| 審決年月日 |
審判番号 |
発明・考案の名称 |
結論 |
代理人 |
請求人 |
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2018/04/19
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不服
2017
-1769
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ドラム式洗濯機
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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日立アプライアンス株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2018/01/24
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訂正
2017
-390123
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レーザ加工方法
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特許第3670267号の特許請求の範囲を本件審判請求書に添付された……
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寺澤 正太郎
その他
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浜松ホトニクス 株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2017/12/19
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異議
2016
-700933
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極低温冷却装置及び方法
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特許第5895328号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正……
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倉澤 伊知郎
その他
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原文
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保存
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該当なし
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2017/12/01
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不服
2016
-10260
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飲料製造器用の分配ヘッド
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原査定を取り消す。 本願の発明は,特許すべきものとする。
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渡邊 喜平
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ピーアイ デザイン アーゲー
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原文
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保存
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該当なし
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2017/11/01
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異議
2016
-700896
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液体ストレージ部分を有する電気加熱式喫煙システム
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特許第5889941号の訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲の……
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西島 孝喜
その他
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原文
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保存
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該当なし
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2013/06/21
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無効
2007
-800172
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ケミカルメカニカルポリシングの操作をインシチュウでモニタするための装置及び方法
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訂正を認める。 特許第3431115号の請求項9、18、19、20、24、25、27、……
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林 孝吉
その他
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株式会社 東京精密
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原文
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保存
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該当なし
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2011/10/21
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訂正
2011
-390106
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ケミカルメカニカルポリシングの操作をインシチュウでモニタするための装置及び方法
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本件審判の請求を却下する。
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古城 春実
その他
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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原文
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保存
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該当なし
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2009/08/26
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不服
2007
-10990
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化学機械的研磨系
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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古賀 哲次
その他
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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原文
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保存
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パリ条約
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2009/02/02
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不服
2007
-3173
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半導体ウェーハポリシング装置用のウェーハホルダ
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本件審判の請求は、成り立たない。
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小川 信夫
その他
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ラム リサーチ コーポレイション
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原文
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保存
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該当なし
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2008/07/31
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不服
2006
-4124
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停止化合物を伴う研磨系及びその使用方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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石田 敬
その他
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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原文
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保存
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パリ条約
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2008/06/19
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不服
2006
-6789
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ラップアラウンド・フランジ界面用の接触処理を用いる半導体製造
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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黒川 弘朗
その他
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チップスケール・インコーポレーテッド
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原文
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保存
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パリ条約
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2008/04/25
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不服
2006
-11761
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半導体装置の製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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橋本 良郎
その他
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株式会社東芝
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原文
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保存
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該当なし
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2008/04/23
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不服
2005
-3689
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ウェーハ・ノッチ研磨機およびウェーハの配向ノッチ研磨方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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吉田 裕
その他
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アクレーテク ユーエスエー、インコーポレイテッド
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原文
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保存
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パリ条約
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2008/04/07
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不服
2006
-6783
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化学機械的研磨系及びその使用方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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石田 敬
その他
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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原文
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保存
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パリ条約
29条の2(拡大された先願の地位)
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2007/12/14
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不服
2006
-11323
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被加工物から基板を切り離す方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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アインゼル・フェリックス=ラインハルト
その他
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ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
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原文
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保存
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パリ条約
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2007/11/28
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不服
2006
-16719
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半導体装置の製造方法および半導体の製造装置
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本件審判の請求は、成り立たない。
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松下電器産業株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2007/11/19
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不服
2006
-6846
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半導体装置の製造装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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三星電子株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2007/10/24
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不服
2004
-1812
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万能排出工具
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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村社 厚夫
その他
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ボブスト ソシエテ アノニム
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原文
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保存
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該当なし
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2007/10/16
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不服
2005
-7099
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鏡面面取りウェーハ、鏡面面取り用研磨クロス、及び鏡面面取り研磨装置及び方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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信越半導体株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2007/10/03
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不服
2006
-10800
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半導体装置および半導体装置の製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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永野 大介
その他
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松下電器産業株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2007/07/24
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不服
2004
-7890
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固定研摩パッドを用いたタングステン化学機械研摩方法及び固定研摩パッドを用いた化学機械研摩のためのタングステン層化学機械研摩溶液
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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廣江 武典
その他
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マイクロン テクノロジー, インク.
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原文
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保存
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パリ条約
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2007/07/17
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不服
2005
-21667
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ガラス板の穿孔装置
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本件審判の請求は、成り立たない。
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坂東機工株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2007/06/28
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不服
2006
-273
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半導体ウェーハを同時に両面で材料除去加工するための方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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ラインハルト・アインゼル
その他
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ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
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原文
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保存
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パリ条約
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2007/06/14
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不服
2005
-7554
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半導体装置およびその製造方法
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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ローム株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2007/06/06
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不服
2005
-19334
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モニタ装置及び研磨装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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株式会社ニコン
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原文
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保存
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該当なし
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2007/05/21
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不服
2004
-20524
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半導体ウェーハの両面研摩方法及び該方法を実施するためのキャリア
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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山崎 利臣
その他
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ジルトロニック アクチエンゲゼルシャフト
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原文
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保存
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パリ条約
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2007/04/27
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不服
2005
-12654
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流体軸受を有する半導体ウェーハポリシング装置
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本件審判の請求は、成り立たない。
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小川 信夫
その他
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ラム リサーチ コーポレイション
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原文
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保存
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該当なし
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2007/04/25
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不服
2006
-2179
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半導体ウエーハの加工方法及びプラズマエッチング装置
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本件審判の請求は、成り立たない。
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信越半導体株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2007/04/18
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不服
2005
-22020
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ダイシングシート機能付き半導体用接着フィルム、それを用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置
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原査定を取り消す。 本願の発明は、特許すべきものとする。
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住友ベークライト株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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2007/04/05
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不服
2005
-7231
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ダイシングテープからのチップ剥離方法
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本件審判の請求は、成り立たない。
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日本電波工業株式会社
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原文
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保存
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該当なし
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