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| 審決分類 |
審判 査定不服 5項独立特許用件 特許、登録しない。 B41J 審判 査定不服 特174条1項 特許、登録しない。 B41J 審判 査定不服 2項進歩性 特許、登録しない。 B41J 審判 査定不服 (159条1項、163条1項、174条1項で準用) 特許、登録しない。 B41J |
|---|---|
| 管理番号 | 1384773 |
| 総通号数 | 6 |
| 発行国 | JP |
| 公報種別 | 特許審決公報 |
| 発行日 | 2022-06-24 |
| 種別 | 拒絶査定不服の審決 |
| 審判請求日 | 2021-03-03 |
| 確定日 | 2022-05-23 |
| 事件の表示 | 特願２０１６−１５４９０３「インクジェットプリントヘッドおよびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成３０年 ２月 ８日出願公開、特開２０１８− ２０５３８〕について、次のとおり審決する。 |
| 結論 | 本件審判の請求は、成り立たない。 |
| 理由 |
第１ 手続の経緯 本願は，平成２８年８月５日に出願したものであって，令和２年６月２日付けで拒絶理由が通知され，同年７月２２日に意見書が提出され，同年１２月２日付けで拒絶査定がなされ，これに対し，令和３年３月３日に拒絶査定不服審判の請求がなされると同時に手続補正書が提出されたものである。 第２ 令和３年３月３日に提出された手続補正書による補正についての補正却下の決定 ［補正却下の決定の結論］ 令和３年３月３日に提出された手続補正書による補正（以下「本件補正」という。）を却下する。 ［理由］ １ 補正の内容 本件補正は，特許請求の範囲について，下記（１）に示す本件補正前の（すなわち，平成２８年８月５日の特許出願時の）特許請求の範囲の請求項１乃至１４を，下記（２）に示す本件補正後の特許請求の範囲の請求項１乃至７へと補正するものである。（下線は審決で付した。以下同じ。） （１）本件補正前の特許請求の範囲 「【請求項１】 圧力室を含むインク流路を有するアクチュエータ基板と， 前記圧力室上に配置されかつ前記圧力室の天面部を区画する可動膜を含む可動膜形成層と， 前記可動膜上に形成された圧電素子と， 前記アクチュエータ基板の前記可動膜側の表面である第１表面とは反対側の第２表面に接着剤によって接合され，前記圧力室の底面部を区画し，前記圧力室に連通するノズル孔を有するノズル基板とを含み， 前記アクチュエータ基板の側面と前記ノズル基板の側面とが，前記可動膜の法線方向から見た平面視において全方位で面一である，インクジェットプリントヘッド。 【請求項２】 前記ノズル孔は，前記圧力室に臨む凹部と，前記凹部の底面に形成され，前記凹部の底壁を貫通するインク吐出通路とを有する，請求項１に記載のインクジェットプリントヘッド。 【請求項３】 前記凹部は，前記圧力室側から前記インク吐出通路に向かって横断面が徐々に小さくなる順テーパ状凹部である，請求項２に記載のインクジェットプリントヘッド。 【請求項４】 前記凹部は，前記圧力室側から前記インク吐出通路に向かって横断面が徐々に大きくなる逆テーパ状凹部である，請求項２に記載のインクジェットプリントヘッド。 【請求項５】 前記ノズル孔は，横断面積が長さ方向にわたってほぼ一定であるストレート孔から構成されている，請求項２に記載のインクジェットプリントヘッド。 【請求項６】 前記ノズル基板は，Ｓｉ基板からなる主基板と，前記主基板上に形成されたＳｉＯ２膜と，前記ＳｉＯ２膜上に形成された撥水膜とからなり，前記主基板における前記ＳｉＯ２膜とは反対側の表面が，前記アクチュエータ基板の前記第２表面に接合されている，請求項１〜５のいずれか一項に記載のインクジェットプリントヘッド。 【請求項７】 前記圧電素子を覆うように前記アクチュエータ基板に接着剤によって接合される保護基板をさらに含み， 前記保護基板は，前記アクチュエータ基板側に向かって開口しかつ前記圧電素子を収容する収容凹所と，平面視において前記収容凹所の一端の外方に形成され，前記インク流路の一端部に連通するインク供給路とを有している，請求項１〜６のいずれか一項に記載のインクジェットプリントヘッド。 【請求項８】 前記アクチュエータ基板の側面と前記保護基板の側面とが，前記平面視において全方位で面一である，請求項７に記載のインクジェットプリントヘッド。 