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現在の検索キーワード: 小川 将之

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2020/09/23 不服
2019 -5632 
ウェハ構造体の形成方法、半導体デバイスの形成方法およびウェハ構造体 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 上島 類 その他   インフィニオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2020/09/14 不服
2020 -1143 
結晶性半導体膜および板状体ならびに半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社FLOSFIA   原文 保存
該当なし  
2020/09/14 不服
2019 -9379 
二重並列チャネル構造を持つ半導体素子及びその半導体素子の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 木内 敬二 その他   三星電子株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/09/10 不服
2019 -4878 
下部固定SOT-MRAMビット構造及び製造の方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   エイチジーエスティーネザーランドビーブイ   原文 保存
該当なし  
2020/08/12 不服
2019 -16642 
研磨方法及び不純物除去用組成物並びに基板及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 山田 勇毅 その他   株式会社フジミインコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2020/08/12 不服
2019 -14704 
基板処理装置および半導体装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社KOKUSAI ELECTRIC   原文 保存
該当なし  
2020/08/03 不服
2019 -8671 
半導体装置および電力変換装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 吉竹 英俊   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/08/03 不服
2019 -14883 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社半導体エネルギー研究所   原文 保存
該当なし  
2020/07/08 不服
2019 -8259 
半導体ウエハをプラズマ・ダイシングするための方法及び装置 本件審判の請求は、成り立たない。   プラズマ - サーム、エルエルシー   原文 保存
該当なし  
2020/07/08 不服
2019 -7378 
接続体、及び接続体の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   デクセリアルズ株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/07/08 不服
2019 -13126 
半導体素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 久野 淑己 その他   三菱電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/07/02 不服
2019 -8115 
マイクロ発光ダイオードの転写方法、製造方法、マイクロ発光ダイオード装置、及び電子機器 原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。 加藤 和詳   ゴルテック.インク   原文 保存
該当なし  
2020/06/24 不服
2019 -2768 
基板上の三次元構造の層のNH3含有プラズマ窒化 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/06/24 不服
2018 -16020 
銅の化学的機械的平坦化後のための水性清浄化組成物 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 三橋 真二 その他   キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション   原文 保存
該当なし  
2020/06/17 不服
2019 -12831 
光電変換装置、撮像システムおよび光電変換装置の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 黒岩 創吾   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/06/16 不服
2019 -9337 
半導体膜、及びそれを用いた半導体素子 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 青木 宏義 その他   旭化成株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/06/16 不服
2018 -14186 
スタック型3Dメモリ、およびメモリ製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   旺宏電子股▲ふん▼有限公司   原文 保存
該当なし  
2020/06/16 不服
2019 -10524 
半導体素子の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 前川 純一 その他   インフィネオン テクノロジーズ オーストリア アクチエンゲゼルシャフト   原文 保存
該当なし  
2020/06/08 不服
2019 -11053 
SNS型ジョセフソン接合素子の製造方法及びSNS型ジョセフソン接合素子製造装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 長谷川 芳樹 その他   住友重機械工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/06/03 不服
2019 -9024 
技術スケーリングのためのMRAM統合技法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 村山 靖彦   クアルコム,インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/05/28 不服
2019 -2829 
窒化チタンを選択的にエッチングするための組成物及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   インテグリス・インコーポレーテッド   原文 保存
該当なし  
2020/05/21 異議
2020 -700017 
半導体装置 特許第6544264号の請求項1ないし7に係る特許を維持する。 堀 城之     原文 保存
該当なし  
2020/05/20 不服
2019 -9664 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/05/07 不服
2019 -8119 
エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法及びエピタキシャルシリコンウェーハ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 山口 雄輔 その他   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2020/04/28 不服
2018 -17452 
半導体素子、スパッタリングターゲット材及び半導体装置 本件審判の請求は、成り立たない。 服部 毅巖   富士電機株式会社 日本軽金属株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/04/27 不服
2019 -7476 
積層拡散障壁及び関連デバイス及び方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   インテル・コーポレーション   原文 保存
該当なし  
2020/04/24 不服
2019 -3381 
半導体装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   富士電機株式会社   原文 保存
該当なし  
2020/04/06 不服
2019 -5260 
半導体基板の評価方法及び半導体基板の製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社SUMCO   原文 保存
該当なし  
2020/03/24 不服
2019 -3173 
半導体処理チャンバーのための銀リフレクタ 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド   原文 保存
該当なし  
2020/03/19 不服
2019 -3360 
半導体装置および半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   キオクシア株式会社   原文 保存
該当なし  

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