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審決分類 審判 補正却下の決定 特29条特許要件(新規)  C23C
管理番号 1010372
審判番号 審判1998-18324  
総通号数
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許決定公報 
発行日 1991-03-25 
種別 補正却下の決定 
確定日 1999-09-20 
事件の表示 平成1年特許願第202006号「複合材料の製造方法」拒絶査定に対する審判事件について,次のとおり決定する。 
結論 平成10年8月17日付けの手続補正を却下する。 
理由 (補正の経緯)
本件補正は、特許法第50条の規定による通知を受けた場合において、第50条の規定により指定された期間内の平成10年8月17日付けでなされた同法第17条の2第1項第3号の規定による補正である。
(補正の内容)
本件補正の内容は、その手続補正書からみて、明細書の特許請求の範囲を以下のように補正するものである。
「(1)長尺フィルムであるプラスチック基材表面に、巻取りながら希ガスを励起したイオンビームを照射した後、又は照射と同時に金属又は金属化合物を蒸着する複合材料の製造方法。
(2)基材表面のイオンビームの電流密度が1〜1000μA/cm2であることを特徴とする請求項(1)記載の製造方法。」
(判断)
本件補正は、特許請求の範囲の請求項(2)に基材表面のイオンビームの電流密度が「1〜1000μA/cm2」であることを記載するものであるが、願書に最初に添付した明細書又は図面には、イオンビームの電流密度の上限「100μA/cm2」が示されているだけであり(本願明細書第4頁第15行〜第5頁第2行)、それを越える「1000μA/cm2」については記載されておらず、またこの上限の数値が自明の事項であるとも言えないから、当該補正は願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内でなされたものではなく、明細書の要旨を変更するものである。
(むすび)
したがって、本件補正は、特許法第53条第1項の規定により、却下すべきものである。
よって結論のとおり決定する。
 
決定日 1999-07-27 
出願番号 特願平1-202006
審決分類 P 1 93・ 1- (C23C)
前審関与審査官 板谷 一弘  
特許庁審判長 沼澤 幸雄
特許庁審判官 唐戸 光雄
新居田 知生
発明の名称 複合材料の製造方法  
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