【請求項９】 圧力室を有するアクチュエータ基板，前記圧力室の天面部を区画する可動膜および前記可動膜上に形成された圧電素子を有する基板アセンブリと，前記アクチュエータ基板に接合され，前記圧力室の底面部を区画し，前記圧力室に連通するノズル孔を有するノズル基板とを含むインクジェットプリントヘッドの製造方法であって， 前記アクチュエータ基板の元基板であるアクチュエータウエハを含み，複数の前記基板アセンブリを含む基板アセンブリ集合体を形成する工程と， 前記ノズル基板の元基板であるノズルウエハを含み，複数の前記ノズル基板を含むノズル基板集合体を形成する工程と， 前記基板アセンブリ集合体に前記ノズル基板集合体を接合することにより，インクジェットプリントヘッド集合体を形成する工程と， 前記インクジェットプリントヘッド集合体をダイシングによって個片化することにより，複数のインクジェットプリントヘッドを製造する工程とを含む，インクジェットプリントヘッドの製造方法。 【請求項１０】 前記ノズル基板集合体を形成する工程は， 前記ノズルウエハの一方の表面側に撥水膜を形成する撥水膜形成工程と， 前記ノズルウエハを前記撥水膜側とは反対側から研磨して，前記ノズルウエハを所定厚まで薄膜化する薄膜化工程と， フォトリソグラフィおよびエッチングにより，薄膜化工程後の前記撥水膜付きノズルウエハに，当該撥水膜付きノズルウエハを厚さ方向に貫通するノズル孔を形成するノズル孔形成工程とを含む，請求項９に記載のインクジェットプリントヘッドの製造方法。 【請求項１１】 前記ノズル基板集合体を形成する工程は， 前記ノズルウエハの両面に酸化膜を形成する酸化膜形成工程と， 前記ノズルウエハの一方の表面側の酸化膜上に撥水膜を形成する撥水膜形成工程と， 前記ノズルウエハを前記撥水膜が形成されていない方の酸化膜側から研磨して，前記ノズルウエハを所定厚まで薄膜化する薄膜化工程と， フォトリソグラフィおよびエッチングにより，薄膜化工程後の前記撥水膜付きノズルウエハに，当該撥水膜付きノズルウエハを厚さ方向に貫通するノズル孔を形成するノズル孔形成工程とを含む，請求項９に記載のインクジェットプリントヘッドの製造方法。 【請求項１２】 前記ノズル孔形成工程では，横断面積が長さ方向にわたってほぼ一定のストレート孔からなるノズル孔が形成される，請求項１０または１１に記載のインクジェットプリントヘッドの製造方法。 【請求項１３】 前記ノズル孔形成工程は，前記撥水膜付きノズルウエハにおける前記撥水膜側とは反対側の表面に，前記撥水膜に向かって横断面積が徐々に小さくなる順テーパ状凹部を形成する工程と， 前記順テーパ状凹部の底面に，前記順テーパ状凹部の底壁を貫通するインク吐出通路を形成する工程とを含む，請求項１０または１１に記載のインクジェットプリントヘッドの製造方法。 【請求項１４】 前記ノズル孔形成工程は，前記撥水膜付きノズルウエハにおける前記撥水膜側とは反対側の表面に，前記撥水膜に向かって横断面積が徐々に大きくなる逆テーパ状凹部を形成する工程と， 前記逆テーパ状凹部の底面に，前記順テーパ状凹部の底壁を貫通するインク吐出通路を形成する工程とを含む，請求項１０または１１に記載のインクジェットプリントヘッド用のノズル基板の製造方法。」 （２）本件補正後の特許請求の範囲 「【請求項１】 圧力室を含むインク流路を有するアクチュエータ基板と， 前記圧力室上に配置されかつ前記圧力室の天面部を区画する可動膜を含む可動膜形成層と， 前記可動膜上に形成された圧電素子と， 前記アクチュエータ基板の前記可動膜側の表面である第１表面とは反対側の第２表面に接着剤によって接合され，前記圧力室の底面部を区画し，前記圧力室に連通するノズル孔を有するノズル基板とを含み， 前記アクチュエータ基板の側面と前記ノズル基板の側面とが，前記可動膜の法線方向から見た平面視において全方位で面一であり， 前記ノズル基板が，前記アクチュエータ基板における前記可動膜形成層とは反対側の表面に張り合わされたシリコン基板と，前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板とは反対側の表面に形成された酸化シリコン膜と，前記酸化シリコン膜における前記シリコン基板とは反対側の表面に形成された撥水膜とからなり， 前記ノズル孔は，前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板側の表面から前記シリコン基板の厚さ途中までの領域に形成され，前記圧力室に連通する円錐台状の凹部と，前記撥水膜における前記酸化シリコン膜とは反対側の表面から前記凹部の底部に連通するストレート状のインク吐出通路とを含む，インクジェットプリントヘッド。 【請求項２】 前記凹部は，前記圧力室側から前記インク吐出通路に向かって横断面が徐々に小さくなる順テーパ状凹部である，請求項１に記載のインクジェットプリントヘッド。 