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| 審決分類 |
審判 査定不服 5項独立特許用件 特許、登録しない。 H01L 審判 査定不服 1項3号刊行物記載 特許、登録しない。 H01L |
|---|---|
| 管理番号 | 1273793 |
| 審判番号 | 不服2012-17393 |
| 総通号数 | 162 |
| 発行国 | 日本国特許庁(JP) |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2013-06-28 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2012-09-07 |
| 確定日 | 2013-05-07 |
| 事件の表示 | 特願2007-554984「移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成19年 7月26日国際公開、WO2007/083758〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 本件審判の請求は、成り立たない。 |
| 理由 |
第1 手続の経緯 本願は、特許法第41条に基づく優先権主張を伴う平成19年1月19日(優先日:平成18年1月19日、平成18年2月21日、平成18年8月31日)の出願であって、平成24年4月17日に手続補正がなされたが、同年7月3日に拒絶査定がなされ、これに対し、同年9月7日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。 その後、平成24年12月20日に、審判請求人に前置報告書の内容を示し意見を求めるための審尋を行ったところ、平成25年2月14日に回答書が提出された。 第2 平成24年9月7日付けの手続補正の補正の却下の決定 [補正の却下の決定の結論] 平成24年9月7日付けの手続補正を却下する。 [理由] 1.補正後の請求項に記載された発明 平成24年9月7日付けの手続補正(以下「本件補正」という。)により、本願の特許請求の範囲の請求項1は、特許請求の範囲の減縮を目的として、以下のように補正された。 「移動体を少なくとも一軸方向に駆動する移動体駆動方法であって、 前記一軸方向に前記移動体を駆動し、この駆動中に前記移動体の前記一軸方向の位置情報を、第1計測装置と該第1計測装置に比べて計測値の短期安定性が優れる第2計測装置とを用いて計測し、該計測結果に基づいて、前記第2計測装置の計測値を補正する補正情報を決定する、較正動作を実行する第1工程と; 前記第2計測装置の計測値と前記補正情報とに基づいて、前記移動体を前記一軸方向に駆動する第2工程と;を含む移動体駆動方法。」 そこで、本件補正後の上記請求項1に記載された発明(以下「補正発明」という。)が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下に検討する。 2.引用刊行物 引用文献1:特開2002-151405号公報 (1)原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である、上記引用文献1には、以下の事項が記載されている。 (1a)「【0006】 【発明が解決しようとする課題】集積回路およびリトグラフィー液晶デイスプレーパネルの製造のためのマイクロリトグラフィーの最も挑戦的な条件の一つが、テーブルの位置決めである。例えば、100nm未満のリトグラフィーは、最高2ms-1までの速度で、全6自由度(DOF)において最高1nmまでのオーダーでの動的精度および機械間の整合を基板およびマスクの位置決めステージに要求する。」 (1b)「【0010】この干渉計システムの背後にある技術は、非常に成熟しているが、その適用は問題がないことはない。干渉計の最も大きな欠点の1は、Schellekens P.H.J.著「Absolute measurement accuracy of technical laser interferometers」 Ph.D. Thesis,TU Eindhoven, 1986年に記載されている波長の環境圧力および温度への依存性であり、・・・ 【0011】これは、光学リトグラフィーシステムの熱設計における大きな問題の1つのままである。一般に、干渉計の光路に沿う温度および圧力の双方は、例えば、エアーシャワーで供給される乾燥し(クラス1より良い)清浄な空気の使用によってmKおよびmbaｒのレベルに積極的に制御される必要がある。」 (1c)「【0017】干渉計に代わる、長距離変位測定のためのマイクロメートルまたはナノメートルの分解能を有する最も明白な代替手段は、光学式インクリメンタルエンコーダー(incremental encoder)である。サブナノメートルの分解能を有する光学式エンコーダーが、ここ数年利用可能になり、単軸干渉法の実行可能な代替手段として奨励されている。サブナノメートルの分解能は、(4096ｘまでの)補間技術との組合せで(最高512nmまでの)微細ピッチ格子を使用することによって達成される。しかし、このエンコーダーの大部分は、1DOFにおいてのみ、長さを測定する。このように、このエンコーダーの大部分は、全6DOFにおける同時ナノ測定に容易に適合しない。