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| 審決分類 |
審判 補正却下の決定 4号2号請求項の限定的減縮 G03F |
|---|---|
| 管理番号 | 1020479 |
| 審判番号 | 審判1996-1614 |
| 総通号数 | 14 |
| 発行国 | 日本国特許庁(JP) |
| 公報種別 | 特許決定公報 |
| 発行日 | 1990-01-05 |
| 種別 | 補正却下の決定 |
| 確定日 | 2000-02-03 |
| 事件の表示 | 昭和63年特許願第127309号「フォトマスクの作成方法」拒絶査定に対する審判事件について,次のとおり決定する。 |
| 結論 | 平成10年2月6日付けの手続補正を却下する。 |
| 理由 |
平成10年2月6日付け手続補正書は、当審の平成9年11月27日付け拒絶理由通知に対する応答期間内に、特許法第17条の2第4号の規定による補正を行うものとして提出されたものである。 そして、この補正の内容として記載される請求項2は、「半導体ウエハにデバイスチップの品質を判定する品質情報を記録してなる半導体装置。」と記載されている。 しかしながら、この請求項2の記載では、先行する同請求項1において特定される「フォトマスクの作成中あるいは作成されたフォトマスクの使用中におけるデバイスチップの品質を判定する品質情報をフォトマスクの実パターンが描かれる有効領域内に各デバイスチップ毎に分割された各デバイスチップ領域内の実デバイスの本パターンが描かれたエリア外に記録することを特徴とするフォトマスクの作成方法。」を用いることは当然に含まれるものの、このフォトマスクヘの記録方法自体の特定を何ら行わないものである。 しかしながら本願発明は、本願における出願当初の願書に添付された明細書及び図面の記載にある、その特許請求の範囲の請求項1「フォトマスクを作成あるいは使用中のフォトマスクの品質情報をフォトマスクの実デバイスチップ中あるいは実デバイス以外の有効エリア外に記録することを特徴とするフォトマスクの作成方法。」記載にみられるように、少なくとも品質情報を記録する場所を特定することを要件とするものであり、この手続補正におけるように、このフォトマスクヘの記録方法自体の特定が何ら行われない場合には、願書に添付された明細書及び図面の要旨を変更するものとなる。 したがって、この補正は、特許法第159条第1項により準用する同第53条第1項の規定により却下すべきものである。 よって、結論のとおり決定する。 |
| 決定日 | 1998-05-08 |
| 出願番号 | 特願昭63-127309 |
| 審決分類 |
P
1
93・
572-
(G03F)
|
| 前審関与審査官 | 伊藤 昌哉、青木 俊明 |
| 特許庁審判長 |
酒井 進 |
| 特許庁審判官 |
小橋 立昌 水垣 親房 |
| 発明の名称 | フォトマスクの作成方法 |
| 代理人 | 池谷 豊 |
| 代理人 | 黒岩 徹夫 |
| 代理人 | 小林 慶男 |
| 代理人 | 鈴木 憲七 |
| 代理人 | 曾我 道照 |
| 代理人 | 古川 秀利 |
| 代理人 | 長谷 正久 |