【請求項３】 前記凹部は，前記圧力室側から前記インク吐出通路に向かって横断面が徐々に大きくなる逆テーパ状凹部である，請求項１に記載のインクジェットプリントヘッド。 【請求項４】 前記圧電素子を覆うように前記アクチュエータ基板に接着剤によって接合される保護基板をさらに含み， 前記保護基板は，前記アクチュエータ基板側に向かって開口しかつ前記圧電素子を収容する収容凹所と，平面視において前記収容凹所の一端の外方に形成され，前記インク流路の一端部に連通するインク供給路とを有している，請求項１〜３のいずれか一項に記載のP.2インクジェットプリントヘッド。 【請求項５】 前記アクチュエータ基板の側面と前記保護基板の側面とが，前記平面視において全方位で面一である，請求項４に記載のインクジェットプリントヘッド。 【請求項６】 圧力室を有するアクチュエータ基板，前記圧力室の天面部を区画する可動膜および前記可動膜上に形成された圧電素子を有する基板アセンブリと，前記アクチュエータ基板に接合され，前記圧力室の底面部を区画し，前記圧力室に連通するノズル孔を有するノズル基板とを含むインクジェットプリントヘッドの製造方法であって， 前記アクチュエータ基板の元基板であるアクチュエータウエハを含み，複数の前記基板アセンブリを含む基板アセンブリ集合体を形成する工程と， 前記ノズル基板の元基板であるノズルウエハを含み，複数の前記ノズル基板を含むノズル基板集合体を形成する工程と， 前記基板アセンブリ集合体に前記ノズル基板集合体を接合することにより，インクジェットプリントヘッド集合体を形成する工程と， 前記インクジェットプリントヘッド集合体をダイシングによって個片化することにより，複数のインクジェットプリントヘッドを製造する工程とを含み， 前記ノズル基板が，前記アクチュエータ基板における前記可動膜形成層とは反対側の表面に張り合わされたシリコン基板と，前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板とは反対側の表面に形成された酸化シリコン膜と，前記酸化シリコン膜における前記シリコン基板とは反対側の表面に形成された撥水膜とからなり， 前記ノズル孔は，前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板側の表面から前記シリコン基板の厚さ途中までの領域に形成され，前記圧力室に連通する円錐台状の凹部と，前記撥水膜における前記酸化シリコン膜とは反対側の表面から前記凹部の底部に連通するストレート状のインク吐出通路とを含む，インクジェットプリントヘッドの製造方法。 【請求項７】 前記ノズル基板集合体を形成する工程は， 前記ノズルウエハの両面に酸化膜を形成する酸化膜形成工程と， 前記ノズルウエハの一方の表面側の酸化膜上に撥水膜を形成する撥水膜形成工程と， 前記ノズルウエハを前記撥水膜が形成されていない方の酸化膜側から研磨して，前記ノズルウエハを所定厚まで薄膜化する薄膜化工程と， フォトリソグラフィおよびエッチングにより，薄膜化工程後の前記撥水膜付きノズルウエハに，前記凹部と前記インク吐出通路とからなり，当該撥水膜付きノズルウエハを厚さ方向に貫通するノズル孔を形成するノズル孔形成工程とを含む，請求項６に記載のインクジェットプリントヘッドの製造方法。」 ２ 補正の適否（新規事項の追加の有無について）について 本件補正により，本件補正後の特許請求の範囲の請求項１及び請求項１を引用する請求項２乃至５の「ノズル孔」は，「前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板側の表面から前記シリコン基板の厚さ途中までの領域に形成され，前記圧力室に連通する円錐台状の凹部」との事項が特定された。 そうすると，本件補正後の特許請求の範囲の請求項３の「凹部」は，「『シリコン基板における前記アクチュエータ基板側の表面から前記シリコン基板の厚さ途中までの領域に形成され，前記圧力室に連通する円錐台状』であるとともに，『前記圧力室側から前記インク吐出通路に向かって横断面が徐々に大きくなる逆テーパ状凹部』」(以下「補正事項」という。)であるものとなった。 これに対し，本願の願書に最初に添付した明細書，特許請求の範囲又は図面(以下「当初明細書等」という。)には，以下の記載がある。 「【００２２】 ノズル基板３には，ノズル孔２０が形成されている。ノズル孔２０は，圧力室７に臨む凹部２０ａと，凹部２０ａの底面に形成されたインク吐出通路２０ｂとからなる。インク吐出通路２０ｂは，凹部２０ａの底壁を貫通しており，圧力室７とは反対側にインク吐出口２０ｃを有している。したがって，圧力室７の容積変化が生じると，圧力室７に溜められたインクは，インク吐出通路２０ｂを通り，吐出口８３から吐出される。 