取り消すことはできない。また、他に取り消すべき理由を発見しない。したがって、結論のとおり決定する。
発明の名称	（５７）【特許請求の範囲】【請求項１】水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下又は１００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ａ）～（Ｄ）の組成物を除く。（Ａ）酸化セリウム及びカチオン性ポリビニルアルコールを含む組成物（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するビニルアルコール系樹脂を含む組成物）。【請求項２】水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１５ｍＰａ・ｓ以上２８．９ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である、単結晶シリコン基板の研磨用組成物（ただし、下記（Ｄ）の組成物を除く。（Ｄ）カルボン酸基又はカルボン酸塩基を有するポリビニルアルコールを含む組成物）。【請求項３】水溶性高分子及び砥粒を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子が、２０℃における４％水溶液粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上３０Ｏ０ｍＰａ・ｓ以下のビニルアルコール系樹脂を少なくとも含み、砥粒が無機酸化物を含み、砥粒の平均一次粒子径が１００ｎｍ未満である研磨用組成物（ただし、下記（Ｂ）～（Ｃ）の組成物を除く。（Ｂ）ビニルピロリドンの単独重合体又はビニルピロリドンの共重合体を含む組成物（Ｃ）β－グルコース単位を含むポリマーを含む組成物）。【請求項４】水溶性高分子のけん化度が８０～８９．７モル％又は９８．３～９９．３モル％である請求項１～３のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項５】砥粒の平均一次粒子径が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満であり、下記（Ｅ）及び（Ｆ）の組成物を含まない、請求項１～４のいずれかに記載の研磨用組成物。（Ｅ）エチレンジアミンテトラ酢酸又はエチレンジアミンテトラ酢酸ナトリウムを含む組成物（Ｆ）ポリエチレンオキサイド－ポリプロピレンオキサイド－ポリエチレンオキサイド型トリブロック共重合体を含む組成物【請求項６】砥粒がシリカを含む請求項５に記載の研磨用組成物。【請求項７】水溶性高分子の単量体全体に対して、酸基を有する単量体の割合が、０．１モル％未満である請求項１～６のいずれかに記載の組成物。【請求項８】さらに、ｐＨ調整剤を含む、請求項１～７のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項９】さらに、砥粒及びｐＨ調整剤を含む研磨用組成物であって、砥粒がシリカを含み、ｐＨ調整剤が塩基性化合物を含む、請求項１～８のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１０】さらに、界面活性剤を含む、請求項１～９のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１１】さらに、界面活性剤を含む研磨組成物であって、界面活性剤が、オキシエチレン－オキプロピレン構造を有する共重合体及びポリオキシエチレンアルキルエーテルから選択された少なくとも１種を含む、請求項１～１０のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１２】さらに、界面活性剤を含む研磨用組成物であって、水溶性高分子と界面活性剤の割合が、質量比で、１：０．０１～１：２００である、請求項１～１１のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１３】さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、水溶性高分子の濃度が１ｐｐｍ以上である、請求項１～１２のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１４】さらに、少なくとも水を含む溶媒を含み、固形分濃度が０．０１質量％以上である、請求項１～１３のいずれかに記載の研磨用組成物。【請求項１５】研磨対象物の表面を、請求項１～１４のいずれかに記載の研磨用組成物で研磨する工程を含む、研磨物の製造方法。【請求項１６】研磨用組成物を少なくとも水を含む溶媒で希釈する希釈工程を含み、研磨工程において、希釈工程で得られた希釈液で研磨する、請求項１５記載の研磨物の製造方法。
訂正の要旨	審決（決定）の【理由】欄参照。
異議決定日	2023-03-22
出願番号	P2020-027613
審決分類	P 1 651・ 113- YAA (C09K) P 1 651・ 537- YAA (C09K) P 1 651・ 536- YAA (C09K) P 1 651・ 121- YAA (C09K)
最終処分	07 維持
特許庁審判長	蔵野雅昭
特許庁審判官	門前浩一田澤俊樹
登録日	2020-09-08
登録番号	6761554
権利者	日本酢ビ・ポバール株式会社
発明の名称	研磨用組成物
代理人	岩谷龍
代理人	勝又政徳
代理人	岩谷龍
代理人	勝又政徳

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