困難の1は、他の5DOFにおける寄生移動に対する変位信号のクロストークのレベルが高いということである。」 (1d)「【0029】エンコーダーを基本とするナノ位置決めシステムは、干渉法に代わる有利な代替手段を提供し、実施するのが非常に簡単である。より優れた測定安定性が、X-Y面の測定グリッドがマスクテーブル上に永続的に固定されるということによって達成することができ、マスクテーブルは、ゼロダーのようなゼロCTE材料で実施されたときに、長時間寸法的に安定し、熱に影響されない。これは、とくに、157nmあるいはこれより小さい波長を用いるリトグラフィー投影装置の場合に、干渉計ビームの光路のすぐ周りの領域の環境コントロールに対する厳しい要求をかなり緩和する。このデバイスは、ビームを吸収せず、空気中で強く吸収されるガスで清浄にする必要があり、干渉計ビームの長さにわたるエアシャワーの必要性を避けることによって、本発明は、パージガスの消費量を実質的に低減することができる。」 (1e)「【0045】干渉計の場合と反対に、センサヘッドおよびターゲット面の実際の装着位置および直交度は、リトグラフィー機械で較正手順によって決定することができるために、安定している限り、厳しくない。既述のように、レーザ干渉計は、正確性の点で匹敵するものがないが、インクリメンタルエンコーダーは、レーザ干渉計が環境条件による影響を受けるために、繰返し性の点で優れている。 【0046】本発明で使用される格子は、非常に制御された環境(例えば、真空)でレーザ干渉計を使用して製造され、可能な最高の精度を有するマスターエンコーダー格子を形成するのが好ましい。その後、生産格子が、エンコーダー固有の高繰返し性を利用してマスターから複製される。複製品は、さらに、マスタ格子あるいは真空干渉計のいずれかに対して較正することができる。」 (1f)「【0050】従来のシステムにおいては、3つの干渉計が、3つの自由度、すなわち、X、YおよびRｚ(ヨー)において、マスクテーブルの変位を測定する。他の3自由度、すなわち、Z、Rｘ(ピッチ)およびRｙ(ロール)における位置は、マスクテーブルMTの底部で離隔した3点の垂直位置を測定する3つのハイトセンサHSからの出力を適切に処理することによって提供される。 【0051】比較のために、本発明の第1実施形態の装置が図3に示されている。干渉計Y1-IF、Y2-IFおよびX-IFの代わりに、本発明は、各グリッド格子12,13の変位を測定する2つの光学式読取りヘッド10,11を使用する。グリッド格子12,13は、マスクMAのいずれかの側に1つが設けられ、マスクテーブルMTの、2方向の矢印で示した全移動範囲の走査に十分に適応する長さをY方向に有する。グリッド格子12,13は、切取り部に配置され、マスクMA上のパターンと実質的に同一平面上である。エンコーダー読取りヘッド10,11および3つの高さセンサHSが、図3の点線の楕円によって示すように、投影装置の上部部材に装着されるか、あるいは、固定される。 【0052】エンコーダー読取りヘッド10,11は、例えば、水冷ジャケットを組込むことによって、温度を積極的に制御して、読取りヘッドが散逸した熱を除去し、読取りヘッド自体と読取りヘッドが装着される投影光学との熱安定性を維持することができる。また、読取りヘッドの光源および検出器は、離れて配置し、光ファイバーを介して読取りヘッドに連結して、読取りヘッド光学における局部的な熱の発生を最小としかつ可能な最も高い指向安定性を維持することができる。 【0053】図2および図3から判るように、エンコーダー測定装置は、さらによりコンパクトであり、測定基準系をウエーハレベルからレチクルレベルに延ばす必要性を除去し、この2つは垂直方向においてほぼ1m離れている。この結果、測定系の構造は、その動的特性における大きな改良によって、さらにより簡単でありかつよりコンパクトである。この概念を更に利用して、投影光学に対するマスク自体のX-Y位置を測定することができる。これは、マスクのパターン領域の周りのクロムボーダー(chrome border:クロム縁)に直接、反射格子を配置することによって行うことができる。これはマスクのコストを増すが、例えば、処理中の寸法変化によるマスク平面における歪は、自動的に防ぐことができる。X、YおよびRｚにおける基準指標位置が利用可能であることは、さらに追加の利点である。 【0054】絶対的に正確ではないが繰返し性が高い本発明のエンコーダーシステムは、直接走査(Y)方向において真空干渉計のような長さ基準系に対して較正することができることは重要である。較正は、長時間のドリフトを監視するために、理想的には、オフライン較正プラットフォームにおいてだけでなく、機械内のその場でも実施されるべきである。 【0055】オフライン較正のために、エンコーダー格子は、読取りヘッドと共に、直接走査(Y)方向において、真空干渉計のような長さ基準系に対して較正することができる。これは、1回測定であり、制御された状態で機械外において実施することができる。このようにして得られた誤差マップは、ルックアップ誤差表に、あるいは、機械で実施された誤差訂正ルーチンにおける多項式の係数として記憶することができる。誤差マップは、X変位依存性を除去するために、Y方向においてだけでなく、X方向においても較正することができる。