【００２３】 この実施形態では，凹部２０ａは，シリコン基板３０の表面から酸化シリコン膜３１側に向かって横断面が徐々に小さくなる円錐台状に形成されている。インク吐出通路２０ｂは，横断面が円形のストレート孔から構成されている。この実施形態では，凹部２０ａは，シリコン基板３０の厚さ途中まで形成されており，インク吐出通路２０ｂは，シリコン基板３０に形成されている部分と，酸化シリコン膜３１および撥水膜３２に形成された部分とからなる。」 「【図５】  」 当初明細書等に記載された「ノズル孔」の「凹部」は，シリコン基板の厚さ途中までの領域に形成され，圧力室に連通しインク吐出通路に向かって横断面が徐々に小さくなる円錐台状の凹部は記載されているものの，シリコン基板の厚さ途中までの領域に形成され，圧力室に連通しインク吐出通路に向かって横断面が徐々に大きくなる逆テーパ状凹部は，記載も示唆もされていない。 そうすると，補正事項は，当初明細書等に記載されているとはいえないし，技術常識を勘案しても，その点が当初明細書等の記載から導き出せる根拠も見出せない。 以上のことから，補正事項である「『シリコン基板における前記アクチュエータ基板側の表面から前記シリコン基板の厚さ途中までの領域に形成され，前記圧力室に連通する円錐台状』であるとともに，『前記圧力室側から前記インク吐出通路に向かって横断面が徐々に大きくなる逆テーパ状凹部』」との事項は，当初明細書等には記載がなく，当初明細書等の記載から自明なものともいえないから，本件補正は，当初明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において，新たな技術的事項を導入するものである。 したがって，本件補正は，当初明細書等に記載された事項の範囲内においてするものとはいえず，特許法17条の2第3項に規定する要件を満たしていない。 以上のとおり，本件補正は特許法第17条の2第3項の規定に違反するので，同法第159条第1項の規定において読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下すべきものである。 ３ 独立特許要件について 以上のように，本件補正は，特許法第17条の2第3項の規定に違反するものであるが，仮に本件補正に含まれる上記補正事項が当初明細書等に記載された事項の範囲内においてするものとして補正されたとした場合には，請求項１に係る補正は，同条第５項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるので，本件補正後の請求項１に係る発明（令和３年３月３日に提出された手続補正書の特許請求の範囲に記載された事項により特定される，上記「１ （２）本件補正後の特許請求の範囲」の【請求項１】乃至【請求項７】（以下，それぞれ「本願補正発明１」乃至「本願補正発明７」という。）における本願補正発明１が，特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第17条の2第6項において準用する同法第126条第7項の規定に適合するか）について，以下に検討する。 （１）本願補正発明１ 本願補正発明１は，上記「１ （２）本件補正後の特許請求の範囲」の【請求項１】に記載したとおりのものと認める。 （２）引用例 原査定の拒絶の理由において引用され。本願の出願日前に公報が発行された特開２００７−６６９５１号公報（以下「引用例」という。）には，次の事項が記載されている。 ア 「【技術分野】 【０００１】 本発明は，積層体の加工方法，積層体，デバイスの製造方法，デバイス，インクジェット記録装置に関する。」 イ 「【００４８】 （第１実施形態） 本実施形態では，液滴吐出法によって配置された充填部材を有する積層体について説明する。 【００４９】 図３は，本実施形態における積層体Ｐを示す概略図である。 【００５０】 図３において，積層体Ｐは，基板Ｐ１，基板Ｐ２，基板Ｐ３とで構成されている。基板Ｐ１は，空隙部１１ａを有しており，この空隙部１１ａに充填部材１１が充填されている。基板Ｐ２の下側には，配線１２が形成されている。貼り合せ基板Ｑは，基板Ｐ１と基板Ｐ２とで構成されている。なお，これら基板Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３の貼り付けには接着剤が使用されている。 【００５１】 レーザ光５は集光素子としてのレンズ６で集光され，レンズ６で集光されたレーザ光５は，積層体Ｐの下面側に照射される。照射されたレーザ光５は，積層体Ｐの深さ方向全域で焦点位置が合うように配置されている。