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現在の検索キーワード: 新井 重雄

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審決年月日 審判番号 発明・考案の名称 結論 代理人 請求人    
2021/08/19 異議
2021 -700408 
操作表示パネル組込物品 特許第6775851号の請求項1?19に係る特許を維持する。     原文 保存
該当なし  
2020/06/01 不服
2019 -11556 
位相シフトマスクおよびその製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   大日本印刷株式会社   原文 保存
該当なし  
2016/02/22 不服
2014 -25862 
導電パターン形成方法及び導電パターン形成装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 廣田 浩一   富士通株式会社 富士通コンポーネント株式会社   原文 保存
該当なし  
2014/04/04 不服
2012 -26054 
フォトレジスト・マスキング方法 本件審判の請求は、成り立たない。 実広 信哉 その他   北京京東方光電科技有限公司   原文 保存
該当なし  
2014/01/07 不服
2013 -6060 
基板カバー、荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 本件審判の請求は、成り立たない。 池上 徹真 その他   株式会社ニューフレアテクノロジー   原文 保存
該当なし  
2013/03/06 不服
2012 -14222 
露光方法及び装置、照明光学装置、並びにデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 池田 正人 その他   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2012/12/14 不服
2011 -26500 
光学特性計測装置及び光学特性計測方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2012/04/23 無効
2011 -800122 
集光光学系、光源ユニット、照明光学装置および露光装置 訂正を認める。 本件審判の請求は、成り立たない。 審判費用は…… 城戸 博兒 その他   カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー   原文 保存
該当なし  
2012/01/30 不服
2010 -17162 
フォトマスクおよび半導体装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。 有田 貴弘   ルネサスエレクトロニクス株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/10/17 不服
2010 -13354 
露光装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 稲葉 良幸   セイコーエプソン株式会社   原文 保存
該当なし  
2011/10/03 不服
2009 -22281 
リソグラフィ方法 本件審判の請求は、成り立たない。 林 信之   独立行政法人科学技術振興機構   原文 保存
該当なし  
2011/05/12 不服
2009 -24034 
電子ビーム露光装置用ステージ装置、位置決め方法、電子ビーム露光装置及びデバイス製造方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 大塚 康弘 その他   キヤノン株式会社 株式会社日立ハイテクノロジーズ   原文 保存
該当なし  
2011/04/26 無効
2008 -800005 
基板処理装置及び基板処理方法並びに基板の製造方法 特許第3966884号の請求項1ないし6に係る発明についての特許を無効…… 伊東 忠彦 その他   東京エレクトロン 株式会社   原文 保存
 冒認  分割出願(出願分割)  技術的範囲  
2011/01/25 不服
2009 -9289 
アライメント方法及びアライメント装置 本件審判の請求は、成り立たない。   富士通セミコンダクター株式会社   原文 保存
該当なし  
2010/06/15 不服
2008 -28117 
レジスト剥離方法 本件審判の請求は、成り立たない。 皆川 祐一 その他   大日本スクリーン製造株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/12/01 不服
2007 -29406 
検出組立体および該検出組立体を備えたリソグラフィ投影装置 本件審判の請求は、成り立たない。 稲葉 良幸 その他   エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.   原文 保存
該当なし  
2009/07/23 不服
2007 -3779 
アモルファスSiCからなるX線リソグラフィー用マスクメンブレン及びその製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   信越化学工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2009/06/30 不服
2007 -33518 
半導体集積回路装置の製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ルネサステクノロジ   原文 保存
該当なし  
2009/03/30 不服
2007 -24336 
スケーリング補正機能を持つレーザ描画装置 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社オーク製作所   原文 保存
 進歩性(29条2項)  
2008/11/14 不服
2008 -2470 
現像装置および現像方法 本件審判の請求は、成り立たない。   大日本スクリーン製造株式会社   原文 保存
該当なし  
2008/10/14 無効
2008 -800006 
基板処理装置及び基板処理方法並びに基板の製造方法 特許第4005609号の請求項1ないし14に係る発明についての特許を無…… 舟橋 定之 その他   東京エレクトロン 株式会社   原文 保存
 分割出願(出願分割)  技術的範囲  冒認  
2008/04/11 不服
2006 -24796 
走査型露光装置 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2006/10/18 不服
2005 -6531 
露光装置波長管理装置および波長管理方法 本件審判の請求は、成り立たない。 鈴木 弘一   宮崎沖電気株式会社 沖電気工業株式会社   原文 保存
該当なし  
2006/07/11 不服
2004 -22487 
投影露光装置及び投影露光方法 本件審判の請求は、成り立たない。 安村 高明 その他   シャープ株式会社   原文 保存
該当なし  
2006/03/01 不服
2004 -5752 
測定システム用基準フレームを有する位置決め装置 本件審判の請求は、成り立たない。 吉田 裕 その他   エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ   原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  
2006/01/23 不服
2003 -8561 
塗布方法、ならびにフォトマスクの製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   株式会社ルネサステクノロジ   原文 保存
該当なし  
2005/10/18 不服
2003 -3308 
制御装置、露光装置、およびデバイス製造方法 本件審判の請求は、成り立たない。   キヤノン株式会社   原文 保存
該当なし  
2005/09/29 不服
2003 -7576 
露光装置および露光方法 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。   株式会社ニコン   原文 保存
該当なし  
2005/07/14 異議
2003 -72156 
投影露光装置 訂正を認める。 特許第3380868号の請求項1、2に係る特許を維持す…… 作田 康夫 その他     原文 保存
 29条の2(拡大された先願の地位)  
2005/05/24 不服
2003 -6734 
基板の回転塗布方法及び基板の回転塗布装置 本件審判の請求は、成り立たない。   ソニー株式会社   原文 保存
該当なし  

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