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審決分類 審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 取り消して特許、登録(定型) H01L
審判 査定不服 1項3号刊行物記載 取り消して特許、登録(定型) H01L
審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) H01L
管理番号 1408914
総通号数 28 
発行国 JP 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2024-04-26 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2023-06-06 
確定日 2024-04-16 
事件の表示 特願2021−123166「SiOC薄膜の形成」拒絶査定不服審判事件〔令和 3年12月 2日出願公開、特開2021−184478、請求項の数(11)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、平成29年 5月 8日(パリ条約による優先権主張 2016年 5月 6日 (US)アメリカ合衆国、2016年11月28日 (US)アメリカ合衆国)に出願した特願2017−092684号の一部を、令和 3年 7月28日に新たな特許出願としたものであって、その請求項1〜11に係る発明は、令和 6年 3月 4日提出の手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項1〜11に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由及び令和 6年 2月21日付けで当審において通知した拒絶理由を検討しても、その理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2024-04-03 
出願番号 P2021-123166
審決分類 P 1 8・ 113- WYF (H01L)
P 1 8・ 121- WYF (H01L)
P 1 8・ 537- WYF (H01L)
最終処分 01   成立
特許庁審判長 恩田 春香
特許庁審判官 松永 稔
棚田 一也
発明の名称 SiOC薄膜の形成  
代理人 小野寺 隆  

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