審決年月日 |
審判番号 |
発明・考案の名称 |
結論 |
代理人 |
請求人 |
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2017/06/27
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不服 2015
-17058
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不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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ルネサスエレクトロニクス株式会社
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原文
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該当なし
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2017/06/27
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不服 2016
-6595
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狭い銅充填ビアの導電率を向上させるための方法及び構造体
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本件審判の請求は,成り立たない。
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太佐 種一
その他
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インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/22
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不服 2016
-6448
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GaNベース半導体結晶成長用多結晶窒化アルミニウム基材およびそれを用いたGaNベース半導体の製造方法
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本件審判の請求は,成り立たない。
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中村 行孝
その他
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東芝マテリアル株式会社
株式会社東芝
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/19
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不服 2015
-21775
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トリゲート・デバイス及び製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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伊東 忠彦
その他
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インテル コーポレイション
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/19
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不服 2016
-4723
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半導体装置の製造方法及びこれを用いて製造されてなる半導体装置
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本件審判の請求は,成り立たない。
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清水 義憲
その他
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日立化成株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/19
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不服 2015
-15665
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圧電デバイス、および圧電デバイスの製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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中島 淳
その他
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株式会社村田製作所
三井化学株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/19
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不服 2016
-10204
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半導体装置の製造方法、及び、半導体装置
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本件審判の請求は、成り立たない。
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須田 洋之
その他
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ユニサンティス エレクトロニクス シンガポール プライベート リミテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/19
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不服 2016
-13131
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エピタキシャルウェーハの製造方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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好宮 幹夫
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信越半導体株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/12
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不服 2016
-11068
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高圧高温焼結による熱電性能指数(ZT)の影響
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本件審判の請求は,成り立たない。
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ダイヤモンド イノヴェーションズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/12
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不服 2016
-11372
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量子ドット半導体材料の製造装置及び製造方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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蘇州大学
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/12
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不服 2016
-15432
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不純物拡散層形成組成物、不純物拡散層の製造方法、太陽電池素子の製造方法、及び太陽電池
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本件審判の請求は,成り立たない。
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日立化成株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/05
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不服 2016
-8085
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電子部品及び電子機器
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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富士通株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/05
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不服 2015
-14981
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圧電配向焼結体セラミックスおよび圧電アクチュエータ
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本件審判の請求は,成り立たない。
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岡田 全啓
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国立研究開発法人物質・材料研究機構
株式会社村田製作所
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/05
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不服 2016
-14807
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化学気相成長法による低温での誘電体膜の作製
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本件審判の請求は,成り立たない。
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伊東 忠彦
その他
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東京エレクトロン株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/06/01
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異議 2017
-700359
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トランジスタ及びその形成方法
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特許第6005147号の請求項1ないし4,17,18,及び22ないし24に係る特許を……
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佐貫 伸一
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原文
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保存
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該当なし
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2017/05/30
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不服 2016
-13724
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半導体装置及び半導体装置の製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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内藤 和彦
その他
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トランスフォーム・ジャパン株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/05/29
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不服 2016
-10872
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多結晶シリコン製造方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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上海和輝光電有限公司
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原文
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保存
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該当なし
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2017/05/29
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不服 2016
-1465
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電子部品用接合材
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本件審判の請求は,成り立たない。
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積水化学工業株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/05/09
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不服 2016
-9751
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半導体素子及びその製造方法、並びに結晶積層構造体
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本件審判の請求は、成り立たない。
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伊藤 浩行
その他
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国立研究開発法人情報通信研究機構
株式会社タムラ製作所
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原文
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保存
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該当なし
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2017/05/09
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不服 2016
-13665
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高度なパターン形成に必要な小型フィーチャのパターン形成プロセス
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本件審判の請求は,成り立たない。
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伊東 秀明
その他
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ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー.
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原文
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保存
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該当なし
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2017/05/09
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不服 2016
-4207
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エッチングマスク付基材の製造方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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株式会社シンク・ラボラトリー
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原文
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保存
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該当なし
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2017/04/25
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異議 2017
-700107
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半導体装置実装用ペースト
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特許第5975589号の請求項1ないし6に係る特許を維持する。
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原文
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保存
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該当なし
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2017/04/24
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不服 2015
-11047
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BSIイメージセンサー用の半導体装置とその形成方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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田澤 英昭
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台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司
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原文
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保存
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該当なし
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2017/04/24
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不服 2015
-13862
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半導体装置実装用ペ-スト
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本件審判の請求は,成り立たない。
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日揮触媒化成株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/04/24
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不服 2016
-2843
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成膜方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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伊東 忠彦
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東京エレクトロン株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/04/17
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不服 2015
-20287
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磁気トンネル接合デバイスおよびその製造
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本件審判の請求は、成り立たない。
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村山 靖彦
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クアルコム,インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2017/04/17
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不服 2015
-19763
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画像センサ及び画像センサから読み出しを行う方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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本田 淳
その他
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インヴィサージ テクノロジーズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2017/04/17
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不服 2015
-21790
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はんだ上での酸化物の生成を抑制する方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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大貫 進介
その他
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レイセオン カンパニー
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原文
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保存
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該当なし
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2017/04/17
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不服 2015
-8828
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複数の独立したシリアルリンクメモリ
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本件審判の請求は、成り立たない。
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鷲頭 光宏
その他
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コンバーサント・インテレクチュアル・プロパティ・マネジメント・インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2017/04/12
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異議 2015
-700306
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半導体装置及びその製造方法
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特許第5802231号の明細書,特許請求の範囲を訂正請求書に添付され……
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小崎 純一
その他
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原文
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保存
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該当なし
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