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審決分類 審判 査定不服 2項進歩性 取り消して特許、登録(定型) C23C
審判 査定不服 特36条6項1、2号及び3号 請求の範囲の記載不備 取り消して特許、登録(定型) C23C
審判 査定不服 特36条4項詳細な説明の記載不備 取り消して特許、登録(定型) C23C
管理番号 1350117
審判番号 不服2018-385  
総通号数 233 
発行国 日本国特許庁(JP) 
公報種別 特許審決公報 
発行日 2019-05-31 
種別 拒絶査定不服の審決 
審判請求日 2018-01-12 
確定日 2019-04-09 
事件の表示 特願2015-540617「シリコン含有薄膜の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成26年 5月15日国際公開、WO2014/073892、平成28年 1月14日国内公表、特表2016-500762、請求項の数(6)〕について、次のとおり審決する。 
結論 原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。 
理由 本願は、2013年(平成25年)11月 7日(パリ条約による優先権主張外国庁受理 2012年11月 7日 (KR)大韓民国 2013年 3月28日 (KR)大韓民国 2013年 6月27日 (KR)大韓民国 2013年11月 7日 (KR)大韓民国)を国際出願日とする出願であって、その請求項1?6に係る発明は、平成31年 2月 5日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項1?6に記載された事項により特定されるとおりのものであると認める。
そして、本願については、原査定の拒絶理由及び当審から通知された拒絶理由のいずれを検討してもその理由によって拒絶すべきものとすることはできない。
また、他に本願を拒絶すべき理由を発見しない。
よって、結論のとおり審決する。
 
審決日 2019-03-27 
出願番号 特願2015-540617(P2015-540617)
審決分類 P 1 8・ 537- WYF (C23C)
P 1 8・ 121- WYF (C23C)
P 1 8・ 536- WYF (C23C)
最終処分 成立  
前審関与審査官 宮崎 園子  
特許庁審判長 大橋 賢一
特許庁審判官 宮澤 尚之
小川 進
発明の名称 シリコン含有薄膜の製造方法  
代理人 特許業務法人YKI国際特許事務所  

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