ポートフォリオを新規に作成して保存 |
|
|
既存のポートフォリオに追加保存 |
|
PDFをダウンロード |
審決分類 |
審判 補正却下の決定 特29条特許要件(新規) C23C |
---|---|
管理番号 | 1010371 |
審判番号 | 審判1998-18324 |
総通号数 | 9 |
発行国 | 日本国特許庁(JP) |
公報種別 | 特許決定公報 |
発行日 | 1991-03-25 |
種別 | 補正却下の決定 |
確定日 | 1999-09-20 |
事件の表示 | 平成1年特許願第202006号「複合材料の製造方法」拒絶査定に対する審判事件について,次のとおり決定する。 |
結論 | 平成10年12月21日付けの手続補正を却下する。 |
理由 |
(補正の経緯) 本件補正は、特許法第121条第1項の規定に基づく審判の請求の日から30日以内の平成10年12月21日付けでなされた同法第17条の2第1項第4号の規定による補正である。 (補正の内容) 本件補正の内容は、その手続補正書からみて、明細書の特許請求の範囲を以下のように補正するものである。 「(1)長尺フィルムであるプラスチック基材表面に、巻取りながら希ガスを励起した電流密度が1〜1000μA/cm2であるイオンビームを照射した後、又は照射と同時に金属又は金属化合物を蒸着する複合材料の製造方法。 (2)イオンビームを照射後、基材表面の電荷を除去を行う事を特徴とする請求項1記載の複合材料の製造方法。」 (判断) 本件補正は、特許請求の範囲の第1項に「電流密度が1〜1000μA/cm2であるイオンビーム」を照射することを記載するものであるが、願書に最初に添付した明細書又は図面には、イオンビームの電流密度の上限「100μA/cm2」が示されているだけであり(本願明細書第4頁第15行〜第5頁第2行)、それを越える「1000μA/cm2」については記載されておらず、またこの上限の数値が自明の事項であるとも言えないから、当該補正は願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内でなされたものではなく、明細書の要旨を変更するものである。 (むすび) したがって、本件補正は、特許法第159条第1項の規定により準用する同法第53条第1項の規定により、却下すべきものである。 よって結論のとおり決定する。 |
決定日 | 1999-07-27 |
出願番号 | 特願平1-202006 |
審決分類 |
P
1
93・
1-
(C23C)
|
前審関与審査官 | 板谷 一弘 |
特許庁審判長 |
沼澤 幸雄 |
特許庁審判官 |
新居田 知生 唐戸 光雄 |
発明の名称 | 複合材料の製造方法 |