レーザ光５が照射された基板Ｐ１，基板Ｐ２，基板Ｐ３の箇所には，多光子吸収という現象を利用することにより，材料変質部７を形成している。なお，外部から応力を加えると，材料変質部７の部分は改質されているから，材料変質部７に沿って積層体Ｐを切断・分割することができる。」 ウ 「【００６０】 次に，本実施形態における積層体の切断・分割方法について以下に示す。 【００６１】 図６（ａ）〜（ｈ）は，積層体の分割工程を示す図であり，図７は，積層体の分割工程の手順を示す概略フローチャートである。 【００６２】 図６，図７を参照して，本発明の積層体Ｐの切断・分割方法について説明する。なお，本実施形態の積層体Ｐの切断・分割方法は，貼り合せ工程１，機能液配置工程，乾燥工程，固化処理工程，貼り合せ工程２，改質層形成工程，分割工程から概略構成される。以下，各工程について詳細に説明する。なお，積層体Ｐを切断・分割して形成される分割後の小片は，インクジェットヘッド５０である。 （貼り合せ工程１） 【００６３】 図７のステップＳ１では，図６（ａ）に示すように，空隙部１１ａを有する基板Ｐ１の下側に，配線１２が形成されている基板Ｐ２を貼り合せて，貼り合せ基板Ｑを形成する。基板Ｐ１と基板Ｐ２との貼り合せ方法は，例えば接着剤などを使用して貼り合せることができる。なお，基板Ｐ１，Ｐ２の材料は，シリコンである。基板Ｐ１，Ｐ２の厚さは，各々１００μｍである。」 エ 「【００８９】 図１１は，本発明の実施形態１および実施形態２の形成方法に係るインクジェットヘッドを示す説明図である。 【００９０】 図１１に示すように，インクジェットヘッド５０は外形が，下側からノズルプレート５１，アクチュエータ基板５２，駆動膜５３，封止板５４，コンプライアンス基板５５から構成されており，これらは互いに接着剤６６等で接合されている。駆動膜５３の一部である駆動部５３ａには電圧を印加するための配線５６が接続されている。また，アクチュエータ基板５２，駆動膜５３，封止板５４には貫通穴が形成されており，この貫通穴の底部がノズルプレート５１によって塞がれることによりリザーバ５７が形成されている。また，コンプライアンス基板５５のリザーバ５７に対応する部分には，外部からリザーバ５７にインク等の液体を供給するための液体供給穴５８が形成されている。 【００９１】 アクチュエータ基板５２の上面の駆動膜５３に接する部分には，弾性膜５９が形成されており，この弾性膜５９は酸化シリコン層５９ａと酸化ジルコニウム層５９ｂで構成されている。なお，弾性膜５９は必ずしも酸化シリコン層５９ａと酸化ジルコニウム層５９ｂで構成する必要はない。アクチュエータ基板５２のノズルプレート５１側には複数の圧力室６０となる凹部が形成されており，またノズルプレート５１には，各圧力室６０に対応して液滴を吐出するためのノズル孔６１が形成されている。さらに，封止板５４の駆動膜５３側には，駆動部５３ａ及び配線５６を保護するための封止部６２となる凹部が形成されている。 【００９２】 アクチュエータ基板５２には，リザーバ５７と各圧力室６０とを連結するオリフィス６３が形成されており，駆動膜５３の一部である駆動部５３ａは各圧力室６０の上部に個別に設けられている。 【００９３】 また，インクジェットヘッド５０では，弾性膜５９におけるリザーバ５７に面する位置に押さえ部６４が形成されている。この押さえ部６４は，単結晶シリコンからなるアクチュエータ基板５２にボロンを高濃度にドープして形成されており，アクチュエータ基板５２の一部として形成されている。押さえ部６４は，弾性膜５９のオリフィス６３の部分に凸状に形成されているが，少なくとも弾性膜５９におけるリザーバ５７に面する位置に形成してあれば，リザーバ５７側や圧力室６０側にはみ出る形で形成してもよい。 【００９４】 ここで，インクジェットヘッド５０の動作について説明する。なお，インクジェットヘッド５０は，駆動部５３ａが圧電方式で駆動するものである。 【００９５】 駆動膜５３は，下面側（アクチュエータ基板５２側）から，チタン，イリジウム，白金等を積層した下電極，チタン酸ジルコン酸鉛等からなる圧電素子（ＰＺＴ，Ｐｉｅｚｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｔｒａｎｃｅｄｕｃｅｒ Ｍａｔｅｒｉａｌ），及びイリジウム等からなる上電極から構成されている。駆動部５３ａの上電極及び下電極に配線５６を介して電圧を印加すると，圧電素子が例えば上側（封止板５４側）にたわみ変形を起こす。圧電素子がたわみ変形するのに伴って，圧電素子と接合されている下電極及び弾性膜５９もたわむようになっている。このとき，インク等の液体が外部から液体供給穴５８からリザーバ５７に供給されており，この液体は圧電素子がたわむとオリフィス６３を通って圧力室６０に流れ込む。