横(X)方向における較正は、Yにおける長移動範囲のために、基準フラットミラーに対して基準平面ミラー干渉計システムを使用して実施される。 【0056】装置におけるその場での較正を実施するために、基準干渉計システムを設けることが好ましいが、スペース条件は、一般にこれを不可能とする。代わりに、走査方向における較正がマスクの両端における照明フィールドに対応する領域にわたるマスクの領域および残りの範囲の3つの部分に分割される較正スキーム(scheme:計画)が使用される。 【0057】マスクが光学系の中心線を通過する移動範囲の中央部において、エンコーダーシステムは、多数の基準マークがプリントされかつ露光される基準マスク(例えば、ゼロダーから形成された超平坦マスク)を使用して較正することができる。基準マークの空中像は、ウエーハステージ干渉式システムIFを使用して一定位置において基準系RFに対して保持される基板テーブルWTに装着された透過型イメージセンサで検出される。一方で、基準マスクは、マスクステージにおいて、連続したマーカーに移動し、エンコーダーの位置が、注目されかつ基準マスク上のマーカーの前較正位置と比較される。基準マスク上のマーカーの位置は、オフラインでかつ定期的に、絶対長さ基準に対して前較正することができる。 【0058】走査方向におけるエンコーダーのX依存性は、マスクおよび基板テーブルWTを同等量だけ偏心位置に変位し、複数の偏心位置で上記手順を繰返すことによって、較正することもできる。」 これらの記載事項を含む引用文献1全体の記載及び当業者の技術常識を総合すれば、引用文献1には、以下の発明が記載されている。 「集積回路およびリトグラフィー液晶デイスプレーパネルの製造のためのマイクロリトグラフィーのテーブルのエンコーダ測定装置を用いた位置決め方法であって、 X-Y面の測定グリッドがマスクテーブル上に永続的に固定されているエンコーダーシステムを直接走査(Y)方向において真空干渉計のような長さ基準系に対して較正することができ、 エンコーダー格子は、1回測定であり、制御された状態で機械外において実施することができるオフライン較正のために、読取りヘッドと共に、直接走査(Y)方向において、真空干渉計のような長さ基準系に対して較正することができ、このようにして得られた誤差マップは、ルックアップ誤差表に、あるいは、機械で実施された誤差訂正ルーチンにおける多項式の係数として記憶することができる、 位置決め方法。」(以下「引用発明」という。) 3.対比 補正発明と引用発明を対比する。 (1)引用発明の「テーブル」、「直接走査(Y)方向」及び「テーブルの位置決め方法」は、それぞれ補正発明の「移動体」、「一軸方向」及び「移動体駆動方法」に相当する。 (2)本願明細書を参酌すれば、補正発明の「第1計測装置」及び「第1計測装置に比べて計測値の短期安定性が優れる第2計測装置」には、それぞれ「干渉計」及び「エンコーダシステム」がその実施例として含まれていることから、引用発明の「真空干渉計」及び「エンコーダーシステム」は、それぞれ補正発明の「第1計測装置」及び「第1計測装置に比べて計測値の短期安定性が優れる第2計測装置」に相当する。 (3)引用発明の「1回測定であり、制御された状態で機械外において実施することができるオフライン較正のために、読取りヘッドと共に、直接走査(Y)方向において、真空干渉計のような長さ基準系に対して較正すること」は、「X-Y面の測定グリッドがマスクテーブル上に永続的に固定されている」ことから、当業者の技術常識に照らせば、補正発明の「前記一軸方向に前記移動体を駆動し、この駆動中に前記移動体の前記一軸方向の位置情報を、第1計測装置と該第1計測装置に比べて計測値の短期安定性が優れる第2計測装置とを用いて計測」する工程に相当する。そして、同「このようにして得られた誤差マップは、ルックアップ誤差表に、あるいは、機械で実施された誤差訂正ルーチンにおける多項式の係数として記憶すること」は、同じく「該計測結果に基づいて、前記第2計測装置の計測値を補正する補正情報を決定する、較正動作を実行する」工程に相当する。 したがって、引用発明は補正発明の「第1工程」に相当する工程を有する。 (4)引用発明は、補正発明の「第2計測装置」に相当する「エンコーダ測定装置」を用いた位置決め方法であるから、引用発明が補正発明の「前記第2計測装置の計測値と前記補正情報とに基づいて、前記移動体を前記一軸方向に駆動する第2工程」に相当する工程を含むことは明らかである。 してみると両者は、 「移動体を少なくとも一軸方向に駆動する移動体駆動方法であって、 前記一軸方向に前記移動体を駆動し、この駆動中に前記移動体の前記一軸方向の位置情報を、第1計測装置と該第1計測装置に比べて計測値の短期安定性が優れる第2計測装置とを用いて計測し、該計測結果に基づいて、前記第2計測装置の計測値を補正する補正情報を決定する、較正動作を実行する第1工程と; 前記第2計測装置の計測値と前記補正情報とに基づいて、前記移動体を前記一軸方向に駆動する第2工程と;を含む移動体駆動方法。」 の点で一致し、相違点はない。 4.判断 したがって、補正発明は引用発明であるから、特許法第29条第1項第3号に規定する発明に該当し、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 なお、請求人は上記回答書(「第1 手続の経緯」参照)において「引用文献1には、干渉計とエンコーダとを同時に使用することについて図面にさえ示されておらず、干渉計とエンコーダとの同時使用を前提としていないことは明らかです。