そして，上電極及び下電極に印加された電圧を除去すると，圧電素子が元の状態に戻り圧力室の圧力が高まる。これにより，液体がノズル孔６１から液滴として吐出される。なお，圧電素子は下側にたわむものであっても，同様にインク等の液体を液滴として吐出させることができる。」 そうすると，上記ア乃至エの記載事項から，引用例には，次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。 「積層体を切断・分割して形成される分割後の小片である，インクジェットヘッド５０であって， インクジェットヘッド５０は，下側からノズルプレート５１，アクチュエータ基板５２，駆動膜５３，封止板５４，コンプライアンス基板５５が互いに接着剤６６等で接合されており， アクチュエータ基板５２の上面の駆動膜５３に接する部分には，弾性膜５９が形成されており，この弾性膜５９は酸化シリコン層５９ａと酸化ジルコニウム層５９ｂで構成され， アクチュエータ基板５２のノズルプレート５１側には複数の圧力室６０となる凹部が形成されており，またノズルプレート５１には，各圧力室６０に対応して液滴を吐出するためのノズル孔６１が形成され， アクチュエータ基板５２には，リザーバ５７と各圧力室６０とを連結するオリフィス６３が形成されており，駆動膜５３の一部である駆動部５３ａは各圧力室６０の上部に個別に設けられ， 駆動膜５３は，下面側から，下電極，圧電素子，及び上電極から構成された， インクジェットヘッド５０。」 （３）対比 そこで，本願補正発明１と引用発明とを対比すると， ア 後者の「圧力室６０」，「アクチュエータ基板５２」，「弾性膜５９」，「圧電素子」，「『各圧力室６０に対応して液滴を吐出するためのノズル孔６１が形成され』た『ノズルプレート５１』」は，前者の「圧力室」，「アクチュエータ基板」，「可動膜を含む可動膜形成層」，「圧電素子」，「圧力室に連通するノズル孔を有するノズル基板」に相当する。 イ 後者の「アクチュエータ基板５２」には，複数の圧力室６０となる凹部が形成されており，かつ，リザーバ５７と各圧力室６０とを連結するオリフィス６３が形成されていることから，後者の「『複数の圧力室６０』及び『オリフィス６３』」は，前者の「インク流路」に相当する。 ウ 後者の「弾性膜５９」は，アクチュエータ基板５２の上面の駆動膜５３に接する部分に形成されており，駆動膜５３の一部である駆動部５３ａは各圧力室６０の上部に個別に設けられるものであるから，前者の「可動膜を含む可動膜形成層」と後者の「弾性膜５９」とは，「圧力室上に配置されかつ前記圧力室の天面部を区画する」ものとの概念で一致する。 エ 後者の「インクジェットヘッド５０」のアクチュエータ基板５２の上面の圧電素子から構成される駆動膜５３に接する部分には，弾性膜５９が形成されているから，前者の「圧電素子」と後者の「圧電素子」とは，「可動膜上に形成された」ものとの概念で一致する。 したがって，両者は，以下の一致点で一致し，以下の相違点で相違する。 ［一致点］ 「圧力室を含むインク流路を有するアクチュエータ基板と， 前記圧力室上に配置されかつ前記圧力室の天面部を区画する可動膜を含む可動膜形成層と， 前記可動膜上に形成された圧電素子と， 前記アクチュエータ基板の前記可動膜側の表面である第１表面とは反対側の第２表面に接着剤によって接合され，前記圧力室の底面部を区画し，前記圧力室に連通するノズル孔を有するノズル基板とを含み， 前記アクチュエータ基板の側面と前記ノズル基板の側面とが，前記可動膜の法線方向から見た平面視において全方位で面一である，インクジェットプリントヘッド。」 ［相違点１］ 本願補正発明１の「インクジェットプリントヘッド」は，「アクチュエータ基板の側面と前記ノズル基板の側面とが，前記可動膜の法線方向から見た平面視において全方位で面一」であるのに対し，引用発明の「インクジェットヘッド５０」は，積層体を切断・分割して形成される分割後の小片であり，アクチュエータ基板５２の側面とノズルプレート５１の側面とが，駆動膜５３の法線方向から見た平面視において全方位で面一であるのか否か定かでない点。 ［相違点２］ 本願補正発明１は，「前記ノズル基板が，前記アクチュエータ基板における前記可動膜形成層とは反対側の表面に張り合わされたシリコン基板と，前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板とは反対側の表面に形成された酸化シリコン膜と，前記酸化シリコン膜における前記シリコン基板とは反対側の表面に形成された撥水膜とからなり，前記ノズル孔は，前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板側の表面から前記シリコン基板の厚さ途中までの領域に形成され，前記圧力室に連通する円錐台状の凹部と，前記撥水膜における前記酸化シリコン膜とは反対側の表面から前記凹部の底部に連通するストレート状のインク吐出通路とを含む」ものであるのに対し，引用発明の「ノズルプレート５１」及び「ノズル孔６１」が，材料及び形状が定かでない点。 （４）判断 上記各相違点について，以下，検討する。 ア ［相違点１］について 引用発明の「インクジェットヘッド５０」は，積層体を切断・分割して形成される分割後の小片であるから，アクチュエータ基板５２の側面とノズルプレート５１の側面とが，駆動膜５３の法線方向から見た平面視において全方位で面一となることは，明らかといえるか，少なくとも，アクチュエータ基板５２の側面とノズルプレート５１の側面とが，駆動膜５３の法線方向から見た平面視において全方位で面一とすることは，当業者にとって何ら困難性のないことである。 してみると，上記相違点１に係る本願補正発明１の発明特定事項は，引用発明から，当業者が容易に想到し得るものである。 イ ［相違点２］について インクジェットプリントヘッドにおいて，ノズル基板が，アクチュエータ基板における可動膜形成層とは反対側の表面に張り合わされたシリコン基板と，前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板とは反対側の表面に形成された酸化シリコン膜と，前記酸化シリコン膜における前記シリコン基板とは反対側の表面に形成された撥水膜とからなり，ノズル孔は，前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板側の表面から前記シリコン基板の厚さ途中までの領域に形成され，前記圧力室に連通する円錐台状の凹部と，前記撥水膜における前記酸化シリコン膜とは反対側の表面から前記凹部の底部に連通するストレート状のインク吐出通路とを含むものは，本願の出願日時点で周知の技術手段であり（例えば，特開２０１４−１２４８８０号公報（特に，【００１７】及び【図１】参照。），以下「周知技術」という。），上記相違点２に係る本願補正発明１の発明特定事項は，周知技術といえるものである。 インクジェットヘッドの分野において，正確なインク滴の吐出と，メンテナンスの面倒を解消することは，内在する自明の課題といえるものであるところからすると，引用発明のノズルプレート５１に，前記周知技術を適用することは，当業者が容易になし得るものであるところ，引用発明に，前記周知技術を適用し，上記相違点２に係る本願補正発明１の発明特定事項とすることは，当業者が容易に想到し得るものである。 そして，本願補正発明１の発明特定事項によって奏される効果も，引用発明から，当業者が予測しうる範囲内のものである。 よって，本願補正発明１は，引用発明及び上記周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第29条第2項の規定により特許出願の際，独立して特許を受けることが出来ない。 （５）むすび 以上のとおり，本件補正は，特許法第17条の2第3項の規定に違反するものであり，同法第159条第1項で読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下されるべきものである。 また，本件補正は，特許法第17条の2第5項第2号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当し，同条第６項において準用する同法第126条第7項の規定に違反するので，同法第159条第1項の規定にお いて読み替えて準用する同法第53条第1項の規定により却下すべきものである。 よって，上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。 第３ 本願発明について １ 本願発明 本件補正は上記第２のとおり却下されたので，本願の請求項１に係る発明は，平成２８年８月５日の特許出願時の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項によって特定される次のとおりのものである。 「圧力室を含むインク流路を有するアクチュエータ基板と， 前記圧力室上に配置されかつ前記圧力室の天面部を区画する可動膜を含む可動膜形成層と， 前記可動膜上に形成された圧電素子と， 前記アクチュエータ基板の前記可動膜側の表面である第１表面とは反対側の第２表面に接着剤によって接合され，前記圧力室の底面部を区画し，前記圧力室に連通するノズル孔を有するノズル基板とを含み， 前記アクチュエータ基板の側面と前記ノズル基板の側面とが，前記可動膜の法線方向から見た平面視において全方位で面一である，インクジェットプリントヘッド。」（以下「本願発明」という。） ２ 原査定の拒絶の理由の概要 本願発明に対する原査定の拒絶の理由は，概略次の理由を含んでいる。 （進歩性）この出願の請求項１に係る発明は、その出願前に日本国内又 は外国において、頒布された特開２００７−６６９５１号公報に記載された発明又は電気通信回線を 通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技 術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたもので あるから、特許法第29条第2項の規定により特許を受けることができない。 ３ 引用例 令和２年６月２日付けの拒絶理由通知に引用された引用例，及び，その記載内容は上記「第２ ３ （２）引用例」に記載したとおりである。 ４ 対比・判断 本願発明は，実質的に，本願補正発明１の「前記ノズル基板が，前記アクチュエータ基板における前記可動膜形成層とは反対側の表面に張り合わされたシリコン基板と，前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板とは反対側の表面に形成された酸化シリコン膜と，前記酸化シリコン膜における前記シリコン基板とは反対側の表面に形成された撥水膜とからなり，前記ノズル孔は，前記シリコン基板における前記アクチュエータ基板側の表面から前記シリコン基板の厚さ途中までの領域に形成され，前記圧力室に連通する円錐台状の凹部と，前記撥水膜における前記酸化シリコン膜とは反対側の表面から前記凹部の底部に連通するストレート状のインク吐出通路とを含む，」との限定を省くものである。 そうすると，本願発明と引用発明とを対比すると，上記「第２ ３ （３）対比」での検討を勘案すると，両者は，以下の一致点で一致し，以下の相違点で相違する。 ［一致点］ 「圧力室を含むインク流路を有するアクチュエータ基板と， 前記圧力室上に配置されかつ前記圧力室の天面部を区画する可動膜を含む可動膜形成層と， 前記可動膜上に形成された圧電素子と， 前記アクチュエータ基板の前記可動膜側の表面である第１表面とは反対側の第２表面に接着剤によって接合され，前記圧力室の底面部を区画し，前記圧力室に連通するノズル孔を有するノズル基板とを含み， 前記アクチュエータ基板の側面と前記ノズル基板の側面とが，前記可動膜の法線方向から見た平面視において全方位で面一である，インクジェットプリントヘッド。」 ［相違点１］ 本願発明の「インクジェットプリントヘッド」は，「アクチュエータ基板の側面と前記ノズル基板の側面とが，前記可動膜の法線方向から見た平面視において全方位で面一」であるのに対し，引用発明の「インクジェットヘッド５０」は，積層体を切断・分割して形成される分割後の小片であり，アクチュエータ基板５２の側面とノズルプレート５１の側面とが，駆動膜５３の法線方向から見た平面視において全方位で面一であるのか否か定かでない点。 そして，上記「第２ ３（４）」における検討を踏まえれば，本願発明は、引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。 ５ むすび 以上のとおりであるから，本願発明は，引用例に示された発明（引用発明）に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって，特許法第29条第2項の規定により，特許を受けることができないものである。 したがって，その余の請求項については検討するまでもなく，本願は，拒絶されるべきものである。 よって，結論のとおり審決する。 |
| 別掲 |
（行政事件訴訟法第４６条に基づく教示） この審決に対する訴えは、この審決の謄本の送達があった日から３０日（附加期間がある場合は、その日数を附加します。）以内に、特許庁長官を被告として、提起することができます。 |
| 審理終結日 | 2022-03-23 |
| 結審通知日 | 2022-03-24 |
| 審決日 | 2022-04-05 |
| 出願番号 | P2016-154903 |
| 審決分類 |
P
1
8・
575-
Z
(B41J)
P 1 8・ 56- Z (B41J) P 1 8・ 121- Z (B41J) P 1 8・ 55- Z (B41J) |
| 最終処分 | 02 不成立 |
| 特許庁審判長 |
吉村 尚 |
| 特許庁審判官 |
佐々木 創太郎 藤本 義仁 |
| 発明の名称 | インクジェットプリントヘッドおよびその製造方法 |
| 代理人 | 特許業務法人あい特許事務所 |