また、引用文献1には、少なくとも装置におけるその場での較正の実施に関して、どのようにしてエンコーダ(システム)を較正するのかについて、具体的には、全く記載がありません。また、引用文献1には、エンコーダ(システム)の較正に際しての計測データの取得方法についての開示すらありません。」と主張するが、上記のとおり、引用発明は「エンコーダー格子は、1回測定であり、制御された状態で機械外において実施することができるオフライン較正のために、読取りヘッドと共に、直接走査(Y)方向において、真空干渉計のような長さ基準系に対して較正する」のであるから、較正動作を実行する第1工程において「干渉計とエンコーダとを同時に使用すること」は明らかである。また、「エンコーダ(システム)の較正に際しての計測データの取得方法について」も、上記のとおり、補正発明と対比して格別の差異はない。 また、たとえ請求人の主張する「干渉計とエンコーダとの同時使用」の指し示す技術的意味が、本願明細書等に記載された実施形態の露光装置100のような露光装置内での使用を意味するものであったとしても、引用文献1には「干渉計とエンコーダとの露光装置内での使用」が示唆(上記摘記事項(1f)の段落【0054】の「理想的には、オフライン較正プラットフォームにおいてだけでなく、機械内のその場でも実施されるべきである。」及び、同段落【0056】の「装置におけるその場での較正を実施するために、基準干渉計システムを設けることが好ましいが、スペース条件は、一般にこれを不可能とする。」の記載参照)されており、スペース条件を考慮しなければ引用発明が露光装置内で使用可能なことは明らかであって、それは、補正発明においても同様である。 したがって、請求人の上記主張には理由がない。 5.小括 以上のとおり、本件補正は、平成18年法律第55号改正附則第3条第1項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第17条の2第5項の規定において準用する同法第126条第5項の規定に違反するので、同法第159条第1項において読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下すべきものである。 よって、上記[補正の却下の決定の結論]のとおり、決定する。 第3 本願発明について 平成24年9月7日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲の請求項1に係る発明は、平成24年4月17日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項1に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。 「移動体を少なくとも一軸方向に駆動する移動体駆動方法であって、 前記移動体を駆動しつつ、前記移動体の前記一軸方向の位置情報を、第1計測装置と該第1計測装置に比べて計測値の短期安定性が優れる第2計測装置とを用いて計測し、前記第1、第2の計測装置の計測結果に基づいて、前記第2計測装置の計測値を補正する補正情報を決定する、較正動作を実行する第1工程と; 前記第2計測装置の計測値と前記補正情報とに基づいて、前記移動体を前記一軸方向に駆動する第2工程と;を含む移動体駆動方法。」(以下「本願発明」という。) 1.引用刊行物 原査定に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物及びその記載内容は、前記「第2」の「2.」に記載したとおりである。 2.対比 本願発明は、前記「第2」で検討した補正発明の「前記一軸方向に」(前記移動体を駆動し、)「この駆動中に」という事項を削除したものである。 そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、更に限定したものに相当する補正発明が、前記「第2」の「4.」に記載したとおり引用発明であるから、本願発明も、同様の理由により、引用発明である。 第5 むすび 以上のとおり、本願発明は引用発明であり、特許法第29条第1項3号に規定する発明に該当し特許を受けることができないから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶されるべきものである。 よって、結論のとおり審決する。 |
| 審理終結日 | 2013-03-12 |
| 結審通知日 | 2013-03-14 |
| 審決日 | 2013-03-26 |
| 出願番号 | 特願2007-554984(P2007-554984) |
| 審決分類 |
P
1
8・
113-
Z
(H01L)
P 1 8・ 575- Z (H01L) |
| 最終処分 | 不成立 |
| 前審関与審査官 | 岩本 勉 |
| 特許庁審判長 |
神 悦彦 |
| 特許庁審判官 |
伊藤 昌哉 森林 克郎 |
| 発明の名称 | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及びパターン形成装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| 代理人 | 立石 篤司 |